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摘要 Y]R;>E5o| >^fkHbgNQ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 {v>orP? ^Gs=U[** GE{u2<%@ PLmf.hD \ 任务说明 4dwG6- lZa L=HS#L m|5yET gZD,#D.hR 简要介绍衍射效率与偏振理论 zz1e)W/ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 e:&(y){n( 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: pl{Pur ;i 7u9!:}Tu 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 If*t$f>y4N 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~20O&2 z sZP\ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为。 Jm l4EW7 _Bh ^<D- 光栅结构参数 gADEjr*H 研究了一种矩形光栅结构。 2X t$KF,? 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 '[nH]N 根据上述参数选择以下光栅参数: `zJTVi4 光栅周期:250 nm [N-t6Z* 填充因子:0.5 H[a1n' "<: 光栅高度:200 nm lB0: 4cIj 材料n_1:熔融石英(来自目录) fq"<= 材料n_2:二氧化钛(来自目录) rz@;Zn Jt3]'Nr04@ m:1f7Z> 8
)w75+& 偏振态分析 _26~<gU8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ,%FBELqOW 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 oq<n5 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 2sOV3~bB ^mu?V-4 M@n9i@UsO z&6TdwhV 模拟光栅的偏振态 Yb<t~jm (\QkXrK wlM"Zt Wy2 pa
#Q 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: b@yGa%Gz@ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时,。这说明衍射光是完全偏振的。 Q@in?}; 对于𝜑=22°,。此时,67%的光是TM偏振的。 Xy>+r[$D: 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Q599@5aS =psX2?%L Passilly等人更深入的光栅案例。 @GB~rfB[ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 kAEm#oz=g 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 #sOkD !XvQm*1 .5',w"R #N=!O/Y 光栅结构参数 PN!NB. 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 `(r[BV|h} 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 3}@!TI 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 jORU+g 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 uHv9D%R n6PXPc J~6-}z 光栅#1——参数 c({V[eGY 假设侧壁倾斜为线性。 <23oyMR0 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ?(&)p~o 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 }4!R2c 光栅周期:250 nm ;_.%S *W\ 光栅高度:660 nm ~v2E<S3 填充因子:0.75(底部) 0$ -N 侧壁角度:±6° ;'.[h*u~< n_1:1.46 `Ns$HV n_2:2.08 *LTFDC -/>SdR$D7 5$,dpLbL
u;fD4CA 光栅#1——结果 rKR2v(c 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 U{2[nF 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 e B`7C"Z ):@XMECa t,mD{ENm& 0]C~CvO 光栅#2——参数 pq 4/>WzE 假设光栅为矩形。 Pa.D+ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 vjy 59m 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 +ht -Bl 光栅周期:250 nm KaJCfu yp 光栅高度:490 nm JmJ8s hq 填充因子:0.5 2qY`*Y.2 n_1:1.46 zj ;'0Zu n_2:2.08 xwZcO _;]
3w : Gp,d*M r sf +dC 光栅#2——结果 cxBu2(Y 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 '!)|;qe 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 }uJH!@j l-Hp^|3Wq oUMY?[Wp
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