[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 oDU ;E  
EMfdBY5  
YE9,KVV;$n  
oD$J0{K6  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 x*Y@Q?`>5W  
7K5P8N ,  
元件内部场分析仪：FMM 3fh8$A  
HdPoO;  
H `(exa:w  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ^)W[l!!<)  
:.45u}[  
评估模式的选择 PgRDKygE  
   |K|h+fgG6*  
7%{ |
 
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 T9879[ZU\  
[mPjP%{=@  
评价区域的选择 14"J d\M8  
   ?|ZTaX6A  
#Z<a  
#2EI\E&$  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 `8
Lo{P  
]TyisaT  
不同光栅结构的场分布 h@LHRMO  
F<(i.o(  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： *>+,(1Fz  
= hN !;7G  
B0ndcB-  
光栅结构的采样 R?
p00  
]Qe{e3p;  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 oI#a_/w  
vVgg0Y2  
{pHM},WJ  
U_{Ux2  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 MG{YrX)oi  
"^1L'4'S  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 pm9%%M$  
'_$uW&{NI  
NoJ`6MB  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） <dvy"Dx  
=lVK IW  
qVs\Y3u(  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 :,DM*zBVp  
E=#0I]v[  
输出数据的采样：二维周期光栅 gc?#pP  
dzkw$m^@^  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 HWVtop/