摘要 r7ebF JEf )kMF~S|H 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、
偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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C))x#P36 RCqd2$K"J+ 建模任务:专利WO2018/178626 J7;8
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/\.[@] 任务描述 .Gt_~x ;mT
r'(*# xovsh\s 光波导元件 vSnGPLl x^zw1e,y 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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;Zm-B]\ EVlj#~mV 光波导结构 fc&djd`FuX 6Ki!j< 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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=`ZRPA!aY riZ :#I 光栅#1:一维倾斜周期光栅 N:q\i57x d&* c3F 72CHyl`|l 几何布局展示了2个光栅:
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'NMO>[. •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
4/ WKR3X •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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'%X29B5 esiU._:u 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 j{j5TvsrY ~&aULY?)] f(G1xw]]@Y 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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: *XAQb0 g< xE}[gF 可用
参数:
d_,Ql708f •周期:400纳米
fK6[ p& •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
?b:Pl{? •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
>F>VlRg •倾斜角度:40º
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80=LT-%# 总结—元件 a>6D3n
W $%^](- ^mg:<_p 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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ohbU~R3{U U)xebU.!S 可用参数:
,]@K,|pC) •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
E~#G_opQA •调制深度:100nm
K&n-(m% •填充系数:65%
9%Tqk"x? •菱形网格的角度:30°
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+HPcvu?1 D;s%cL` 总结——元件 ]ag{sU@#
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? )h8uf4 }`2a>N:
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/* qx5$~ X0iy 结果:系统中的光线 _|4R^*/4 "P0!cY8r
`<|tC#<z ,p3]`MG 结果:
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qFK.ULgP` up+0-!AH 结果:场追迹 J;NIa[a n?nzm "g
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