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摘要 |#DC.Ga! s|{^ }4{ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ",MK'\E +Fu@I{"A
S(g<<Te G=r(SJq 任务说明 c7FfI"7HR R-g>W LV}UBao5n m NUN6qVP~ 简要介绍衍射效率与偏振理论 BxSk%$J 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 '0'"k2"vC 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: }Q{
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jV|.? 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 r6O7&Me< 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: syWv'Y[k? az:~{f*- 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 Y(#d8o}}# (5f5P84x 光栅结构参数 1jZDw~ 研究了一种矩形光栅结构。 "}]GQt< F 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 /o<}]]YBF 根据上述参数选择以下光栅参数: *tq|x[< 光栅周期:250 nm ZaukMEq 填充因子:0.5 9E->;0- 光栅高度:200 nm 1+16i=BF) 材料n_1:熔融石英(来自目录) tj"v0u?zW 材料n_2:二氧化钛(来自目录) y]z)jqX< +(QMy&DtS 1cHSgpoJ zVc7q7E 偏振态分析 g6[/F-3Qlf 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ZbZAx:L 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 2;Y@3d:z 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 4'}_qAT S5*~r@8h Z?.p%*>`T= brYYuN|Vc 模拟光栅的偏振态 x8SM,2ud wB1|r{
HggR=>s 3zA8pI w 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: ReHd~G9 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 v)C:E 9!| 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 QC\, 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 "a0u-}/D 7{kpx$:_ Passilly等人更深入的光栅案例。 bgzT3KZ Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 lH,]ZA./ 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 FkJ>]k e~>p.l
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q> ard3yNQt 光栅结构参数 VtzyB 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 s5zGg]0 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 (8@hF#N1 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 {g!exbVf 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 }]39
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Vlp*'2VO R>e3@DQ~ 光栅#1——参数 02J6Pn3 假设侧壁倾斜为线性。 `%mBu`A 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ) v[Knp' 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 >jrz;r 光栅周期:250 nm :m)Rmwn_ 光栅高度:660 nm V'.eesN 填充因子:0.75(底部) $D,
wO 侧壁角度:±6° .
tH35/r n_1:1.46 @E"+qPp.3 n_2:2.08 u\1Wkxj iu6WGmR
=-Q zZ+LisS s& 光栅#1——结果 eRl?9 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Y;> p)'z 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 q/w6sQx$ =:n[{/O=
a`@<Z sR C5s N[ 光栅#2——参数 MMxoKL 假设光栅为矩形。 kq1M<lk 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 m)[wZP*e 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 -B3wRAEt 光栅周期:250 nm jKCqH$ 光栅高度:490 nm Eip~~2 填充因子:0.5 Xv5Ev@T n_1:1.46 P B6/<n9# n_2:2.08 v4k=NH+w K}5$;W# QhE("}1 [@. jL0> 光栅#2——结果 E~Up\f 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 d$?n6|4 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 1(;33),P8 #Mem2cz Kt* za
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