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摘要 SB)Hz8< e~1$x`DH 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 b/]@G05>> S=zW
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&!z 任务说明 sUl
_W"aQ E%&E<<nhZ ?y|8bw< U|jip1\ 简要介绍衍射效率与偏振理论 FdE9k\E#/) 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 +\GuZ5` 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: gk^`-`P *7`amF- 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 3bK=Q3N 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: w:|YOeP jQX9KwSP 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 i}_d&.DbF UNhM:!A 光栅结构参数 E/Adi^ 研究了一种矩形光栅结构。 a
IgV"3 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 , 9"A"p*R 根据上述参数选择以下光栅参数: xN>+!&3%w 光栅周期:250 nm rhH !-`m 填充因子:0.5 ApotRr$) 光栅高度:200 nm qG8-UOUDt 材料n_1:熔融石英(来自目录) omZ
bn 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Bc1MKE5 'Im&&uSkr MngfXm "SFs\] Z 偏振态分析 wpepi8w, 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 `XK+Y 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 |W;EPQ+< 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 VCCG_K9' g6!#n gVpp9VB k}908%w 模拟光栅的偏振态 q@%9Y3 -FW'i10\2+
;o?Wn=J jKhj 7dR 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: S+M:{<AR 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 idGhWV' 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 F^}n7h=qk 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 A]%hM_5 s (IIOVv
1J Passilly等人更深入的光栅案例。 ;h#nal>w@S Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 SO}en[()O 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 bl-t>aO*.V xO XCCf/
F<^93a9 fH[:S9@ 光栅结构参数 K0\Wty0 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 VsR`y]"g 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 pTzfc`~xv 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 -nKBSls 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 u9^R
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tSo Bl8&g]dk 光栅#1——参数 wA>bL PTw 假设侧壁倾斜为线性。 bcy(
?( 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Mb[4G>-v= 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ICI8xP}a? 光栅周期:250 nm lITZ|u 光栅高度:660 nm $[-{Mm 填充因子:0.75(底部) p!w}hB598 侧壁角度:±6° +6v;(] y n_1:1.46 Y'S9
n_2:2.08 l5d>
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QWWoj[d# ?G>#'T[ 光栅#1——结果 4uUR2J 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 J"dp?i 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 @5-+>\Hd^t v__;oqN0
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'C# 光栅#2——参数 tHo0q<.oX 假设光栅为矩形。 r
,,A% 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 F ttny] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 X@7K#@5 光栅周期:250 nm \w=7L-
8 光栅高度:490 nm >
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R3b 填充因子:0.5 Ev\kq>2O n_1:1.46 L5*,l`lET n_2:2.08 6@HY+RCx 4)3!n*I oFeflcSz e[@
^UY 光栅#2——结果 ~-w 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 XU#nqvS` . 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 'k9hzk(* |V|)cPQ HG%H@uK
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