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[Q7`RB L>eQ*311 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
P^i6MZ? _ak.G= 元件内部场分析仪：FMM &IxxDvP3k *vEU}SxRuv ikeJDKSG 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
:+kg4v&r <#:E bofsn 评估模式的选择 `1}HWLBX. PpI+@:p[ PL9zNCr-[ 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
Aigcq38 RRK^~JQI.2 评价区域的选择 Tq_1wX'\ qQ3 ]E][/ 
!]n{l_5r N^)<)? 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
;))[P_$zB _:/Cl9~ 不同光栅结构的场分布 h'z+8X_t rcD.P?" 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
Te{aB"B XY&]T'A ^^20v wq 光栅结构的采样 k :&?$ hnM9-hqm 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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<ls i.x\y< VuYWb)@ 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
U)IsTk~}O U~JG1#z6 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
81%qM7v 9H ==r ? sWqPw}/3> 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ]DL>
.<] d .~V".tZV[ *IjdN,wox 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
f6(9wz$Trt No SqzJyh 输出数据的采样：二维周期光栅 |yId6v &D&5UdN
x 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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