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摘要 dO!
kk"qn Y!w`YYKP 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 %K=?@M9i B"1c
JcsHt; /T0F"e)Ci 任务说明 IL#"~D? 6*78cg Io 2*;~S44 HdUQCugxx: 简要介绍衍射效率与偏振理论 gwuI-d^ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 _Xe>V0 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 5H<m$K4z U)]oO 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 l*(8i ^ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: @zW]2 c aFX=C>M 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 )-I {^( &
p 光栅结构参数 /L
g)i\R; 研究了一种矩形光栅结构。 S6Q 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 e5ZX 根据上述参数选择以下光栅参数: JzQ_{J`k 光栅周期:250 nm 6jD=F ^jw 填充因子:0.5 X:"i4i[}{9 光栅高度:200 nm |.: q 材料n_1:熔融石英(来自目录) v!~fs)cdE| 材料n_2:二氧化钛(来自目录) A4x]Qh3OO $Vg>I>i >C>.\ 1hY{k{+o 偏振态分析 mp1@|*Sn 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 _aSxc)? 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 EH J.T~X 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 l
^0@86 O3,jg|, ,f%S'(>w hn
GZ= 模拟光栅的偏振态 z#wkiCRYm 8b&/k8i:
cA?W7D lfow1WRF 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Hk3sI-XkA 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 g
wRZ%.Cn 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 q
'yva 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 WaRw05r Vx u0F]% Passilly等人更深入的光栅案例。 6Pl<'3& Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 (=AWOU+ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 -=Q*Ml#I m.rmM`
q6luUx,@m kS);xA8s] 光栅结构参数 eu-*?]&Di 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 tX s\R(?T 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 cKI9#t_ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 )qw&%sO + 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Ynj,pl
&K#M*B,*p )*J^K?!S 光栅#1——参数 K($Npuu] 假设侧壁倾斜为线性。 +mj y<~\ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 kVMg 1I@ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 EW OVx*l 光栅周期:250 nm `*R:gE= 光栅高度:660 nm n b?lTX~ 填充因子:0.75(底部) N=}A Z{$ 侧壁角度:±6° Xc-'Y"}|`t n_1:1.46 kgP0x-Ap n_2:2.08 )7Wf@@R'F IOmfF[
pz*3N jV1.Yz(` 光栅#1——结果 R__OP`! 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ^jZbo{ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 yNBfUj -L "<1{9
VlsnL8DV #q=Efn' 光栅#2——参数 0'C1YvF 假设光栅为矩形。 Ve; n}mJ? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ;4|15S 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 q>+k@>bk@ 光栅周期:250 nm m-#2n?
z- 光栅高度:490 nm sDlO# 填充因子:0.5 Kw ]= n_1:1.46 8(~h"]`! n_2:2.08 /nA{#HY bROLOf4S \_f(M|
T(Eugl" 光栅#2——结果 ?Z/V~, 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 E ~<JC"] 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 oap4rHk} )Ql%r?(F+ 2FJ*f/
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