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摘要 P:gN"f6 [j]3='2}G 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 toCxY+"nbU G$B( AWL
c{dge/2yb 6.!Cm$l 任务说明 ]
3@.) W+C@(}pt (!@
Q\P (79y!&9p 简要介绍衍射效率与偏振理论 23AMrDF=N 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 C Ahkv0?8 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: _*SA_.0 5 B lptC 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 xA-u%Vf7@ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: e /4{pe+, u::2c 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 _ xAL0 ( U?}>A5H 光栅结构参数 4t0B_o" 研究了一种矩形光栅结构。 _rz*7-ks= 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 El}."}l& 根据上述参数选择以下光栅参数: IU8/B+hM~ 光栅周期:250 nm xsPE UK&g 填充因子:0.5 _djr>C=H" 光栅高度:200 nm 4\.1phe$a 材料n_1:熔融石英(来自目录) eco i4f 材料n_2:二氧化钛(来自目录) s:6pPJL Nl3@i`; {q[l4_ *[-% .=[7 偏振态分析 me+F0:L 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !8Rsz:7^- 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 r
pv`% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 /a?*Ap5" YR2Q6}xR yj6o533o Vd-\_VP20 模拟光栅的偏振态 :jol
Nl|a XQW+6LEQ
7g}lg8M 8JP{`) 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: v[r5!,F 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 0wxlsny? 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 PhHBmMGL 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ;^q@w f__r" N Passilly等人更深入的光栅案例。 (~R [K,G Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 '.sS"QdN 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 jIq@@8 @o H8V${&!ho
*?zyF@K{% @A_bZQ@ 光栅结构参数 _&Hq`KJm 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 %>dCAj" 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 3HU_~%l 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 na;U]IK 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 hPs7mnSW
~w&P]L\dB U#I8Rd I, 光栅#1——参数 nN=o/z d 假设侧壁倾斜为线性。 vo9DmW 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Op&i6V}<s 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 R6^U9fDG 光栅周期:250 nm }klET 光栅高度:660 nm k3[%pS 填充因子:0.75(底部) G@YX8!wU 侧壁角度:±6° :x36^{7 n_1:1.46 gWxpGW^eZ~ n_2:2.08 uM!$`JN i8F^ N=
VJK?"mX K3uNR w 光栅#1——结果 \`H"4r[?( 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 J}Q4.1WG$ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Q>jx`68'KI FT*OF 3
w4m-DR5 (;f7/2~` 光栅#2——参数 -^C't_Q o 假设光栅为矩形。 K%Dksx7ow 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 wT;3>%Mtr 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 %?GLMf7) 光栅周期:250 nm f`zH#{u 光栅高度:490 nm FtaO@5pS54 填充因子:0.5 5XK}8\ n_1:1.46 l98.Hb7 n_2:2.08 >/*wlY!E "|{3V:e>a 5H (CP ^
:%"Z& 光栅#2——结果 s:_M+_7_ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 r-27AJu 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 hxIG0d!o wA@y B" L*;XjacI]
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