切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 595阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7196
    光币
    30121
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2025-09-10
    摘要 G\P*zz Sq  
     +{#BQbx6  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 1pz6e8p:m  
    O050Q5zy  
    fSun{?{  
     |d:URuG~:I  
    1. 案例 IA+>dr  
    6XX5K@  
     EIF[e|kZ<  
      }f({03$  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 f[ER`!  
     f0hi70\(X  
    1. 系统构建模块 :ss9-  
    m\~[^H~g  
     >U) ,^H(  
    -D V;{8U4  
    2. 组件连接器 r[\47cG  
    `rs1!ZJ,  
    JP@UvDE|  
          B 1p9pr  
    几何光学仿真 Fx.uPY.a  
     b,K1EEJ  
    以光线追迹 7,O^c +  
     r+Z+x{  
    1. 结果：光线追迹 Dd{{ d?;B  
    ivGxtx  
    bqLv81V  
          w{UU(  
    快速物理光学仿真 wTTQIo 60  
     d3 N %V.w  
    以场追迹 =l_eliM/  
     |a"(Ds2U  
    1. NA=1.4时的光栅成像 NuXU2w~  
    Rd#,Tl\  
     =0v{+ #}  
    [S9nF  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 s&tr84u|  
       ?Ts Z_  
    OZv&{_b_  
    %? iE3j!q  
    3. NA=0.5时的光栅成像 g6*}& .&  
       ^.<IT"  
    |0 Zj/1<$  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表