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摘要 RL Beti> ~>C@n'\lv 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 DONXq]f:," gDHgXDD_b
AY]dwKw 2tz%A~}4 任务说明 t%@sz s"u6po.' 0$RZ~ i?+ZrAx> 简要介绍衍射效率与偏振理论 a]0B{ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 P#^-{;Bu 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 5^kLNNum _v~c3y). 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 6T-h("t 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: m\9R;$\ "*08?KA 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 _ ~q!<-Z )OjTn" 光栅结构参数 zK Rt\;PW 研究了一种矩形光栅结构。 n7Em
t$Hi> 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 G$#Q:]N 根据上述参数选择以下光栅参数: @bPR"j5D 光栅周期:250 nm ;/ wl.'GA 填充因子:0.5 s
&4k 光栅高度:200 nm -cDS+*[ 材料n_1:熔融石英(来自目录) 0L->e(Vf7u 材料n_2:二氧化钛(来自目录) d|I_SI1 YUGE>"{ xIt' o(jQH O}#Ic$38 偏振态分析 b/#SkxW#S 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 _*&I[%I5 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 .>QzM>zO 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 #}M\ J0QG -DVoO2|Dv MP/@Mf\<E aPU.fER 模拟光栅的偏振态 "|N58% W4OL{p-\/
,=_)tX^ fAEgrw%Ti 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 3o_)x 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 WD/\f$4 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 GtuA94=!V& 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 |Do+=Gr$t@ (M0"I1g|w Passilly等人更深入的光栅案例。 >m$jJlAv8 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 wDQ@$T^vh 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ?g{--'L L/J1;
34*73WxK }Z/[ " 光栅结构参数 N_:H kI6 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 MZ2/ks 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 r5RUgt 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 -1_WE/Ps 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 [Xa,|
o*k.je1 2Kkm-#p7 光栅#1——参数
A
".v+ 假设侧壁倾斜为线性。 `e`}dgf0S| 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 R\a6#u3 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 <<=.;`(/v 光栅周期:250 nm TdU'L:<4l 光栅高度:660 nm 0dTHF})m 填充因子:0.75(底部) n1!}d%: 侧壁角度:±6° "|Ke/0rGB n_1:1.46 "L0Q"t: n_2:2.08 eS`ZC!W !"g2F}n
FNN7[ku! CL|d> 光栅#1——结果 aZ,j1j0p 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 6%a9%Is!O 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ~GLWhe-
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^tg 光栅#2——参数 -k?K|w*X 假设光栅为矩形。 SHc?C&^S 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 4<j7F4 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 S.zY0 光栅周期:250 nm sv.?C pE 光栅高度:490 nm s||c#+j"8 填充因子:0.5 mz2 v2ma n_1:1.46 O:]e4r,' n_2:2.08 yMz dM&a!* b$eN]L ~eyZH8& Akdx1h, 光栅#2——结果 `t>A~.f 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 h+c9FN 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 zNO,vR[\ )Z*nm<= cCx_tGR"
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