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    [技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-11-19
    摘要 O^~IY/[  
    jI\@<6O  
    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 k^%=\c  
    akyMW7'3V<  
    L/:l>Ko>7  
    g0zzDv7~  
    建模任务 vz4( k/  
    >M2~p& Si  
    5m~9Vl-&  
    概述 ;"Gy5  
    *`+zf7-f  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 G"F O%3&|  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 G7&TMg7i  
    ,A`|jF  
    aDRcVA$*  
    mh}D[K=~%  
    光线追迹仿真 } KyoMs  
    Nksm&{=6S  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 %htI!b+"@  
    •单击go! 4O-LLH  
    •获得了3D光线追迹结果。 Ps@']]4>W  
    DehjV6t  
    Un K7&Uo  
    LnE/62){N  
    光线追迹仿真 [+D]!&P  
    p48enH8CO  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 [>v1JN  
    •单击go! Im~DK  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 GrG'G(NQ  
    i5TGK#3o  
    c~(61Sn]  
    w|&lRo@1  
    场追迹仿真 hYzP6?K"  
    .*` ^dt  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 x,mt}>  
    •单击go! gNW+Dq|X%  
    d?X,od6  
    tsg`c;{  
    ;'{7wr|9  
    场追迹仿真(相机探测器) 5.VPK 338A  
    W2X`%Tx0  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ~b]enG5xS4  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 oVK:A;3T|  
    7vZO;FGtG  
    Dazm8_x  
    ;w. la  
    场追迹仿真(电磁场探测器) =.8n K y  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 f%EHzm/V  
    Chnt)N`/B4  
    Dc0=gq0  
    ) Z3KO  
    场追迹仿真(电磁场探测器) }T$BU>z33N  
    D'!JV1Q  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 r =x"E$  
    LujLC&S  
    :dW\Q&iW  
    PMTrG78p*  
     
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