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摘要 JQb{?C $\/i t 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 4UbqYl3|a T Tbe{nb
_"*vj-{-y dr#%~I 任务说明 ")ys!V9 )h ,v(Rxa <Hv/1:k} e R[B0;c 简要介绍衍射效率与偏振理论
[<r.M<3 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 2KO`+ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: x7B;\D#`i/ h5P ]`r 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 .3)
27Cjw 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: idHI)6! iB99.,o-& 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 )Q9Qo)D T @GXKqi 光栅结构参数 {'alA 研究了一种矩形光栅结构。 z,ryY'ua/I 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 }r18Y6 根据上述参数选择以下光栅参数: _zbIS&4 光栅周期:250 nm %1
RWF6 填充因子:0.5 @?s>oSyV 光栅高度:200 nm x+~!M:fAc9 材料n_1:熔融石英(来自目录) h[Sd3Z* 材料n_2:二氧化钛(来自目录) X<_HQ XR VZU~ZV z-3.%P2g $+2QbEk&- 偏振态分析 3AENY@* 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 f>xi (0 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 W.s8!KH: 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 1mHS -oI9J G8'{nPA~ 6?lAbW `3? HQ2n 模拟光栅的偏振态 x?A<X2 AEM;ZQU
?=)lbSu
K dHAT($QG 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: D
HQxu4 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 LV1drc 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 #oiU|>3Y 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Q"NZE rF}Q(<Y86 Passilly等人更深入的光栅案例。 (!b)<V* Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 2oc18#iG( 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 )sQ/$gJ Nk7=[y#z
mVS^HQ: I%:?f{\ 光栅结构参数 _'G'>X>}WU 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 X'\h^\yOo 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 r"K!]Vw 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ;:oXe*d 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 G2y1S/
+qpG$#J0 f
tl$P[T 光栅#1——参数 g/68&
M 假设侧壁倾斜为线性。 &:ZR% f 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 <7)sS<I 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 *@^@7`W 光栅周期:250 nm (#6Fg|f4Y 光栅高度:660 nm 6DU(KYN 填充因子:0.75(底部) AB3OG*C9 侧壁角度:±6°
o,?G( n_1:1.46 <L*`WO]\l n_2:2.08 wjH1Ombt yK&
QEut@L N)D+FV29y 光栅#1——结果 Tc"J(GWG 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 x8C\&ivn 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 IIT[^_g \K"7U
31 <0Nw;l 21Dc.t{ 光栅#2——参数 ?[.8A/:5 假设光栅为矩形。 .Mb0++% W 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 |qj"p 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 dR_6j} 光栅周期:250 nm a6;[Z 光栅高度:490 nm JF~9efWe> 填充因子:0.5 ~Gh7i>n* n_1:1.46 e
T;@pc n_2:2.08 ^>ir&$ __7}4mA <%d!Sk4 G9Kck|50 光栅#2——结果 jDQ ?b\^ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 l"+8>Mm 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ZCZ@ZN sCt)Yp+8}B /W*Z.
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