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摘要 b*'=W"%\ a'_MhJ zs 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 H0D>A<Ue X] JpS
+!L_E6pyXE ADLa.{ 任务说明 e6{[o@aM{ ecY ^C3+S 'K;4102\ Y2=Brtc[@ 简要介绍衍射效率与偏振理论 RS||KA])J 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 uhC= 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: \pewbu5^ rB.=f[aX[ 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 <\}Y@g8 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: $+lz<~R N#pl mPrZ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 hVT=j ?~
:kp 光栅结构参数 \4\\575zp' 研究了一种矩形光栅结构。 E+^} B/"
为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 DmXDg7y7s 根据上述参数选择以下光栅参数: +c]N]?k& 光栅周期:250 nm BqLtTo ?' 填充因子:0.5 @ V7ooo! 光栅高度:200 nm ZyS;+" 材料n_1:熔融石英(来自目录) ~x0-iBF 材料n_2:二氧化钛(来自目录) (jo(bbpj pE(<XD3Q YL9t3] p(x1D]#Z[ 偏振态分析 &-8-xw#. 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 os(Jr!p_= 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 9p[W :)P4d 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 WB=<W#?w7% Z0F>"Z_qn G3_mWppH 4ye`;hXy 模拟光栅的偏振态 Hz3 S^o7 U&w5&W{F}
6XOpB^@ M|Dwk3# 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: $^NWzc 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 "f&i 251 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 d,oOn.n& 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 :d%
-,v LKqog%,c Passilly等人更深入的光栅案例。 3|83Jnh Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 ;GSFQ:m[ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 :E >n)_^ 2ucF(^
?CUp&L0-" o$blPTN 光栅结构参数 }*}`)rj, 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 YW$x: 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 { ck 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 Y8`))MeD 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 .z-^Ga*
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p=`x 光栅#1——参数 vZ nO 假设侧壁倾斜为线性。 uDE91.pUkr 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 L$TKO,T 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 k,NU,^ & 光栅周期:250 nm bZOy~F| 光栅高度:660 nm L$u&~"z- 填充因子:0.75(底部) 7].IT( 侧壁角度:±6° y8~)/)l& n_1:1.46 zIYr0k*% n_2:2.08 Acq>M^E3 WH*=81)zp
S4:\`Lo-; 1M~:]}*< 光栅#1——结果 b1,T!xL 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 }PIGj} F/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 :AE;x& W'2-3J
}rMpp[ QRmQ> 光栅#2——参数 }b]y
0" 假设光栅为矩形。 iJaNP%N 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ! ?U^+)^$ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 /DG`Hg 光栅周期:250 nm Tk#&Ux{ZJ 光栅高度:490 nm '3_B1iAv 填充因子:0.5 Q0"F> %Cn n_1:1.46 =3v
1]7X n_2:2.08 hPXVPLm7I p|9ECdU>; U` nS` p FiU;>t<) 光栅#2——结果 v"('_! 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 4FHX#` 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。
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