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摘要 za8+=? )EN,Ry 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 2J`LZS cr^R9dv
(c[DQS j kioIyV\= 任务说明 @*$"6!3s5 >.REg[P O:dUzZR[' ldG$hk' 简要介绍衍射效率与偏振理论 X0KUnxw 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 a$LoQ<f_ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: YIYuqtnSJ mNX0BZ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 n|PW^kOE/ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: *`tQX$F \9}-5
因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 >SD?MW1E EhN@;D+ 光栅结构参数 RLDu5 研究了一种矩形光栅结构。 vNU[ K%U 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 &2W`dEv]? 根据上述参数选择以下光栅参数: h:vI:V[/X 光栅周期:250 nm ulk yP 填充因子:0.5 _Aw-{HE' 光栅高度:200 nm cP0(Q+i7 材料n_1:熔融石英(来自目录) J!zL)u| 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 1oG'm r;fcBepO ?gXdi<2Qn X-%91z:o58 偏振态分析 o^BX:\} 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 PC)V".W1 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 3d_g@x#9 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 SLud}|f;o lq27^K 4WQ
96|F {d,^tG} 模拟光栅的偏振态 I4zm{ 1g &)EL%o5
OEHw% $tebNiP 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: (DTkK5/% 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 6Kd,(DI 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 46c0;E\9 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 0O?!fd n iP?=5j=4 Passilly等人更深入的光栅案例。 E~,Wpl} Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 6^nxw>- 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 o31pF X!]p8Q y
QWK\6 V j_z"t7q 光栅结构参数 Oxh.& 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 2iWxx:e 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 K.6xNQl{} 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 >zv}59M 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 yrR,7vJ
IN!IjInaT@ IQ9Rvnna 光栅#1——参数 G~Fjla\?Q 假设侧壁倾斜为线性。 Y;q['h 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 qg8T}y> 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 X!0m, 光栅周期:250 nm 0bR})}a+Yg 光栅高度:660 nm &0euNHH;sL 填充因子:0.75(底部) xA"7a 侧壁角度:±6° ro@`S: n_1:1.46 EeS VY n_2:2.08 Jgf=yri j;i7.B"[
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AP6PK7 UmA'aq 光栅#1——结果 a(eUdGJ 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 1V 2"sE 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7Ust7% bA3pDt).p
~ny4Ay$# o2NU~Ub 光栅#2——参数 Kyq/o- 假设光栅为矩形。 <*74t%AJ% 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 KN zm)O 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 P/hIJV[ 光栅周期:250 nm G+f@m, 光栅高度:490 nm qi-!iT(fe 填充因子:0.5 swT/
tesj n_1:1.46 9\W }p\c n_2:2.08 l+i9)Fc<i /YH5s= hKYA 5] F;_L/8Ov1 光栅#2——结果 0=Z_5.T> 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 I:%O`F 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 7\1bq&a< QBfsdu<@^ O U3KB
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