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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 ?  BE6  
    v 0kqu  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 Ik[s  
    Ht-t1q  
    :mS# h@l  
    场景 TeWMp6u,r  
    Hzhceeh_+  
    fsEzpUY:{W  
    A 5+rd{k/  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 =fYL}m5E  
    hx f'5uc  
    系统构建块
    shH~4<15  
    O4g+D#Lu  
    Bcjx>#3?L  
    78Aa|AJU  
    组件求解器 s%!`kWVJ.  
    %&Fk4Z}M  
    "&/]@)TPz  
    $%%os6y2v  
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    0}:2Q#  
    系统构建块 { K _kPgKS  
    Cv*x2KF G  
    QeDQ o  
    NB7Y{) w  
    总结 M@(^AK{mU  
    9M /SH$Qy  
    >;#=gM  
    z*a8sr  
    几何光学仿真 9~0^PzTA  
    通过光线追迹 JI/_ce  
    a6h>=uT [  
    结果:光线追迹 IF +i3#$  
    ^Q{Bq  
    #"ftI7=42  
    kJAn4I.l  
    快速物理光学仿真 X]y )ZF26  
    通过场追迹 d$Y7u  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 m,R Dr  
    IhiGP {  
    @[6,6:h|  
    u0RS)&  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 &6j<ca  
    fRvAKz|rL  
    *<'M!iRC  
    P(SZ68  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 W><dYy=z5  
    j+8TlVur  
    3p*-tBOO  
    -z:&*=  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;XC@ =RpX  
    Y e+Ay  
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    总结 _0pO8o-x  
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