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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 )!e-5O49r  
    rW&8#&  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 % )?$82=2  
    ^+Ec}+ Q  
    =0MW+-  
    场景 #p6#,PZ  
    wYOSaGyZ0I  
    8lT.2H  
    IH'DCY:  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 YSs9BF:a  
    =uIu0_v  
    系统构建块
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    2_R' Kl![  
    w<tr<Pu'  
    yv[ s)c}  
    组件求解器 vn KKK.E  
    k#w[G L|T  
    ,ZC^,Vq  
    Lg sQz(-  
    Wu,'S;>C  
    ZS4lb=)G  
    系统构建块 Yq $(Ex  
    wMT?p/9Blm  
    oZA?}#DRl  
    i o 3qG6  
    总结 }2|>Y[v2j  
    ezY _7  
    +q|2j>k@  
    CY <,p$  
    几何光学仿真 Q!(C$&f  
    通过光线追迹 .u>IjK^  
    a#nVRPU8m  
    结果:光线追迹 <9@I5 0;  
    `u 3to{  
    +3(1QgYM%  
    H B_si  
    快速物理光学仿真 I;S[Ft8d  
    通过场追迹 tq8B)<(]  
    $21+6  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 X@*$3z#Z  
    /o*r[g7<  
    >t<FG2  
    loZJV M  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 35%'HFt_  
     !NUsfd  
    L 5J=+k,  
    Hc ]/0:  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ]!E|5=q  
    l4I@6@  
    )c b e 4  
    -n?}L#4%8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方  (f,D$mX  
    k-@CcrepF  
    Uvgv<OR`_  
    6kK\nZ$o$  
    总结 Z$ {I 4a  
    .cdm@_Ls  
    oe}nrkmb  
     
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