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摘要 <eoie6@3 G3~`]qf
光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ){*+s RBW %up?70
mHxR4%i5 lH}KFFbp 任务说明 {'5"i?>s0> Upe}9xf qhEv6Yxfw6 ?13qDD: 简要介绍衍射效率与偏振理论 Cf
2@x 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 cJ;Nh>ey 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: wI$a1H FJ:^pROpm 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 *yu}e)(0 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: =~B"8@B JZ:@iI5>+ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 >]\I:T ieFl4hh[G 光栅结构参数 X\AH^I6S 研究了一种矩形光栅结构。 ,#K/+T 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 A&Y5z[p 根据上述参数选择以下光栅参数: qCV<-o 光栅周期:250 nm qqrjI. 填充因子:0.5 '<R>cN" 光栅高度:200 nm ^"WVE[" 材料n_1:熔融石英(来自目录) e-nA>v 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 3v/B*M VI \^x{NV@v42 =p+y$ &mwd0%4 偏振态分析 /Mqhx_)>A 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 S<tw5!tJ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 ?sf<cFF 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 KdkA@>L!; lW+mH= $[ {5+ * VdLoi\-/L 模拟光栅的偏振态 a=iupXre9 JVZ-nHf(9
E}@C4pS A,}M ^$@ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: p3I"LY 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 %;PpwI 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 h>-P / 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 . %RM8 C($l'jd& Passilly等人更深入的光栅案例。 !+l'<*8V Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 =!q%
1 mP 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 w!.@64- al2t\Iq90
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}qNc `8h 光栅结构参数 }E'0vf/ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 fab'\|Y 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 =BJe)!b 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ,,H "?VO 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。
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,YYEn^:> GG}% 光栅#1——参数 _?{7%(C 假设侧壁倾斜为线性。 }A#IBqf5 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 _P>YG<*"kQ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 "yWw3(V2> 光栅周期:250 nm @:lM|2: 光栅高度:660 nm ).T&fa" 填充因子:0.75(底部) 6TtB3;5 侧壁角度:±6° xoaO=7\io n_1:1.46 @<.@X*#I n_2:2.08 ?,} u6tH [>=!$>>;8
<`H0i*|Ued oMh$:jR $ 光栅#1——结果
~+q1g[6 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。
bGRt 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 i?00!t dP5x]'"x
x7j#@C 1b,a3w(:1 光栅#2——参数 #6`5-5Ks; 假设光栅为矩形。 .Y)[c.,j 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 baxZ>KNi 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 f5jl$H. 光栅周期:250 nm 91-bz^=xO 光栅高度:490 nm /d`"WK, 填充因子:0.5 rzjVUPdnh n_1:1.46 'ofj1%c n_2:2.08 zWsr|= [ DaQ"Df_X @6u/)>rI &C 9hT 光栅#2——结果 NBikYxa 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 h
><Sp*z_V 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 LPk@t^[ FG? Mc'r& kfy!T rf
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