摘要 .J0Tn,m ou{}\^DgQ [1LlzCAFBw 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
/S9(rI<' /:+f5\"-b 设计任务 +2KYtyI 3.t
j%+ uIvAmc4 连接建模技术:蛾眼结构 !Qqi% 5 $vUdDTg `GBa3 光栅阶数分析器 O<RLw)nzg u!B6';XY ? ZqvR^ 元件内场分析器:FMM S`\03(zDA I:L}7uA[t |=o)|z2 参数运行 dr[sSBTY" Fx3CY W U5iyvU=UG 参数优化 tF/)DZ.to ,Vc>'4E- N4xCZb 模拟结果 6dNW2_ :pp@x*uNP 通过计算器进行参考测量 F=B[%4q`% WLy%|{/ Fad.!%[ 结构内的场 ~fht [S?@M Hdn%r<+c P,eP>55'K _ddOsg|U 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 j6JK4{ ;!C~_{/t gfW_S&&q 初始解决方案 #1 的参数优化 -5 Q
gJ fHLt{ !O AW R 最终设计 #1 的性能分析 C3]"y7 Qms,kX 初始解决方案 #2 的参数优化 (v)/h>vS }Z,x F` \se
/2l 最终设计 #2 的性能分析 v|7=IJ