摘要 W)
a j_:|]j
`w(sXkeaI :6sGX p 元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。
~)!VV) 6g5]=Q@U: 元件内部场分析仪:FMM <e^6.!;W 0<"tl0p_ 4]M =q{ 元件内部场分析器:FMM是
光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
vD"_X"v A9.;>8!u 评估模式的选择 E-[:.
& BfEx'C i&B?4J) 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。
pJ$(ozV %L.rcbg:<c 评价区域的选择 f#2#g%x o|BFvhg
f@#w{W,3 PH{c, 元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。
5]Z] j[8Y } pSt@3o, 不同光栅结构的场分布 cEtZ}2,j V4qZc0<,H
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子:
c[6 zX#{` u<J2p?`\&` %j!z\pa 光栅结构的采样 1_XO3P\ {!>E9Px 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但
系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。
-!JlM@ sd]0Hx[
4E,hcu ~m3V]v(q7 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
'G3+2hah hu`Lv 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
ArLz;#AOn 0fZ:")&4, 6Eij>{v 输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) yDDghW'\WU z1)$ m.|qVN 对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
_-YL!oP Kn3YI9 输出数据的采样:二维周期光栅 |
3hT { ,Uv{dG 当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
)jp{*?^\