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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 6fw7\u  
    &OJ?Za@p@)  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 d-b<_k{p  
    1Du5Z9AM  
    K6-)l isf  
    场景 tf6-DmMH  
    \)5mO 8w  
     C)c*s C5N  
    7vXP|8j  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 ^~N:lW#=  
    H ~3.F  
    系统构建块     L{VnsY V  
    qqo#H O  
     $gnrd~v4e  
    z2{y<a9;?  
    组件求解器 SW%}S*h  
    kSiyMDY-  
    $1B?@~&  
    md<^x(h"<  
    x%`YV):*  
    :l"B NT[/  
    系统构建块 vE,^K6q0`  
    0^tY|(b3/M  
     .`~?w+ ~  
    cY5;~lO  
    总结 k62s|VeU  
    eI"pRH*f  
    p*5_+u  
    pYzop4  
    几何光学仿真 N$Ad9W?T  
    通过光线追迹 "P?O1  
     T16gq-h'  
    结果：光线追迹 X+sKG5nS  
    UapU:>!"`  
     ECA<%'$?E  
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    快速物理光学仿真 ]B;`Jf  
    通过场追迹 OU.}H $x"  
     ?7V~>i8[  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 hDTC~~J/  
    x#3*C|A  
     #<==7X#  
    ,x1OQ jtY  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 UFT JobU  
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     9tv,,I;iU  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 'u x!:b"  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 }\S'oC\[  
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     Uc:NW   
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    总结 j24 3oD  
    r!f UMDS  
    vVSDPlN;  
     
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