切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 141阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    6293
    光币
    25610
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-26
    在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: J Lb6C 52  
    #\bP7a +  
    MjaUdfx  
    yoqa@V  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 2@vj!U8  
    ;T ZGC).6  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 !ax;5@J  
    v&3O&y/1v  
    相位分布如下图所示: &C-;Sa4  
    z#<P} }  
    )'q%2%Ak  
    T`$KeuL  
    相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: #Nte^E4  
    nj\_lL+  
     
    分享到