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 4&%0%  内容简介   @oE^(  Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 5My4a9  《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 E/[>#%@i  薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 >-U'mkIH    LtIp,2GP&_  讯技科技股份有限公司 2015年9月3日'EzKu~* 目录 s^f7w
 Preface 1 }C-K0ba7
 内容简介 2 E2dl}S zp
 目录 i JBqL0H
 1  引言 1 J5dwd,FQ
 2  光学薄膜基础 2 (D2G.R\pr
 2.1  一般规则 2 h</,p49gM
 2.2  正交入射规则 3 S7pf
QF
 2.3  斜入射规则 6 pmda9V4
 2.4  精确计算 7  \LuaI
 2.5  相干性 8 %Q,6 sH#
 2.6 参考文献 10 BoJpf8e'-e
 3  Essential Macleod的快速预览 10 uoJ@Jt'j
 4  Essential Macleod的特点 32 |5il5UP
 4.1  容量和局限性 33 EzII!0 F
 4.2  程序在哪里? 33 mok94XuK)
 4.3  数据文件 35 E8X(AZ 2
 4.4  设计规则 35 ^!&6z4DP
 4.5  材料数据库和资料库 37 YV%y
KD
 4.5.1材料损失 38 	p^.qwP\P
 4.5.1材料数据库和导入材料 39 To/6=$wto
 4.5.2 材料库 41 qwhDv+o
 4.5.3导出材料数据 43 5Z;iK(>IX
 4.6  常用单位 43 HxUJ 0Q
 4.7  插值和外推法 46 z)%Ke~)<\@
 4.8  材料数据的平滑 50 z
}3 `9
 4.9 更多光学常数模型 54 p
:{,~
1
 4.10  文档的一般编辑规则 55 ~8JOPzK
 4.11 撤销和重做 56 K;8{qQ*
 4.12  设计文档 57 79&=MTM
 4.10.1  公式 58 h2jrO9
 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Qg6tJB
 4.10.3  沉积密度 59 hMCf|
e.UY
 4.10.4 平行和楔形介质 60 P5Bva
 4.10.5  渐变折射率和散射层 60 #~}4<	18
 4.10.4  性能 61 d+qeZGg^A
 4.10.5  保存设计和性能 64 ^O0trM>h-
 4.10.6  默认设计 64 6;C2^J @
 4.11  图表 64 z`H|]${X
 4.11.1  合并曲线图 67 HIGTo\]Z
 4.11.2  自适应绘制 68 g3|k-
 4.11.3  动态绘图 68 P*|qbY
 4.11.4  3D绘图 69 :|\[a0ZL
 4.12  导入和导出 73 `}:pUf
 4.12.1  剪贴板 73 D`'h8:\
 4.12.2  不通过剪贴板导入 76 OYyF*F&S[
 4.12.3  不通过剪贴板导出 76 [L>mrHqG
 4.13  背景 77 y$Fk0s*>
 4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 1y3)ogL
 4.15  生成Rugate 84 8q]_>	X
 4.16  参考文献 91 + L[a
 5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 cb=ixn
 5.1  Jobs 92 $b U.6
 5.2  创建一个新Job(工作) 93 _U|rTil
 5.3  输入材料 94 -!lSk?l
 5.4  设计数据文件夹 95 
eC[G4
 5.5  默认设计 95 &8;Fi2}(L
 6  细化和合成 97 `3eQ#, G!
 6.1  优化介绍 97 "M;[c9
 6.2  细化 (Refinement) 98 !_q=r[D\
 6.3  合成 (Synthesis) 100 zYxA#TZL
 6.4  目标和评价函数 101 yi8AzUW
cW
 6.4.1  目标输入 102 B.A;1VE5
 6.4.2  目标 103 x.9[c	m-!
 6.4.3  特殊的评价函数 104 |Ed?s
 6.5  层锁定和连接 104 FM=XoMP q
 6.6  细化技术 104 wG&Z7C b
 6.6.1  单纯形 105 |J"\~%8
 6.6.1.1 单纯形参数 106 e/uLBZ
 6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 CZ!gu	Y=
 6.6.2.1 Optimac参数 108 .unlr_eA
 6.6.3  模拟退火算法 109 +TW,!.NBG
 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ~OMo$qt`lP
 6.6.4  共轭梯度 111 R5i	xG9
 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ov5g`uud
 6.6.5  拟牛顿法 112 '%&-`/x
 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 = R n
 6.6.6  针合成 113 ol1J1Zg
 6.6.6.1 针合成参数 114 >guX,hx^
 6.6.7 差分进化 114 EK	Ac>g
 6.6.8非局部细化 115 &lo<sbd.
 6.6.8.1非局部细化参数 115 g) ofAG2
 6.7  我应该使用哪种技术? 116 @X2 zIFm
 6.7.1  细化 116 as73/J6
 6.7.2  合成 117 vjVa),2
 6.8  参考文献 117 6>3zD)tG
 7  导纳图及其他工具 118 .NJ	Ne
 7.1  简介 118 ]5Q)mWF
 7.2  薄膜作为导纳的变换 118 4av
 7.2.1  四分之一波长规则 119 (Z0.H3
 7.2.2  导纳图 120 "!Nu A
 7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124  J	vl-=~
 7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 {z9,CwJan?
 7.5  斜入射导纳图 141 ?Ld:HE
 7.6  对称周期 141 P_P~c~o
 7.7  参考文献 142 = Qn8Y`U
 8  典型的镀膜实例 143 r3Kx
 8.1  单层抗反射薄膜 145 )h]tKYx
 8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 sZwa#CQK q
 8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 9&HaEAme
 8.4  W-膜层 148 M<x><U#]A
 8.5  V-膜层 149 +f}w+
 8.6  V-膜层高折射基底 150 1]W8A.ZS
 8.7  V-膜层高折射率基底b 151 J[UTn'M8]
 8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 [,Y;#;
 8.9  四层抗反射薄膜 153 l$!Z};mw0E
 8.10  Reichert抗反射薄膜 154 &?I3xzvK
 8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 |}: D_TX
 8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 *c(J4
 8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 ^Ge|tBMoKE
 8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 5>:p'zI
 8.15十五层宽带抗反射膜 159 P@<K&S+f
 8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 c],Zw
 8.17  1/4波长堆栈 162 V0bKtg1f?-
 8.18  陷波滤波器 163 iA4VT,
 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 R0yp9icS
 8.20  褶皱 165 <899r \
 8.21  消偏振分光器1 169 ]>0$l	_V
 8.22  消偏振分光器2 171 Qqd +=mgc
 8.23  消偏振立体分光器 172 }5d|y*
 8.24  消偏振截止滤光片 173 {;38&
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