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-T!f,g3vW PEN \-*Pv 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
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|e,05aM 9K /HO!z 元件内部场分析仪：FMM H!vax)%-\ ,9?Bc D1 k[0- CB 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
kTKq/G,Ft #1J &7F1 评估模式的选择 WJ)z6m] [vg e56h A+HF@Uw}^ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
R5 "K]~ %lL.[ 8r| 评价区域的选择 ODZ5IO}v JROM_ >mC 
g$n7CXoT *?o{9v5}( 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
F8hw #!Aq 4B=2>k 不同光栅结构的场分布 W egtyO !GOM5z, 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
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Py 光栅结构的采样 Z.d 7U~_ tc_ 286'x 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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.e3NnOzyxS >Wh}f3C 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
@| LBn6q El<]b7 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
R,)}>X|< 1[kMOp ?P4w]a 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） YiYV>gaf"H ]'5;|xc9$/ OQ8 bI=?[x 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
Fd ?"- g wz7krUTe 输出数据的采样：二维周期光栅 ]"+95 *B CQZ gMY1{ 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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