[原创]随便聊聊离子源 [复制链接]

近几年国内兴起来很多镀膜机制造厂家，老牌的国外镀膜机厂家日渐衰微。 mLD0Lu_Ob3  
国外厂家以前值得夸耀的离子源系统和光控系统国内也基本攻克了，也就是稳定性上有点优势。 ld94ek  
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国内镀膜机上常见的离子源应该是霍尔源和射频源。 lfu1PCe5  
这两种源都利用了磁场--电子在磁场做圆周（螺旋）运动， }E
vyfc#D  
从而增加了电子在空间的行程，增加了和工作气体碰撞的几率。 cl2@p@av  
不同的是霍尔源一般是永磁铁，磁场没有变化； J{$C}8V  
而射频源是震荡磁场，磁场会周期变化，电子也会周期振荡。 /woa[7Xe  
霍尔源一般没有栅极，所以离子的能量（电压）比较小，但是数量（电流）可以很大； sCaw"{5qc  
射频源有栅极，所以离子能量（电压）可以加的很高，但是数量（电流）有限制。 [8Ub#<]]  
一般镀膜时候离子电压在1kv水平就够了； e~J% NU'&  
离子能量增大到10kv水平，这个能量能把基材表面的颗粒打飞，一般用于离子溅射； k(\HAIW  
离子能量加大到几百万电子伏特时，能把离子直接打进基材里面，这个就用在离子注入机上。 1*?IDYB  
T~Jl{(s9)  
射频源的难点在于栅网和射频匹配， <PW*vo9v  
栅网受热会膨胀变形，而栅网之间通常离得很近，受热变形后就容易接触打火。 ,e>C)wq;  
新的栅网还好说，随着栅网越用越薄，变形的几率就越来越大。 5gI@~h S  
进口栅网一般是整块钼块掏制的，就是为了克服受热变形。 EBw}/y{Kt  
用钼板旋压则制作成本较低，但是变形量比掏制的要大很多。 -'{ioHt&X/  
.)})8csl.d  
射频匹配就是调整可变电容来匹配射频震荡回路，使得反射电流最小化。 ({![  
一般只要接触良好，线圈不发生变形，LC震荡回路的匹配值只和真空度和气体有关， 8nES=<rz  
离子源本体因为会要切换气体（一般是Ar和O2），所以必须自动匹配， u 8U>R=M  
中和器只用Ar，所以匹配好了基本上不会变化。 A3&8@/6,  
如果发生反射很高的情况，要么就是接触产生问题了，要么就是线圈变形了， $a\q<fN}  
或者就是哪里对地短路了。

那如果射频离子源报加速电流异常一般是什么原因造成的？栅网也没有发现有破损或掉渣，但是栅网中间部分会有局部出现与其它地方不一致颜色的扭曲线条，像个W ~u%9@}Oo>  

是哪家的离子源，不同厂家的离子源加速极位置不一样。 3dadeu^{A  
有照片最好发一下，有可能是打火。 /J{P8=x}_:  
栅网之间位置过近或者孔位偏差会造成打火。 ~DqNA%Mb  
X~GZI*P  
有可能是没装好，也有可能是本身栅网的问题。

学习了。之前有个一直反射电流高，后面就是换了那个电容才OK。今天看了这个好像明白了一点。谢谢分享。

ouyuu:是哪家的离子源，不同厂家的离子源加速极位置不一样。 Y/@4|9!  
有照片最好发一下，有可能是打火。 KbwWrf>  
栅网之间位置过近或者孔位偏差会造成打火。
有可能是没装好，也有可能是本身栅网的问题。 (2025-08-23 17:57)  5vP*oD  

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没有拍照，网子已经打磨了

镀红外膜用霍尔源是比射频源更好吗？我们用霍尔源镀红外膜料，怕膜料氧化，离子源充气都是氩气，结果气体分配片消耗好大，感觉气体分配片的金属都镀到膜里面去了，气体分配片用不了40小时就穿孔了，这个该怎么去设置气体？是不是还是要充一些氧或者改用特殊材质的气体分配片，现在用的气体分配片是不锈钢的

quan6658:镀红外膜用霍尔源是比射频源更好吗？我们用霍尔源镀红外膜料，怕膜料氧化，离子源充气都是氩气，结果气体分配片消耗好大，感觉气体分配片的金属都镀到膜里面去了，气体分配片用不了40小时就穿孔了，这个该怎么去设置气体？是不是还是要充一些氧或者改用特殊材质的气体分配片，现在 .. (2025-08-30 16:44)  Ye(0'*-jyc  

D;:lw]  
射频源因为离子速度高（加速电压高），所以对折射率的提高比较大， :.sK:W("v  
也就是说折射率的稳定性来讲，射频源不如霍尔源。（因为霍尔源提高不多） X\YeO>C  
红外膜因为厚度大，如果没有直控的话，确实霍尔源要比射频源更容易控制。 O gycP4z[  
因为折射率来讲霍尔源更稳定。 nC`=quM9  
(>)Y0ki}  
红外膜料是硫化锌吗？硫化锌只能用氩气。 h!)(R<  
气体分配片你可以选用一些高熔点的金属做，不过成本会很高。 kv5D=0r  
比如说钨、钼、石墨……

ouyuu:射频源因为离子速度高（加速电压高），所以对折射率的提高比较大， BfhOe~+i  
也就是说折射率的稳定性来讲，射频源不如霍尔源。（因为霍尔源提高不多） tp0^%!*9  
红外膜因为厚度大，如果没有直控的话，确实霍尔源要比射频源更容易控制。 zJ@f {RWZa  
因为折射率来讲霍尔源更稳定。 ..n-&(c32  
....... (2025-09-03 01:30)  R':a,6O  

9fe~Q%x=u  
谢谢版主解答

quan6658:镀红外膜用霍尔源是比射频源更好吗？我们用霍尔源镀红外膜料，怕膜料氧化，离子源充气都是氩气，结果气体分配片消耗好大，感觉气体分配片的金属都镀到膜里面去了，气体分配片用不了40小时就穿孔了，这个该怎么去设置气体？是不是还是要充一些氧或者改用特殊材质的气体分配片，现在 .. (2025-08-30 16:44)  8+ Hho@=  

Z\`uI+`  
我们做红外用的都是考夫曼源