[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 IwE{Zvr  
\5]${vs&s  
1qR[&=/  
px!
TRbf  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 HW{si]~q  
C Rd1zDB  
元件内部场分析仪：FMM 4z_>Ci
A  
Ux<2
!vh  
F|eKt/>e  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ;oKN8vI#7  
E!~Ok  
评估模式的选择 XzX-Q'i=n0  
   )CYm
/dk  
^* xhbM;  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 @Gh?|d7bD  
O3?3XB> <  
评价区域的选择 Zd~l_V f  
   /``4!jU  
),G?f {`!  
4oY<O  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 2WP73:'t  
AI$r^t1  
不同光栅结构的场分布 bJ[{[|yEd  
OZ/P@`kN.f  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： FD}hw9VyF@  
nX@lR~g%F  
c k$ > yk  
光栅结构的采样 {Hv/|.),hu  
Y7|R vLWoP  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 kl0!*j  
$_j\b4]%  
kIm)Um  
n/ \{}9  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 (&25 8i,  
FmRCTH  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 _K4Igq  
)FNvtLZ  
L(p{>Ykcc  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ` >w4G|{  
]BY^.!Y  
l3d^V&Sk  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 e{ce \  
Fk:yj 4'  
输出数据的采样：二维周期光栅 Dr;-2$Kt/&  

Js`xTH'  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 2wHvHH!