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摘要 6"U$H$i.G 89%#;C 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Nb/Z + |il P>b
}m.45n/ 03dmHg.E!E 任务说明 Uizg.<. $xq$ IFW"SfdZk ]9$^=z%SE 简要介绍衍射效率与偏振理论 T5+9# 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 _G^Cc}X 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Y/,Cy0! v4X)R
"jJ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 bm-&H 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: o Yrg;]H Dq9*il;' 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Hus.Jfam 3V0^v 光栅结构参数 yey]#M[y 研究了一种矩形光栅结构。 t'e5!Ma 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 eDS,}Z' 根据上述参数选择以下光栅参数: (cm8x 光栅周期:250 nm 6[&x7" 填充因子:0.5 4)E$. F^ 光栅高度:200 nm %HcCe[d5l 材料n_1:熔融石英(来自目录) ?4YLt|sn 材料n_2:二氧化钛(来自目录) .%+y_.l P?j ;&@$^e gE~LPwM e#z#bz2< 偏振态分析 4~z-&>% 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ! +XreCw 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 *w[0uQL5Z 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 o'|B|oZ x5eSPF1 v]hu5t wg]VG, 模拟光栅的偏振态 o!W( b-HELS`nX
Jqz K5)
t-)d*|2n}o 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: zAH6SaI$ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 !p{CsR8c 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 cng166}1A 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Nyl)B7/w p|Nh:4iN Passilly等人更深入的光栅案例。 aBWA hn Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 tYCVVs`? 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 CRPE:7,D YZ^mH <
_[$,WuG1 kxt/I<cs 光栅结构参数 YpEH(tq 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ~ ;ObT= 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Ar'k6NX 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 :r9<wbr)k0 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 *g[MGyF"
zQaD&2 q S9dXkd 光栅#1——参数 t
{H{xd 假设侧壁倾斜为线性。 ~9n30j%]s 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 -.l.@ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 IO<Ds#( 光栅周期:250 nm z"f+;1 光栅高度:660 nm h`f $]_c 填充因子:0.75(底部) 8T88 侧壁角度:±6° .Ky)Co n_1:1.46 $0|`h)& n_2:2.08 1H \ 8yk4#CZ
"<&) G{ }!V-FAL 光栅#1——结果 =:'\wx
X 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 P=R-1V 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 G%viWWTY i(>
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&pW2R} *auT_* 光栅#2——参数 v Q,<Ke+d 假设光栅为矩形。 0[E\h 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 L}rYh`bUP[ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 DhXV=Qw 光栅周期:250 nm f4$sH/ 2#v 光栅高度:490 nm ^0 &jy:{ 填充因子:0.5 zxkO&DGRbN n_1:1.46 EVP{7}K1 n_2:2.08 ]A%~bQ7 2"_5Yyb nf1O8FwRb X.ecA`0 光栅#2——结果 9 !$&1|,* 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 vIf-TQw 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Po*!eD 2D/bMq {.ypZ8JU
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