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摘要 iB =R &QaFX,N" 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 Bw]Y71 C 'YL9r-G
e_Ue9c.} >}tm8|IHoo 任务说明 o&
g01t \J>a* h/7m.p] \^$g%a 简要介绍衍射效率与偏振理论 uTgvMkO 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 s}NE[Tw 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: T2Q`Ax7 KiXRBFo 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 \>b
: 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 21b 5 *8V4ca 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 AATiI+\S >h?!6L- d 光栅结构参数 #bz#&vt$ 研究了一种矩形光栅结构。 O_yk< 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Sm@T/+uG: 根据上述参数选择以下光栅参数: U}w,$
Y 光栅周期:250 nm lV4|(NQ9 填充因子:0.5 @2>A\0U 光栅高度:200 nm [8F1rZ& 材料n_1:熔融石英(来自目录) {tq.c9+!d 材料n_2:二氧化钛(来自目录) p~/ O#j&8hQ> 1{TmK9U ~]CQ
DR: 偏振态分析 i&%~:K* 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 T$p!IRPt 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 T*AXS|=ju 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 T d E.e( 2U;6sn*e !'y9/ k/6Qwb# 模拟光栅的偏振态 /I`AwCx =;hz,+
4 f)B@A- k0@b"y* 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: Oz3JMZe 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 3PmM+}j3 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 xL-]gwq 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 >bwB+-l yL |"j{!Ei Passilly等人更深入的光栅案例。 FX"j8i/N Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 +v!%z( 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 iJ&*H)}^ ~pv|
)=~OP>7B Yo 0wufbfV 光栅结构参数 16J"QUuG 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 mE|?0mRA % 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Z1 7=g@ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 A_:CGtv: 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 8-s7^*!
<D_UF1Pk 5]-q.A5m 光栅#1——参数 VLdQXNg9W" 假设侧壁倾斜为线性。 0bl?dOV{ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 U*p;N,SjQ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 QfdATK P 光栅周期:250 nm d[0R#2y= 光栅高度:660 nm ]AB<OjF1c| 填充因子:0.75(底部) CyR1.|!@ 侧壁角度:±6° 5_H`6-q n_1:1.46 C\3;o] n_2:2.08 q(Q$lRj/I- 5$58z
'<Fr}Cn Em<B9S 光栅#1——结果 ?:sk [f6 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 SS)9+0$ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 eYpK!9 rpB0?h!$
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\ U?64 光栅#2——参数 xWiR7~E 假设光栅为矩形。 /h(bMb Z 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ~; V5*t 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 SsY:gp_ 光栅周期:250 nm h /iL/Q= 光栅高度:490 nm <n;9IU 填充因子:0.5 pO_$ 8=G+ n_1:1.46 qh]D=i n_2:2.08 z^FJ )/p=ZH0[ iaV%* d,5,OJY2f 光栅#2——结果 -4;$NiB? 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 #n_ gry!5 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 q*^m8 Ue?mb$ykC. 1(diG&
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