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摘要 D(@S+r_ota XSwl Tg 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 MC&` oX[ 5FPM`hLT
x*\Y)9Vgy ,GhS[VJjR 任务说明 ojm @t [B*x-R[FI '5#^i: @|Cz-J;D 简要介绍衍射效率与偏振理论 g-4M3of 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 :(U,x<> 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: [:
n'k z3{G9Np 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 z>1Pz( 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ,a{P4Bq Y#ap* 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 A_"w^E{P g>E LGG|Q 光栅结构参数 IEL%!RFG 研究了一种矩形光栅结构。 sg^zH8,3 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 hIYNhZv 根据上述参数选择以下光栅参数: 1W
c=5! 光栅周期:250 nm D=A&+6B@- 填充因子:0.5 D%[mWc@1I 光栅高度:200 nm *?@?f&E/ 材料n_1:熔融石英(来自目录) ~TF: .8 材料n_2:二氧化钛(来自目录) %?1ew Fk&c=V;SU r8t}TU>C f=+mIZ 偏振态分析 '0;l]/i. 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 v4!VrI 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 M5LfRBO 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 etQCzYIhn !NK1MU?T) B6+khuG( ]6,\r" 模拟光栅的偏振态 +q<jAW A ,C\i^>=
YR\fa Vk etDk35!h~, 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: kM l+yli3c 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 /obfw^ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 E:_ZA 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 0(}t8lc LtF,kAIt7v Passilly等人更深入的光栅案例。 4&lv6`G ` Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 biD$qg 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 >{n,L6_t Wx%H%FeK
wYXQlxd y pZ{+c 光栅结构参数 :as$4| 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 @Sn(lnlB 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 \ A#41
由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 *!t/"b 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Xf]d. :
:uS\3toj @CL{D:d 光栅#1——参数 !;v|' I 假设侧壁倾斜为线性。 ZgcMv,= 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 9d659iC 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 (*'f+R`$ 光栅周期:250 nm O"9\5(w 光栅高度:660 nm '3fu 填充因子:0.75(底部) (NU
NHxi5B 侧壁角度:±6° nPl?K:( n_1:1.46 g3/W=~r n_2:2.08 pofie$ ES7>H
YnAm{YyI 8qTys8 光栅#1——结果 X`>i&I] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 *vxk@`K~ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ]neex|3lG sIGMA$EK
& l&:`nsJ l<LI7Z]A 光栅#2——参数
xF'EiX ~ 假设光栅为矩形。 ] 72`}; 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 [D4SW# 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 7'V@+5 光栅周期:250 nm w``ST 光栅高度:490 nm Fj3a.' 填充因子:0.5 97C]+2R%^ n_1:1.46 ~Otoqu| n_2:2.08 @,7GaK\ bJ {'<J nT$SfGFj8 +_oJ}KI 光栅#2——结果 8^1 Te m 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 0-Ku7<a 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 `e&Suyf4B >tV{Pd1 8dIgjQX|
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