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摘要 4sX?O4p }2\Hg 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 h~qv_)F_ ^hr# 1
DZ4gp \gK'g-)} 任务说明 V|F/ynJfA P)XR9&o': ,7Ejb++/M, Yakrsi/jV} 简要介绍衍射效率与偏振理论 1<m.Q* 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 X\w["!B 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: u~VXe IwS<p- 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 }eI9me@Aa 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程:
j=G f3^qO9R 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 j^v<rCzc( /?0|hi<_$ 光栅结构参数 "=KFag 研究了一种矩形光栅结构。 >|gXE> 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 O*lIZ,!n 根据上述参数选择以下光栅参数: 7xY&7 x(v 光栅周期:250 nm GMkni'pV 填充因子:0.5 {.0I!oWv 光栅高度:200 nm +fKV/tSWi 材料n_1:熔融石英(来自目录) J5O/c,?g 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Tr4\ `a-i \TnK<83 @[`]w`9Q7 ^|vP").aQm 偏振态分析 2P${5WT 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 pIug$Ke_% 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 lp5'-Jo 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 X+HPdrT F&^&"(H} :oYSvK7> U#sv.r/L}3 模拟光栅的偏振态 aqI m W ?5;wPDsK
(&V)D?/hS .QA1'_9 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: =h?%<2t9< 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 +z#+}'mT% 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 hOV5WO\ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 __uk/2q 09 f;z Passilly等人更深入的光栅案例。 3h%Nd&_9 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 <VQ@I 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 !}c\u x%T^:R
gx eu2HG D vN0h(? 光栅结构参数 |%rRALIY 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 6/p9ag] 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 QW_v\GHx 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 .m%5Esx 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 J-G)mvkv
L$ ^ew0C %kH,Rl\g 光栅#1——参数 jaVx9FR+ 假设侧壁倾斜为线性。 o)CW7Y#?, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Uxe]T 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 :RYYjmG5;
光栅周期:250 nm /Tw $}8 光栅高度:660 nm vfVF^
WOd 填充因子:0.75(底部) Wcl =YB% 侧壁角度:±6° VG$%Vs n_1:1.46
nJ1<8 p n_2:2.08 ?VTP|Z AT2D+Hi=E
zP@\rZ @4 P8w56 光栅#1——结果 *$JS}Pax 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Fa </ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 5g'aNkF6> dDA&\BuS
Pp4Q)2X =BV_? 光栅#2——参数 CHL5@gg@>y 假设光栅为矩形。 O -p^S 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 -:Juxh 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 se bm 光栅周期:250 nm
Y8fel2; 光栅高度:490 nm p}K+4z 填充因子:0.5 z~1S/,Ca n_1:1.46 |uRYejj#j n_2:2.08 KEq48+j m
(kKUv n^|7ycB' =^zOM6E1ZF 光栅#2——结果 YPw=iF] 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 z}*L*Sk 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 y>r^ MQ c.>OpsF /$FpceB!W
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