[技术]二维周期光栅结构（菱形）光波导的应用 [复制链接]

摘要 qG]0z_dPE~  
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如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统，结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、偏振和衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 H!l9a  
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建模任务：专利WO2018/178626 A!}Ps"Z  
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任务描述 x,fL656t  
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光波导元件 LyL(~Jc|  
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 rD9:4W`^  
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光波导结构 "z_},TCy  
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 BPVOBL@   
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POX{;[SV  
光栅#1:一维倾斜周期光栅 Q\btl/?  
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K6|R ;r5e{  
几何布局展示了2个光栅： _>8Q{N\- {  
JY~CMR5#.O  
9\0$YY%  
•光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅 imKMPO=  
•光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交） QV4FA&f&  
SDVnyT  
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光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 L^bX[.uZw  
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使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 ntW1 )H'o  
LC\U6J't1  
Z#YNL-x  
BO%'/2eV  
可用参数： *dPbV.HCl  
•周期：400纳米 {faIyKtW  
•z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm  Fh|{ib  
•填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50% usC$NVdm  
•倾斜角度：40º z%\&n0  
e^$JGh2  
G.PRPl  
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总结—元件  L|6I  
Cl{Ar8d}  
8(L6I%k*  
具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。 q%dbx:y#  
l,zhBnD  
&So1;RR,_M  
?GW}:'z  
可用参数： m(0X_&&?z  
•周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米） vTTXeS-b  
•调制深度：100nm ia_lP  
•填充系数：65% VKf&}u/  
•菱形网格的角度：30° bvZ:5M  
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U]@?[+I0]  
[^^Pl:+  
总结——元件 TwI'XMO;A  
o?6m/Klw6  
&HtTh {  
0%4OmLBT  
u8M_2r  
b};o:  
结果：系统中的光线 p@[ fZj  

"F6gV;{Bt  
KSHq0A6/q%  
%l6E0[  
结果： JbQY{z!  

1:
>F{g  
HrfS^B  
E+#<WK-  
结果：场追迹 , 2xv  
N/--6)5~0  
9y<h.T
 
JodD6;P  
VirtualLab Fusion技术 xu%eg]  
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