切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 355阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6922
    光币
    28760
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-10
    摘要 op!ft/Yyb  
     ,[gu7z^|  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 \/qo2'V j`  
    vI84= n  
    SynL%Y9)|,  
     8]G  
    1. 案例 VIIBw  
    *yx5G-#?  
     JXT%@w>I  
      (w1M\yodV  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 fRcs@yZnS  
     $*k(h|XfwW  
    1. 系统构建模块 dSdP]50M  
     5yA1<&z  
     ^4G%*-   
    8%+F.r  
    2. 组件连接器 ]t2zwHo#  
    ]TE(:]o7V  
    62-,!N 1-  
          zcqv0lM '  
    几何光学仿真 w(,K  
     K^z u{`S  
    以光线追迹 0\B31=N(  
     iY~.U`b`  
    1. 结果：光线追迹 |qOoL*z  
    h)NZG6R  
    _ ^2\/@  
          t[r<&1[&  
    快速物理光学仿真 cr wui8  
     >$/<~j]  
    以场追迹 c }-AD r9  
     V(6*wQ`&  
    1. NA=1.4时的光栅成像 {M_*hR;lL  
    Q  *]d[  
     `F(ghC  
    L2 ybL#dz  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 /W|=Or2oR  
       }CM</  
    w7#9t  
    ^ ,cwm:B@  
    3. NA=0.5时的光栅成像 H^d2|E[D  
       hvFXYq_[O  
    @H83Ad  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表