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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-15
    摘要 ^=RffrlZU  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 WaVtfg$!  
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    CF&6J$ZBgJ  
    场景 vY${;#~|  
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    在VirtualLab Fusion中构建系统 GT}F9F~  
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    系统构建块     52 fA/sx  
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     T92UeG  
    #LL?IRH9^  
    组件求解器 Mc09ES  
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    Bm.:^:&k  
    系统构建块 K9$>Yxe|  
    P"y`A}Bx  
     %C~1^9uq  
    e;Ti&o}  
    总结 Y;@>b{s  
    F)&@P-9+  
    (@<lRA ^  
    5!DBmAB  
    几何光学仿真 :km61  
    通过光线追迹 R?~Yp?B^  
     %k-3?%&8  
    结果：光线追迹 B_nVP  
    6*B19+-  
     WQ[_hg|k  
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    快速物理光学仿真 }!"A!~&  
    通过场追迹 -8:&>~4`  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Cjqklb/  
    DoJ\ q+  
     F(k.,0Nc  
    S1p;nK  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4 N H  
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     S M0~fAtE  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #!aN{nK0  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 i]Fp..`v~  
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    总结 [Sr,h0h6  
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