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摘要 n=AcN ^H{YLO 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 6]kBG?m0 a/1;|1a. aql8Or1[ = 任务说明 dM P'Vnfj A^A)arJS %~gI+0HK cDE5/! 简要介绍衍射效率与偏振理论 $bFK2yx?= 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ASre@pW 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: I~@8SSO,vH ={V@Y-5T 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Ki7t?4YE 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: (/,l0 0y?;o*&U\ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 :."oWqb) Q~VM.G 光栅结构参数 ~1[n@{*: ( 研究了一种矩形光栅结构。 6N5(DD 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 P)J-'2{ 根据上述参数选择以下光栅参数: Y0A(-" 光栅周期:250 nm \IImxkE 填充因子:0.5 w D r/T3 光栅高度:200 nm a#;;0R $ 材料n_1:熔融石英(来自目录) :zPK 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ^\?Rh(pu =!xX{o?64 #Lp}j?Y ?+^p$'5 偏振态分析 $?bD55 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 MGt>:&s(] 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 IDFzyg_ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 EwA* oW6Hufu+o b/]4#?g ,m5i(WL 模拟光栅的偏振态 RLB"}&SF] 31a lQ\TH !]82$ :Ev
gUA\4 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: .hR
<{P 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 3IlVSR^py 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 k:R\;l5 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 9Ffam# 40h$-
VYT/ Passilly等人更深入的光栅案例。 ~uty<fP Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 , 6X;YY 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 #X?[")R h72/03! 1BU97!
xd^Pkf 光栅结构参数 k'#3fz\ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 kaB|+U9^ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 dX@ic,? 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 @:GqOTN 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 2a
eH^:u nH6SA1$kW `cXLa=B)9 光栅#1——参数 UNa"\ 假设侧壁倾斜为线性。 k1f<(@*` 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 pF-_yyQ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 0P9\; !Y 光栅周期:250 nm o&Xp%}TI 光栅高度:660 nm O8A1200 填充因子:0.75(底部) `@],J 侧壁角度:±6° SYA~I-OYc n_1:1.46 0lg'QG> n_2:2.08 [07E-TT2U
r+E!V'{C K6p\ >J VPYLDg.' 光栅#1——结果 w
a(Y[]V 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 W6NhJ#M7 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 KYm8|]'g Jj>Rzj!m -@"3`uv" Kgr<OL}V J 光栅#2——参数 |kPgXq6 假设光栅为矩形。 1Ys=KA-!_x 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 E2>{se Z 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 _.; PLq~0 光栅周期:250 nm 0j!3\=P$ 光栅高度:490 nm w!6{{m 填充因子:0.5 y,x 2f%x n_1:1.46 (c0L
H n_2:2.08 EtN, z:f&k}( p;}`PW l+"p$iZs 光栅#2——结果 p7Wt(A 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 V4V`0I 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 [S,$E6&j$" :a;F3NJ +a.2\Qt2A
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