[技术]二维周期光栅结构（菱形）光波导的应用 [复制链接]

摘要 `+c8
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如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导系统，结合微结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、偏振和衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形光栅结构组成。 -IP
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建模任务：专利WO2018/178626 YZHqy++x  
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任务描述 yClbM5,  
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光波导元件 n#fc=L1U  
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 }w
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B*,Qw_3dG  
光波导结构 #ozQF~
 
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使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。 ;<~lzfs
 
I,Z'ed..  
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光栅#1:一维倾斜周期光栅 !P"=57d}"l  
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e|~s'{3  
几何布局展示了2个光栅： /EXubU73  
1$^=M[v  
M,f|.p{,Y  
•光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅 %J 'RO
 
•光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交） $S(q;Y  
Ts~)0  
VJ'bS9/T  
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光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 Pp9nilb_(  
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使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。 }F
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=>Md>VM  
rdY/QvP0=  
%w0Vf$  
可用参数： b#2$Pd:(  
•周期：400纳米 Ov5*&*P  
•z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm 0u7\*Iy  
•填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50% nOE 1bf^l  
•倾斜角度：40º hV6
=-QL*B  
TM1D|H  
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M^$liS.D  
总结—元件 f|&ga'5g&  
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具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。 5csqu^/y  
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可用参数： DwLl}{r'  
•周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米） B2uLfi$q  
•调制深度：100nm !]v&/  
•填充系数：65% nnm9pnx  
•菱形网格的角度：30° 1hT!~'  
YhzDi>hob  
n~wNee  
7rdPA9  
总结——元件 "Y7 ]t:8  
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UF  
$7 08\!  
@Q=P6Rz {S  
mu!hD^fw  
结果：系统中的光线 [9
O,C-Mk  
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结果： V(Dn!Nz  
6}RRrYL7I  
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9b0M'x'W5  
结果：场追迹 kr_!AW<.tz  
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zJp@\Yo+  
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VirtualLab Fusion技术 77Fpb?0`  
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