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~CL 时间地点 yJ!OsD 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司
0U$:>bQ 苏州黉论教育咨询有限公司
`I5O4|K) 授课时间:2025年5月16日(五)-18日(日)AM 9:00-PM 16:00
,N53Iic 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
2t+D8 d|c< 课程讲师:讯技光电工程师团队成员
)PR3s1S^ 课程费用:4800RMB(包含课程材料费、开票税金、午餐费)
x^A7'ad0 >[ eW">:>K 课程简介 KAd_zkUA 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。
]UDd :2yt 透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面
透镜,被广泛采用在
光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机
镜头、及显示器面板,如OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使
薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。
6cM<>&e 该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上面的应用。
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"jMqt9ysN 课程大纲 C:]s;0$3'9 1. Essential Macleod软件介绍
Pm4e8b 1.1 介绍软件
6+.>5e 1.2 运行程序
D^Te%qnW 1.3 创建一个简单的设计
'T\dkSJv;V 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
i+g~ Uj}h 1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义
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kK 2. 光学薄膜理论基础
nqT> qS[Z 2.1 介质和波
&5?G-mn 2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
}g~g50ci 2.3 后表面对光学薄膜特性的影响
X0`j-*,FX (8.{+8o 3. 理论技术
2d*_Qq1 3.1 参考
波长与g
]*qU+& 3.2 四分之一规则
*h$&0w
y 3.3 导纳与导纳图
(S`6Q ?WQNIX4 4. 光学薄膜设计
!xu9+{- 4.1 光学薄膜设计的进展
*i^`Dw^~y 4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题
@}Zd (o 4.3 光学薄膜设计技巧
|( G2K'Ab 4.4 特殊光学薄膜的设计方法
we3tx{j 4.5 优化目标设置
mzX;s&N# 4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
kY"KD22a w/W7N 5. 常规光学薄膜系统设计与分析
LN4qYp6)G 5.1 减反射薄膜
B{C_hy-fw 5.2 分光膜
Ve}[XqdS^p 5.3 高反射膜
wd[eJcQ , 5.4 干涉截止滤光片
LXj5R99S 5.5 窄带滤光片
j(iuz^I 5.6 负滤光片
uRE*%d> 5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
{^#2=`:)O 5.8 Vstack薄膜设计示例
`0{ S3v 5.9 Stack应用范例说明
0"78/6XIs
aBhV3Fd[B 6. VR、AR及HUD用光学薄膜
kZLMtj- 6.1 背景介绍
U3E&n1AA 6.2 产品特性
!nd*W"_gQ/ 6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析
03k?:D+5 6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析
%d1draL 6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析
MPIlSMe 9'nH2,_ 7. 防雾薄膜
YuQ~AE'i 7.1 自清洁效应
[84F09HU 7.2 超亲水薄膜
Iy';x 7.3 超疏水薄膜
?P/AC$:|I 7.4 防雾薄膜的制备
z
x@$RS+] 7.5 防雾薄膜的性能测试
; Y"N6% MV0Lq:# N 8. 材料管理
PE"v*9k 8.1 光学薄膜材料性能及应用评述
9XLFHV(" 8.2 金属与介质薄膜
"0CjP+1k 8.3 材料模型
?<U{{C 8.4 介质薄膜光学常数的提取
ujr(K=E 8.5 金属薄膜光学常数的提取
tnz+bX26 8.6 基板光学常数的提取
.&1C:> 8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路
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P"\J(x w8Vw1wW 9. 薄膜制备技术
M6rc!K 9.1 常见薄膜制备技术
~6aCfbu%V 9.2 光学薄膜制备流程
Pm+tQ 9.3 淀积技术
fvEAIs 9.4 工艺因素
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8z2Rry
w 10. 误差、容差与光学薄膜监控技术
jZpa0g rA 10.1 光学薄膜监控技术
e5?PkFV^a1 10.2 误差分析与监控决策
n6MM5h/#r 10.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧
uuNR?1fS 10.4 膜系灵敏度分析
g&Vcg` 10.5 膜系容差分析
uH@FU60 10.6 误差分析工具
WG7k(Sp] 11. 反演工程
XL$* _c <) 11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差)
zR;X*q"T$4 11.2 用反演工程来控制对设计的搜索
k5`OH8G G8Z 4J7^ 12. 应力、张力、温度和均匀性工具
]m4OIst 12.1 光学性质的热致偏移
FT.,%2 12.2 应力工具
_[K"gu 12.3 均匀性误差(圆锥工具、波前问题)
l;A,0,i Rp9fO?ZjHt 13. 光学薄膜特性测量
V\]" }V)" 13.1 薄膜光学常数的测量
lrWQOYf2 13.2 薄膜堆积密度的测量
+7V{ABfGl 13.3 薄膜微观结构分析
Wg`AZ=t 13.4 薄膜成分分析
(u3s"I
d 13.5 薄膜硬度、附着性及耐摩擦性的测量
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