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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-11
    摘要 ve/.q^JeJ  
    ]S(nA!]  
    "JF   
    QWm g#2'  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 'u PI~l`g  
    fCb&$oRr!  
    元件内部场分析仪:FMM 4nd)*0{ f  
    1(aib^!B  
    aQWg?,Ju6  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 e'|P^G>g  
    }+NlY D:qF  
    评估模式的选择 bneP>Bd  
      
    , Z1 &MuV  
    OpOR!  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 =v! 8i  
    suX^"Io%!  
    评价区域的选择 4tiCxf)  
       S="\S  
    F%ukT6xp  
    Ov:U3P?%  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 `sdbo](76  
    ?6[u\V  
    不同光栅结构的场分布 #B$_ily)  
    QSYKYgxC  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: -> 'q  
    /ubGa6N  
    (:# 4{C  
    光栅结构的采样 B`%%,SLJ  
     vO;:~  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 5zJ#d}%}S"  
    dr=KoAIxy  
    fxD|_  
    q={3fm  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 =5p?4/4 J  
    qy!pD R;  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 w\a9A#v,  
    `Z#]lS?  
    Zg;Ht  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) 7:)$oH  
    F>q%~  
    wGpw+O  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 H?pWyc<,  
    mhnK{M @56  
    输出数据的采样:二维周期光栅 0 KWi<G1  
    %X\rP,  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    74Il]i1=  
     
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