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摘要 R'`'q1=R |u?VlRt 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 fn,hP_ zs Q|LwQ
!CX WoM -JF^`hBD- 任务说明 *l{epum; QEf@wv;T 0&|0l>wy. j\IdB:}j 简要介绍衍射效率与偏振理论 a{r"$>0 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 QK+,63@D\= 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: P9'`
2c O7
aLW 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 vE'{?C=EM 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: O 1z0dHa 96<oX:# 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 QHZ",1F p__wBUB 光栅结构参数 aH{)|? 研究了一种矩形光栅结构。 zaHZ5%{LQD 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 -)oUb=Lk{ 根据上述参数选择以下光栅参数: \alV #>J5 光栅周期:250 nm |mQ Fi\ 填充因子:0.5 EZ .3Z` 光栅高度:200 nm uStAZ~b\ 材料n_1:熔融石英(来自目录) _C?Wk:Y@ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) /m"/#; ^l N$]er'` aqI"4v]~b T8z?_ *k 偏振态分析 ft(o-f7, 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 &N/t%q 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 `L`+`B 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 )xyjQ|b )e?&'wa> `R8&(kQ K#wA ; 模拟光栅的偏振态 1B2#uhT]r Yw3'9m^
&R<aRE:+R :LNE?@ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 1]2]l*&3 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。
< v] 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 ~h@@y5<4 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 @h{|tP%" (4L/I Passilly等人更深入的光栅案例。 hvw9i7# Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ~/`/r%1/J 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 nFEJO&1+ EYq?NL='
c("|xe (4R(5t 光栅结构参数 *tF~CG$r 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 3 2\.-v 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Dd5
9xNKm 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 WMa0L&C~v 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 RtMI[
LOx+?4|y ~U&NY7.@ 光栅#1——参数 eTS}- 假设侧壁倾斜为线性。 4@?0wV 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 #,d~t 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 sg
$db62> 光栅周期:250 nm a'i
Q(" 光栅高度:660 nm lln"c 填充因子:0.75(底部) Sf, z 侧壁角度:±6° tbRW6 n_1:1.46 {]R'U/ n_2:2.08 +H2Jhgi ~ 1h#
[b3!H{b# :]-oo*xP 光栅#1——结果 %PYl 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 t_3j_` 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 P9cx&Hk9 PdcIHN
X,|8Wpi= lnZ{Ryo( 光栅#2——参数 LlQsc{Ddf 假设光栅为矩形。 YvU%OO-+, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ~wb1sn3 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 fc9;ZX7 光栅周期:250 nm Y_'ERqQ 光栅高度:490 nm
7=6:ZSI 填充因子:0.5 9* )&hhBs, n_1:1.46 6 Xvpk1 n_2:2.08 03 @aG pr0X7 #_E5 A>@#eyB OM\J4"YV$ 光栅#2——结果 xo"GNFh! 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 aDbqh~7 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Ia&*JYM[ T+0=Ou"N ?,vLRq.
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