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摘要 9A_7:V]_ _Nn!SE 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Xdq,
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lzw CN=&Je%I 任务说明 ?W
n(ciO oSl>%} cMl%)j- jyGVb no` 简要介绍衍射效率与偏振理论 t4IJ%#22 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 8[C6LG 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: v/czW\z Ds87#/Yfv 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ~{+{p cO} 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: upDQNG>d [j?<9 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 %&Cl@6 Ln_l>X6j51 光栅结构参数 faq
K D: 研究了一种矩形光栅结构。 V)2_T!e%* 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 m=MT`-: 根据上述参数选择以下光栅参数: FZnHG;af 光栅周期:250 nm !_
Q!H2il 填充因子:0.5 I{zE73 光栅高度:200 nm ^eW.hNg 材料n_1:熔融石英(来自目录) \vsrBM 材料n_2:二氧化钛(来自目录) X^Y9T`mQ} (@E#O$' :6?&FzD` 4QFOO
sNp 偏振态分析 ku;nVV 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 @6q$Zg/ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 > bF!Y]H 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 !)3s <{k# HiG/(<bs9O M:M>@|) WdqK/s<jM 模拟光栅的偏振态 C[nr> 0xUj#)
%-/:ps xD#I&. 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: f*vk1dS:*3 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 X-$td~r 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 %GbPrlu 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 )[sO5X7'^ )_e"Nd4 Passilly等人更深入的光栅案例。 T(UYlLe Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 1K9?a;. 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。
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$Q?G*@y M3@fc,Ch 光栅结构参数 !otq
X- 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 sK-|xU. 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 %]0U60 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 hS{
*l9v7 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ""'eTpe
Vfm #UvA J+ZdZa}Ob 光栅#1——参数 tc<M]4- 假设侧壁倾斜为线性。 ,beR:60) 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 |C6(0fgWd 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 [l%fL9 光栅周期:250 nm M(zY[O 光栅高度:660 nm SE9u2Jk 填充因子:0.75(底部) BMWeD 侧壁角度:±6° ]a!; `m$ n_1:1.46 tW.>D;8 n_2:2.08 y2"S\%7$h vDeG20.?Z
:.[5(' JJ9e{~0I 光栅#1——结果 x";.gjI |g 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 x]><}!\<& 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 K'5sn|) bC4*w
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f93rY< ,cy/fW 光栅#2——参数 Be>c)90bO_ 假设光栅为矩形。 *CY6
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忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 >)J47j7{c 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 R c:cVK 光栅周期:250 nm BdB` 光栅高度:490 nm #D LT-G0 填充因子:0.5 v8[ek@ n_1:1.46 D0y,TF n_2:2.08 },EUcVXk _h=<_Z F `pyhc>1; BRU9LS 光栅#2——结果 b8{h[YJL2 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ?^48Zq6wM 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 .)^3t~ G<u.+V O{ %A&Ui
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