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摘要 "yz@LV1 1%:A9%O)t 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 %FRkvqV* AP~!YwLW
J *B`C^i 0y1t%C075 任务说明
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c#p0 TDseWdA 简要介绍衍射效率与偏振理论 .5z|g@
6 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 tsa6: D 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: u,]yd* G?g7G,|d 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 S:j0&* 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~iSW^mi g[n8N{s 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 <wA_2S
Y 0jS/U|0 光栅结构参数 lt]U?VZ 研究了一种矩形光栅结构。 !6%mt} h 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 LH8?0N[ 根据上述参数选择以下光栅参数: :({<"H)!' 光栅周期:250 nm th<]L<BP/ 填充因子:0.5 )}aF=% 光栅高度:200 nm W
| }Hl{} 材料n_1:熔融石英(来自目录) :tgTYIF 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ][mc^eI0s| {+EPE2X=C 93dotuF |)_R
bqZ 偏振态分析 gdT_kb5HL8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 %!S 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 SrtmpQ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 y{sA[ " {?iqO? nXS%>1o, 2uTa}{/% 模拟光栅的偏振态 qw/{o:ce] L_r &'B
K_aN7?#.v` {|%O)fr, 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: #Q"vwek 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 <j#EyGAV 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 #.)>geLC>9 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 a< EC]-nw F~AS(sk Passilly等人更深入的光栅案例。 a\w|tf Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 z,)sS<t( 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ,Aii>D] U!5*V9T~J
\_E.%K -Tx tX8v 光栅结构参数 =1VH5pVr} 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 *
2%e.d3"M 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 u2<h<}Y 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 yh:,[<q 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 l/^-:RRNKi
uH[0kh ^j %UZ 光栅#1——参数 Yn>zR I 假设侧壁倾斜为线性。 'qJ-eQ7e 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 -#6*T,f0P( 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 l,FoK76G 光栅周期:250 nm Jf$wBPg 光栅高度:660 nm DcA'{21 填充因子:0.75(底部) (do=o&9pm 侧壁角度:±6° N -]PK%* n_1:1.46 ]Qr8 wa>Z n_2:2.08 EC'bgFe 836m5/kH[
[{F7Pc 29^bMau)v 光栅#1——结果 6sl<Z=E# 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 6W;kIoB 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 yXx62J b]BA,D4
Mqp68% 0
0&$SE 光栅#2——参数 )c/y07er 假设光栅为矩形。 k+$4?/A 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 %n25Uq 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 zI! R-Nb 光栅周期:250 nm QV$dKjMS 光栅高度:490 nm q&Wwtqc9 填充因子:0.5 :QV6z*#zD n_1:1.46 0t?<6-3`/ n_2:2.08 JK"uj% MIF[u:& #.+*G`m cGta4; 光栅#2——结果 D{c>i`\G 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 $Wzv$4; 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Y0O<]2yVx hX| UE oy
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