近几年国内兴起来很多镀膜机制造厂家,老牌的国外镀膜机厂家日渐衰微。 q%GlS=o"
国外厂家以前值得夸耀的离子源系统和光控系统国内也基本攻克了,也就是稳定性上有点优势。 wloQk(T<W
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国内镀膜机上常见的离子源应该是霍尔源和射频源。 '0>w_ge4
这两种源都利用了磁场--电子在磁场做圆周(螺旋)运动, +&hd3
从而增加了电子在空间的行程,增加了和工作气体碰撞的几率。 8;]U:tv
不同的是霍尔源一般是永磁铁,磁场没有变化; ojZvgF
而射频源是震荡磁场,磁场会周期变化,电子也会周期振荡。 c2<JS:!*
霍尔源一般没有栅极,所以离子的能量(电压)比较小,但是数量(电流)可以很大; P_ x9:3
射频源有栅极,所以离子能量(电压)可以加的很高,但是数量(电流)有限制。 r%~/y
一般镀膜时候离子电压在1kv水平就够了; 0')O4IHH
离子能量增大到10kv水平,这个能量能把基材表面的颗粒打飞,一般用于离子溅射; MHkTN
离子能量加大到几百万电子伏特时,能把离子直接打进基材里面,这个就用在离子注入机上。 0 lsX~d'W
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射频源的难点在于栅网和射频匹配, -*Z;EA-
栅网受热会膨胀变形,而栅网之间通常离得很近,受热变形后就容易接触打火。 ril4*$e7^\
新的栅网还好说,随着栅网越用越薄,变形的几率就越来越大。 v-mhqhb
进口栅网一般是整块钼块掏制的,就是为了克服受热变形。 H[&X${ap
用钼板旋压则制作成本较低,但是变形量比掏制的要大很多。 0(!D1G{ul
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射频匹配就是调整可变电容来匹配射频震荡回路,使得反射电流最小化。 *XZlnO
一般只要接触良好,线圈不发生变形,LC震荡回路的匹配值只和真空度和气体有关, >|22%YVX
离子源本体因为会要切换气体(一般是Ar和O2),所以必须自动匹配, t LZ4<wc
中和器只用Ar,所以匹配好了基本上不会变化。 c>%+y+b{
如果发生反射很高的情况,要么就是接触产生问题了,要么就是线圈变形了,
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或者就是哪里对地短路了。