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摘要 oim9<_ k}kQI~S9 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 j_!F*yul 7uS~MW
jrlVvzZ :Ij{s 任务说明 n.`($yR_ J6s`'gFns \FbvHr, u<6<iD3y 简要介绍衍射效率与偏振理论 uk<4+x,2) 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 "3)C'WlEy/ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: x=hiQ>BIO0 8>2.UrC 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 |+FubYf?$ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: HZzD VCU 7a=gH2]& 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 DnMwUykF>0 W#4 7h7M 光栅结构参数 H1pO!>M 研究了一种矩形光栅结构。 QuF:p 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 \}u
Y'F 根据上述参数选择以下光栅参数: c)TPM/>(p 光栅周期:250 nm F#,90F' 填充因子:0.5 BOb">6C 光栅高度:200 nm B4c]}r+ 材料n_1:熔融石英(来自目录) N=T<_`$5 材料n_2:二氧化钛(来自目录) JIEK*ui =r?hgGWe ??-[eB. ld|5TN1 偏振态分析 G\/zkrxmv 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 o]J{{M'E 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 F'={q{2wH 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 V%7WUq Gv!2f 9-VNp;V qOIyub 模拟光栅的偏振态 [64:4/<} 3Gp$a;g
sQUM~HD\a 4x=v?g& 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: a+[KI 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 tzWSA-Li 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 AP n| \ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 !1jBC.G1 Q04al= Passilly等人更深入的光栅案例。 #px+;k5 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 /wQy17g 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 -/wtI 2@n{yYwy
}Sm(]y s[RAHU 光栅结构参数 e/KDw 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 R$h<<v)% 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 {g'(~ qv 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 IA fcT!{ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 g+8OekzB5
[SjqOTon{ ttaM. 光栅#1——参数 i^/T 假设侧壁倾斜为线性。 MD}w Y><C 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 }kw#7m54 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 lZd(emH@ 光栅周期:250 nm .Yamc#A- 光栅高度:660 nm / H[=5 填充因子:0.75(底部) sNbxI|B 侧壁角度:±6° NlA,'`, n_1:1.46 e[{0)y>= n_2:2.08 A6 ]{;gw<T
AwCcK6N1 -mbt4w 光栅#1——结果 =Pyj%4Rs 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 {UX!go^J 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 z{%<<pZ lne|5{h
[7:,?$tC DHg:8%3x 光栅#2——参数 =eq[:K<6 假设光栅为矩形。 0.Q
Ujw 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 RF?`vRZOe 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 v8w q,CYV 光栅周期:250 nm G~]Uk*M
q 光栅高度:490 nm #JqB ;'\ 填充因子:0.5 ^7`BP%6 n_1:1.46 (=FRmdeYl1 n_2:2.08 3xy<tqfr WSPI|#Xr% 3#n_?- ]]HNd7Vh 光栅#2——结果 Ex.yU{|c 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 =?5]()'*n 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 K,tQ!kk 4XL^D~V OMky$d#
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