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%KR2 Vlh0 Bey9P)_Of 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
C0&ZQvvy1: X$_z"t 元件内部场分析仪：FMM =3GgfU5 k Xzqx 8Kd fhro"5/4 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
?%b#FXA gc W' 评估模式的选择 [`1@`5SL- mD,fxm{G xBE}/F$ 45 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
1:q`KkJx 5$*=;ls>J 评价区域的选择 Z5"5Ge-M -LlS 9[r 0 
3WPZZN<K9 X/ /=OpS` 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
<Q_E3lQy/ c(s: f@ 1 不同光栅结构的场分布 H9[0-Ur5 zo1 fUsK? 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
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yRUw } ;d= >Xxi2V y 光栅结构的采样 IJLuu@kRm, -C TLQyj) 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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b\U E+\a& xr31< 4B 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
R'^J#" [ $kxu- 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
$@~s O0q ,]tMZ?n8 ?:+p#&I 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） GGsAisF"N =TA8]7S~U 6U1_Wk ? 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
)c<[@ ::i &_'3(xIO 输出数据的采样：二维周期光栅 * 1 *i5c z -'e<v;w 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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