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摘要 oc((Yo+B 3!bK d2" 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 shy rd|crD3
-+' #*V nIR*_<ow 任务说明 eB7>t@ED k}-]W@UCa? )ZN(2z Kny%QBoiw 简要介绍衍射效率与偏振理论 @?Fx 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ret0z| 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 33,;iE y]J3hKs 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 `LE^:a:8, 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ;fj9n- =Iy/cHK 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 +!Q!m 3/I Gxo#
! 光栅结构参数
A<2I! 研究了一种矩形光栅结构。 n'ehB%" 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 [qW<D/@ 根据上述参数选择以下光栅参数: (GnVwJ<v9V 光栅周期:250 nm ^W5>i[ 填充因子:0.5 Pf{`/UlD 光栅高度:200 nm 'HJ/2-= 材料n_1:熔融石英(来自目录) G{/; AK 材料n_2:二氧化钛(来自目录) yS+(< %8a=mQl1^ W\'Nv/L 70duk:Ri0 偏振态分析 g%X &f_@ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 <8g=BWA 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 .|U4N/XN%q 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Q6eN+i2 ; {ip=iiW2 //~POm m**0rpA 模拟光栅的偏振态 y-%nJD$ ]c5DOv&
\y[Bu^tk Q^[e/U, 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: tF<^9stM 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 >'eB2 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 /SbSID_a 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 j p! 1% asx'^ Passilly等人更深入的光栅案例。 Xg,0 /P~ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 k& WS$R?u 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 (W7;}g ysh 3fm;r5
~5FS|[1L o`b$^hv{A 光栅结构参数 a#YuKh? 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 $*YC7f 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 xOwNCh 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 lr-12-D%- 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 TNyK@~#m
c!tvG*{ \m(ymp<c` 光栅#1——参数 67}]s@:l]( 假设侧壁倾斜为线性。 ay=KfY5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 VV?]U$ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 "kcpA#uD| 光栅周期:250 nm u+I3IdU3 光栅高度:660 nm BPwI8\V 填充因子:0.75(底部) f0/jwfL 侧壁角度:±6° UN-T^ n_1:1.46 o9_(DJ<{ n_2:2.08 $?[1#% TTeA a
X!,#'&p& 30A`\+^f 光栅#1——结果 c_@XQ&DC` 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ~!8%_J _ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Tg3:VD 8]sTX9
R#"U/8b>z %y~`"l$- 光栅#2——参数 ]cx" 假设光栅为矩形。 qgwv=5| 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 zj~8>QnKk 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 I(z>)S'7r 光栅周期:250 nm aSn0o_4bD 光栅高度:490 nm :hC
{5!| 填充因子:0.5 @`w' n_1:1.46 W2}%zux n_2:2.08 Xy[4f=X}z =nJOaXR0 OT-n\sL$ s$f+/Hs 光栅#2——结果 0t5Q9#RY 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 RnMB Gxa 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ~bQFk?ZN+ <bEN8b g0^~J2sDd
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