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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-11
    摘要 W)  
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    :6sGX p  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 ~)!VV)  
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    元件内部场分析仪:FMM <e^6.!;W  
    0<"tl0p_  
    4] M =q{  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 vD"_X"v  
    A9.;>8!u  
    评估模式的选择 E- [:. &  
      
    BfEx'C  
    i&B?4J)  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 pJ$(ozV  
    %L.rcbg:<c  
    评价区域的选择 f#2#g%x  
       o|BFvhg  
    f@#w{W,3  
    PH{ c,  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 5]Z]j[8Y  
    } pSt@3o,  
    不同光栅结构的场分布 cEtZ}2,j  
    V4qZc0<,H  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: c[6zX#{`  
    u<J2p?`\&`  
    %j!z\pa  
    光栅结构的采样 1_XO3P\  
    {!>E9Px  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 -!JlM@  
    sd]0Hx[  
    4E,hcu  
    ~m3V]v(q7  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 'G3+2hah  
    hu`L v  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 ArLz;#AOn  
    0fZ:")&4,  
    6Eij>{v  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) yDDghW'\WU  
    z1)$  
    m.|qVN  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 _-YL!oP  
    Kn3YI9  
    输出数据的采样:二维周期光栅 | 3hT{  
    ,Uv{dG  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    )jp{*?^\  
     
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