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摘要 rx^vh%/
Q! `_L=~F8 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 I W_:nm6 \L14rQ
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z!09vDB^ {bF95Hs- 任务说明 mi~BdBv @&f3zq oYWcX9R LM_/: 简要介绍衍射效率与偏振理论 !X 3/2KRP7 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 i?^Cc\gH 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: mPR(4Ol. j\w>}Pc 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 6km{=
``` 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: p{:r4!*L QiU!;!s 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 +cAN4 >m!l5/ 光栅结构参数 Nkfu k 研究了一种矩形光栅结构。 4uip!@$K 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 YM9oVF- 根据上述参数选择以下光栅参数: )2Gp3oD? 光栅周期:250 nm ailje 填充因子:0.5 Is6<3eQ\x 光栅高度:200 nm yVPkJ 材料n_1:熔融石英(来自目录) v2<roG6.V 材料n_2:二氧化钛(来自目录) /*GRE#7S H~~I6D{8 rN|c0N EXz5Rue
LV 偏振态分析 tK&.0)*= 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 LX<c(i 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 6p/gvpZ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 0y4z`rzTn kmM4KP#&| g
j`"| nbYkr*: "t 模拟光栅的偏振态 U5mec167
~Z5?\a2Ld
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uh`@ qmu) 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: hoASrj{s 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 JWG7QH 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 JH!qGV1 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 o a,Ju v>Il# Passilly等人更深入的光栅案例。 ]>@;
2%YvY Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 <p(&8P 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 :=04_5 z 9frx 60
5|1&s3/f z)5n&w
S 光栅结构参数 {Ny\9r 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。
1W;3pN 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 jG{}b6 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ( DwIAO/S 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Sm#;fx+
Pi6C1uY6 G*BM'^0+ 光栅#1——参数 32:,g4!~6 假设侧壁倾斜为线性。 S6H=(l58 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 PK C``+Ki 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 o]#Q6J 光栅周期:250 nm TMG:fg&E~ 光栅高度:660 nm G;Y,C<)0k 填充因子:0.75(底部) c%)uG _ 侧壁角度:±6° X.s?=6}g n_1:1.46 }eb%"ZH4| n_2:2.08 M@Q=!!tQ( 6K P!o
)T#;1qNB U6X~]| o 光栅#1——结果 ^iubqtT] 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 S^)r,cC 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 )F? 57eh H'I|tPs
LH4-b- !U>"H8}dv 光栅#2——参数 Xkl^!, 假设光栅为矩形。 J+\F)k>r 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 O)Nt"k7
b 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 sNvT0 光栅周期:250 nm RYE::[O7 光栅高度:490 nm joDfvY*[ 填充因子:0.5 `P/* x[? n_1:1.46 q22cp&gmX n_2:2.08 }U'5j/EFZ ;~]&$2sk zwU8i VDe |@nvg>mu 光栅#2——结果 ?xQlX%&`6 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 &;)~bS( 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 T|.Q81.NE cYR6+PKua ]Jnf.3
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