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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-26
    在本示例中,模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示: <j#EyGAV  
    1sJN^BvuG  
    !O-+ h0Z  
    Y<+4>Eh  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方,位于相移区域。 ~}AP@t*  
    o~K2K5I  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式),在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签,以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后,就可以描述传入区域,就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入,光线的传输方向为+Z方向。 :I('xVNPz  
    ss<'g@R  
    相位分布如下图所示: 8hfh,v5(  
    %},gE[N!J  
    m+UdT854  
    $%JyM  
    相移区域的影响清晰可见,导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差: :ct+.#  
    (0Cszm.  
     
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