qsLsyi |zG 时间地点 7}xKiHh: 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司
Ofn:<d 苏州黉论教育咨询有限公司
{Su]P {oJ 授课时间:2025年5月16日(五)-18日(日)AM 9:00-PM 16:00
W[b/.u5z: 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
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dw 课程讲师:讯技光电工程师团队成员
TYp{nWwi 课程费用:4800RMB(包含课程材料费、开票税金、午餐费)
]uP{Sj 4h|D[Cb] 课程简介 hPl;2r 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。
0-QkRr_I 透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面
透镜,被广泛采用在
光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机
镜头、及显示器面板,如OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使
薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。
(7"qT^s3 该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上面的应用。
YO=;)RA
+_+_`q>] 课程大纲 WTXTr0= 1. Essential Macleod软件介绍
G"'DoP7p9 1.1 介绍软件
sQR;!-j 1.2 运行程序
Bk8U\Ut 1.3 创建一个简单的设计
-Z:al\e<g 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
?Hy++ 1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义
d(k`Yk8 yfV{2[8ux 2. 光学薄膜理论基础
c$p1Sovw 2.1 介质和波
OuX/BMG 2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
i;)88 2.3 后表面对光学薄膜特性的影响
luV%_[F
-"<eq0 3. 理论技术
-WEiY 3.1 参考
波长与g
<>-UPRwqI 3.2 四分之一规则
,TL~];J' 3.3 导纳与导纳图
K^Xg^9 U9Y'eP.2 4. 光学薄膜设计
1cUC>_%? 4.1 光学薄膜设计的进展
n6oVx5/ 4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题
p/@z4TCNX 4.3 光学薄膜设计技巧
O'(qeN<^w 4.4 特殊光学薄膜的设计方法
v%_sCg 4.5 优化目标设置
E#T'=f[r~ 4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
i`E]gJ$ 9~a_^m/ 5. 常规光学薄膜系统设计与分析
5^pQ=Sgt 5.1 减反射薄膜
d8|:)7PSt 5.2 分光膜
yp8 .\. 5.3 高反射膜
ao
32n 5.4 干涉截止滤光片
k/Cr ^J" 5.5 窄带滤光片
^E>}A 5.6 负滤光片
=#8J9 5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
K?P.1H` 5.8 Vstack薄膜设计示例
qbB.Z#w 5.9 Stack应用范例说明
N:=D@x~]
S7-?&[oeJ 6. VR、AR及HUD用光学薄膜
d+=;sJ 6.1 背景介绍
iTD{ 6.2 产品特性
10*U2FY)] 6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析
\,~gA
6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析
_QCAV+K' 6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析
1w?X~VZAX A*W QdY 7. 防雾薄膜
&u$l2hSS 7.1 自清洁效应
G>cTqD6gT 7.2 超亲水薄膜
wtMS<$ 7.3 超疏水薄膜
u{8Wu; 7.4 防雾薄膜的制备
%Sj;:LC 7.5 防雾薄膜的性能测试
nLYyS# B,}%1+* 8. 材料管理
'v4AM@%u 8.1 光学薄膜材料性能及应用评述
{d=y9Jb^ 8.2 金属与介质薄膜
U edh4qa 8.3 材料模型
DAJh9I 8.4 介质薄膜光学常数的提取
obUh+9K 8.5 金属薄膜光学常数的提取
gn7pIoN 8.6 基板光学常数的提取
O=ci"2!\- 8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路
=T;%R^@ 7M5HIK6_ 9. 薄膜制备技术
PLwa!j 9.1 常见薄膜制备技术
J>x)J}:; 9.2 光学薄膜制备流程
)6Z)z;n]aW 9.3 淀积技术
350 y6pVh 9.4 工艺因素
r0?`t!%V
*F2ob pU 10. 误差、容差与光学薄膜监控技术
90M:0SH 10.1 光学薄膜监控技术
0A\o8T.12 10.2 误差分析与监控决策
wXfy,W 10.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧
@zSoPDYv, 10.4 膜系灵敏度分析
m&b!\"0 10.5 膜系容差分析
Ws}u4t 10.6 误差分析工具
DH@*Oz- 11. 反演工程
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KX!{ 11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差)
(]'4_~e 11.2 用反演工程来控制对设计的搜索
zaR~ fO j @sd x)1+ 12. 应力、张力、温度和均匀性工具
/\h&t6B1 12.1 光学性质的热致偏移
lLoFM 12.2 应力工具
Eo)n(
Z9 12.3 均匀性误差(圆锥工具、波前问题)
NcRY
Ch h?fv:^vSi 13. 光学薄膜特性测量
H#G'q_uHH 13.1 薄膜光学常数的测量
?\.P 13.2 薄膜堆积密度的测量
^P(HX 13.3 薄膜微观结构分析
naW}[y*y; 13.4 薄膜成分分析
%]RzC`NZ 13.5 薄膜硬度、附着性及耐摩擦性的测量
GiI2nHZc 13.6 薄膜表面粗糙度的测量
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