主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: c9u`!'g`i • 定义MMI耦合器的材料; ~IBP|)WA- • 定义布局设定; XJ|
<? • 创建一个MMI耦合器; @,7GaK\ • 插入输入面; #a,PZDaE • 运行模拟; k(G^z • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 f+)L#>Gl? L48_96 1. 定义MMI耦合器的材料 xr Jg\to{i 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作: !``,gExH 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ {Gk1vcq {]@= ijjf 图1.初始性能对话框
e 2oa($9 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” "&?kC2Y| >jLY" 图2.轮廓设计窗口
$Sip$\+* 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 Z0", !6nS
DA,?} p%=u#QNi 图3.电介质材料创建窗口
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<nF^ 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: Jk
n>S#SZ − Name : Guide 4!yzsPJL − Refractive Index (Re) : 3.3 ={&j07,*a − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 wc4{)qDE Kn;"R: 图4.创建Guide材料
3;{kJQ 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: bwMm#f
− Name : Cladding ;$wVu|& − Refractive Index (Re) : 3.27 m&,(Jla − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 Z=o2H Bm7 z$. 88^ 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 u `6:5k
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: ?GR"FmB( − Name : Guide_Channel =X:Y,? − 2D profile definition: Guide xY(*.T9K − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 0GCEqQy8 xfe+n$~ c 图6.构建通道
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