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摘要 Ja3#W
K |2^mCL.r 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 [1(eSH ,.P]5 lE
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|,M ;b [>{Q; 任务说明 LE}`rW3 wBpt
W2jA %@:>hQ2; |gA@$1+} 简要介绍衍射效率与偏振理论 rmw}Ui" 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 h's[)
t 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: ]xvhUv!G l#cVQ_^" 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 KN_n :`cH{ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: O])vR< [ dwB#k$VIOw 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ^r}Uu~A> 49E|
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^q 光栅结构参数 <IR@/b!, 研究了一种矩形光栅结构。 =Jl\^u%H(x 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 &H# l* 根据上述参数选择以下光栅参数: Ds]
.Ae 光栅周期:250 nm mL1ZSX
o! 填充因子:0.5 %u%;L+0Q[ 光栅高度:200 nm MMa`}wSs 材料n_1:熔融石英(来自目录) wOL%otEf 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ;
]%fFcy PYQ Jy:@&c Q']'KU. 偏振态分析 ){GJgk|P 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 %tkqWK: 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 lg-`zV3 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 _RcEfT
=X'EDw !(bYh`Uy CPa+?__B 模拟光栅的偏振态 mu0L_u(P @B{
R5MN;xG^ &z3_N 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 7oLl RU 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 7]u_ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 2O(k@M5E? 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 TS=%iMa gz'{l[ Passilly等人更深入的光栅案例。 ~ xam ;]2 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ++w{)Io Z 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 Pi[]k]XA\ 0F!Uai1
eiOAbO#U dG3?(}p+ 光栅结构参数 `o_i+?E 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ,f>^q" 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 5Mxl({oI] 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 RU.j[8N$ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 tvJl-&'N
M2:3k ~>]Ie~E: ( 光栅#1——参数 o}36bi{ 假设侧壁倾斜为线性。 .}R'(gN\6 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 x6T$HN/2 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 y54RD/`- 光栅周期:250 nm kVWrZ>McK 光栅高度:660 nm 31g1zdT! 填充因子:0.75(底部) Rp
zuSh 侧壁角度:±6° M9Z9s11{H n_1:1.46 ,9:v2=C_ n_2:2.08 mV7_O// UGOe(JB
UT_t]m UWCm:eRQ 光栅#1——结果 1:h(8%H@" 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Nde1`W]: 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ' z^v}~ qk&BCkPT
Hb!A\;> }sZy |dd 光栅#2——参数 >Y3zO 2Cr 假设光栅为矩形。 W70BRXe04D 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 &@&^k$du8q 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 GO#eI]>/r 光栅周期:250 nm wGz_IL.D 光栅高度:490 nm jN+2+P%OL 填充因子:0.5 p{V(! v| n_1:1.46 '~6l
6wi n_2:2.08 +I~U8v- Df$Yn )6he;+ n 8| 光栅#2——结果 1kc{`oL 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 n<[H!4 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 '(:R-u!pp RCGpZyl :)Nk
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