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摘要 hdSP#Y'- M7 kWJ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 z5Tsu1c Hz==,NR-W
v9S=$Aj C8|# 任务说明 I;eoy, 1\Pjz
Lj 6%>'n? Ht\2 IP 简要介绍衍射效率与偏振理论 tm2lxt 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 V|}9bNF 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 4gNN " S7#dyAX8 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 dga4|7-MY 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ) jvI Nb ~UNha/nt 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 X!'C'3 X 1sonDBd0@; 光栅结构参数 84WcaH 研究了一种矩形光栅结构。 .QwB7+V4 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 (c^ {T) 根据上述参数选择以下光栅参数: <p/2 hHfiD 光栅周期:250 nm $?]`2*i 填充因子:0.5 KRcB_( 光栅高度:200 nm /`DKX } 材料n_1:熔融石英(来自目录) d,Oagx 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ~K<h~TNP -zqpjxU: @o^$/AE? .>.GQUr 偏振态分析 SE6(3f$ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !J X7y%J 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 EJb+yy6 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ABkDOG2br WWZ<[[ > F'|e:h -1v9 模拟光栅的偏振态 ~9yKMUf 5y\35kT'
{Q_GJ Pc< "qy 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: wQjYH!u,YZ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 C7* YZe 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 \=im{(0h 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 {f)aFGp dh [kx Passilly等人更深入的光栅案例。 n8_X<jIp3 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 T#E$sZ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 fHEIys,{ k}&wy
D6&P9e_5 GA[D@Wy 光栅结构参数 hif;atO 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 *ls6k`ymL 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 bPP@ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 KW[y+c u.# 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 8Q<Nl=g>'
ly0L)L]\ 7 vFmB 光栅#1——参数 'PY; 假设侧壁倾斜为线性。 t=@d`s:R2 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 :/szA?:W 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 b|DU 光栅周期:250 nm qCfEv4 光栅高度:660 nm r,0D I 填充因子:0.75(底部) 24? _k]Y 侧壁角度:±6° ]GY8f3~|{ n_1:1.46 LmqSxHs0Q n_2:2.08 ]?D$n JQ0Z%;"
Y<VX.S2kf 5YNAb/!!F 光栅#1——结果 m?B=?;B9# 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Oy=0Hsh@x 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 &&P9T/Zks *<:X3|3E
50-7L, #t(/wa4 光栅#2——参数
*~U.36 假设光栅为矩形。 W$SV+q(rT 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。
lqL5V"2Y 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 {S9gOg 光栅周期:250 nm 9=]HOUn 光栅高度:490 nm [#Gu?L_W 填充因子:0.5 %po;ih$jr* n_1:1.46 sfw*_}y n_2:2.08 $poIWJM c ciml:"nQ .$x}~Sw !]g[u3O 光栅#2——结果 /]Y#*r8jRi 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 oYf+I 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ^$O(oE(D ),B/NZ/- *f;$5B#^
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