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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 TOB-aAO  
    { M4gF8(M  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 |P HT694Uz  
    OUPUixz2Z  
    >=I|xY,  
    场景 _ @NL;w:!  
    ArI2wM/v  
     ]___M  
    jUYWrYJ  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 'j8:vq^d  
    <e=#F-DE  
    系统构建块     C\Wmq [  
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     #C74z$  
    YW,tCtI0_  
    组件求解器 vAF "n  
    Q^9_' t}X  
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    H7&8\ FNa  
    0y'H~(  
    系统构建块 \R9(x]nZ%  
    Y1W1=Uc uk  
     {yTGAf-DV  
    +aCv&sg  
    总结 .GP T!lDc  
    b5dD/-Vj  
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    FBe;1OU  
    几何光学仿真 "yy5F>0Wt  
    通过光线追迹 ;C9_?u~#  
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    结果：光线追迹 }#RakV4  
     twHVv  
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    快速物理光学仿真 e{'BAj  
    通过场追迹 [B*x-R[FI  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Z!a =dnwHz  
    !I{0 _b{  
     b4%??"&<Y  
    U/66L+1  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 64 wv<r]5j  
    g]l'' 7G  
     hlvK5Z   
    +5g_KS  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @muRxi  
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    q5J5>  
    Y!aSs3c  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 <[a=ceL]|  
    DD+7V@  
     G/y5H;<9M  
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    总结 0I-9nuw,^;  
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    '6nA F  
     
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