[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 X#qmwcF  
D# $Fj  
9@Iz:!oqb  
V)$y  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 -/#VD&MJO=  
`A]CdgA  
元件内部场分析仪：FMM *H"IW0I  
y^rcUPLT  
KtT.WHr(m  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 S~dD;R  
J3]!<v=  
评估模式的选择 x>>#<hOz[  
   g>lJZD@  
4Y):d!'b  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 X{n7)kgL  
)HrFWI'Y  
评价区域的选择 Q}KNtNCpx  
   E%eTjvvxus  
tQSj[Yl  
F{#m~4O  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 6.o8vC/PZ  
tho
AEG80  
不同光栅结构的场分布 [-Zp[  
Q9(J$_:  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： AL%gqt]  
>^1|Mg/!>  
1v)X]nW  
光栅结构的采样 i6"/GSA  
t/;@~jfr@  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 G}o?lo\#h  
6^W6As0  
"(@W^qF}d  
T ;Ga G  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 AML8.wJ  
;(a\F  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 ?[$=5?  
/jR]sC)xs  
"6T: &>  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） IrAc&Ehul  
%+WIv+<  
:ZP4(}  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 8+m[ %5lu  
V#j|_N1hm  
输出数据的采样：二维周期光栅 ~c e?xr|  
R&z)  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 /UJ@e