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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 l#(g&x6J  
    Yv`1ySR  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 qm&53  
    XajY'+DIsz  
    1oVDOo  
    场景 ki/Lf4  
    N`mC_)  
    b|pNc'u:Cn  
    .dq.F#2B;  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 IU"!oM^  
    (h(ZL9!  
    系统构建块
    7}HA_@[  
    @RG3*3(  
    jC }u>AB  
    Y&:\s8C  
    组件求解器 U";Rp&\3;  
    PYRwcJ$b\d  
    4xC6#:8  
    gQzF C&g  
    9bYHb'70  
    G37L 9IG-M  
    系统构建块 Dl!'_u  
    OaVL NA^{  
    'aSORVq^e[  
    J+Y|# U  
    总结 iO#xIl<  
    lu(Omds+  
    I,q~*d  
    e}@J?tJK.L  
    几何光学仿真 =$`")3y3  
    通过光线追迹 6I'V XdeN  
    mi3q1npb7[  
    结果:光线追迹 ntUVhIE0  
    TuPxyB  
    = ~R3*GN  
    (?=(eo<N  
    快速物理光学仿真 Z-=7QK.\{  
    通过场追迹  6}ewBAq%  
    |[t=.dK%  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 R}YryzV5  
    zL=I-fVq  
    JQv ZTwSI  
    1;sAt;/W8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 j7%%/%$o[  
    IBHG1<3  
    nK; rEL  
    K*D]\/;^  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 :)S4MoG  
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    Y\2>y"8>$x  
    lP &%5y;  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 $e,!fB;B  
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    总结 um4zLsd#v  
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