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摘要 'H7x L } G<rt 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 yUPIY:0 !a$ D4(`v
^T~gEv Pl-5ncb\ 任务说明 9_sA&2P{uV >&!RWH9*q #Km:}= {,OS-g 简要介绍衍射效率与偏振理论 Cye$H9 2 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 k=GG>]<i 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: bqQq=SO yz2Ci0Dwy 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 G^"Vo x4 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: Ej7 /X ~ $Ci0I+5w 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 hXGwP4 w-@6|o,S 光栅结构参数 g/CxXSv@0 研究了一种矩形光栅结构。 ^s.V;R 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 M/Pme&% 根据上述参数选择以下光栅参数: 5d@t7[] 光栅周期:250 nm lcV<MDS 填充因子:0.5 D#S\!>m 光栅高度:200 nm 8P:
Rg%0) 材料n_1:熔融石英(来自目录)
fI\9\x 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 4 g.
bR W(RF n`g\ ny-7P;->8 A[WV'!A, 偏振态分析 `]Bxn)b( 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 d3^OEwe 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ;@h0qRXW:h 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 -G,^1AL> Jw~( G9G V0nn4dVO /WPv\L 模拟光栅的偏振态 R_sC! - qz4^{
YC]L)eafo` MzIq"3 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: !QmzrX}h 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 3\;27&~gV 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 VGL#!4wK 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 fx8EB8A7K7 >MJ?g- Passilly等人更深入的光栅案例。 \n0Oez0z!B Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 [~D|peM3 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 clI*7j.4E# 7t9c7HLuj/
hl&-\ dc+ +MK6zf 光栅结构参数 dMx4ykrR 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 N?dvuB 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 e7u^mJ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 hgRVwX 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 6{d6s#|%
mmw^{MK! h?\2_s 光栅#1——参数 HEqWoV]{d 假设侧壁倾斜为线性。 !e#xx]v3 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ?B.~AUN 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 l6[lJ0Y 光栅周期:250 nm o-7>eE}+ 光栅高度:660 nm KRsAv^'] 填充因子:0.75(底部) ,(G%e 侧壁角度:±6° _nT{g n_1:1.46 )_zlrX n_2:2.08 &K^MNd *5%*|>
=j0x.fSe 5H,G- 光栅#1——结果 'k&?DZ! 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 V[pvJ( 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 o?Sla_D SN+S6
e`{0d{Nd 6*GjP ;S= 光栅#2——参数 /7$mxtB5%L 假设光栅为矩形。 z}}]jR\y? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 LU!1s@ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 ZeasYSo4P 光栅周期:250 nm k7_I$<YDj 光栅高度:490 nm {gf>* 填充因子:0.5 .&,[, n_1:1.46 go)p%}s n_2:2.08 juToO zW{ 6Eg nN`"z3o !jS4!2' 光栅#2——结果 jeN1eM8WI 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 urY`^lX~ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 OsW"CF2 EiV=RdL ]>:^d%n,}
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