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摘要 j B{8u&kz) fI|$K)K 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 dqcL]e |JsZJ9W+J
;<4a*;IO %B?=q@!QWn 任务说明 RT8 ?7xFc ,<X9 Y2B Gav$HLx bvOq5Q6 简要介绍衍射效率与偏振理论 0<*<$U 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 :Llb< MY2 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: wb ;xRP"w HjwE+: w 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 B`sAk
% 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 'Z]w^< PQE=D0 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 /g.U&oI]D 7uk[Oy<_ 光栅结构参数 z'7]h TA 研究了一种矩形光栅结构。 TkF[x%o 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Pc]HP 根据上述参数选择以下光栅参数: 1xx}~|F?| 光栅周期:250 nm 5~S5F3 填充因子:0.5 |1Z)E+q*: 光栅高度:200 nm @PIp*[7oC 材料n_1:熔融石英(来自目录) NX&_p!_V 材料n_2:二氧化钛(来自目录) wdoR%b{M -I%5$`z @E8+C8' _(zG?]y0P 偏振态分析 #rg6,.I)< 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 A?0Nm{O;3v 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 og>uj>H& 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 2+WaA, CU~PT. _WbxH c4z R* 模拟光栅的偏振态 Y|/ 8up UL9n-M=
:fJN->wY^s V G~Vs@c( 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: . 'yCw#f 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 P+HXn8@ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 EBmt9S 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 d0 /#nz Ht&YC<X Passilly等人更深入的光栅案例。 LXCx~;{\
Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 kvj#c 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 9Gz=lc[!7 xd0 L{ue.
>KKMcTOYY \.}c9*) 光栅结构参数 |gY^)9ei 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 E<*xx#p 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 J?$,c4;W2 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 n._-!
WI 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 _Bj":rzY
|vzl. ^"- ^d73Ig:8q 光栅#1——参数 pmYHUj
# 假设侧壁倾斜为线性。 rU(+T0t?I 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 uXl3k:_n 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 f|oh.z_R 光栅周期:250 nm h
zn6kbv 光栅高度:660 nm ;xn0;V'= 填充因子:0.75(底部) p{dj~ &v 侧壁角度:±6° wwcBsJ1{ n_1:1.46 ku
M$UYTTX n_2:2.08 o[D9I
hs 3HK\BS
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@fk] ]R )Xyn
q( 光栅#1——结果 }W,[/)MO 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 IO:G1;[/2L 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 f(7GX3? *}W_+qo"
bi;1s'Y<D iDrZc
光栅#2——参数 UJ6v(:z< 假设光栅为矩形。 C+&l<
fM& 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 %vi83%$'4 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 JOBhx)E 光栅周期:250 nm 18:%~>.! 光栅高度:490 nm ?=pT7M 填充因子:0.5 b5n'=doR/I n_1:1.46 )@bQu~Y n_2:2.08 ]5:8Z@ Od)C&N=y ^5
Tqy(M d m%8K6| 光栅#2——结果 <1M-Ro?5k 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Ozf@6\/t 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ;gr9/Vl r",GC] SByW[JE
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