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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-15
    摘要 Pu/X_D-#Gi  
    L c4\i  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 M"# >?6{  
    {=mf/3.r  
    ln4gkm<]t  
    场景 P`r@<cgb=  
    Xi"+{6  
    +g/TDwyVH  
    }dcXuX4{r  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 c1 aCN  
    xPMTmx?2  
    系统构建块
    7|Z=#3INw  
    7^1yZ1(  
    ?pSb,kN}'  
    kS_oj  
    组件求解器 ffyDi1Q  
    2kMBe%  
    `! ~~Wf'  
    6{Y3-Pxg  
    ,@I_b  
    {l/j?1Dxq  
    系统构建块 -M=#U\D  
    C>l{_J)n  
    PP/EZ^]b  
    R>Q&Ax  
    总结 =AEl:SY+  
    >f)/z$ qn  
    <X@XbM  
    7G6XK   
    几何光学仿真 i,#j@R@.C7  
    通过光线追迹 yTt,/+I%gJ  
    P`z#tDT^"  
    结果:光线追迹 D*7JE  
    +5:Dy,F =  
    (41BUX  
    B$ty`/{w,B  
    快速物理光学仿真 +=.>9  
    通过场追迹 UqVcN$^b  
    w=e_@^Fkx  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )9F o  
    FXLY*eRk  
    pF0sXvWGG  
    x? 10^~R  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 7kiZFHV  
    !4;A"B(  
    hM_0/o-  
    QuB`}rfLf  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 5(9SIj^O  
    kSL7WQe?j  
    kHWW\?O  
    FYOQ}N  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 4o/}KUu(*  
    IBP3  
    tO?NbWcp  
    8x)&4o@  
    总结 hk5[ N=  
    /#<R  
    +,;"?j6<p  
     
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