1. 建模任务
,
0X J|#% 1.1
模拟条件
wvisu\V 模拟区域:0~10
O0r vr$. 边界条件:Periodic
_~tF2`,Y_p 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
5{+>3J 单位长度:0.5
-4Dz98du
wbr$w>n UxB3/!<5g3 1.2堆栈
结构 ^GYVRD 4`o0?_.' 2. 建模过程 ze9n}oN 2.1设置模拟条件
x ]}'H
lxZ9y V/DMkO#a 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 4gEw}WiP P()n=&XO6 .PT7 2.3创建掩膜并生成多畴结构
y+$vHnS/jC @\gE{;a8 3. 结果分析 Ivcy=W=Jk 3.1 指向矢分布和透过率
=d@)*W 6 jR:\D_: <2kv/ 3.2所有畴的V-T曲线
^vV AuO 0H%zkJ>Q D|$0~1y 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
!Q_Kil.9