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摘要 2]KPW*V 0To
5|r 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 9Ei#t FMc
MO+0]uh:
.=<pU k 3G S5p\J!k\B 任务说明 D-EM )O'<jwp$ y9mZQq 66;O 3g' 简要介绍衍射效率与偏振理论 Q|r1. 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 _Xe< JJvq 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: +OP' / TW?
MS em 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 JG$J,!.\ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: KPrxw }P l$@lk?dc 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 ,o6: V]a tV%\Jk), 光栅结构参数 ~UFsi VpL 研究了一种矩形光栅结构。 wYM{x!D 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 Hc3/`.nt 根据上述参数选择以下光栅参数: iIRigW 光栅周期:250 nm "Vy\- ^ 填充因子:0.5 G*V
7*KC 光栅高度:200 nm dRC+|^rSC 材料n_1:熔融石英(来自目录) 'S>Jps@ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 1z!Lk*C) WJ,ON-v XAkl,Y TR7TF]itb 偏振态分析 VUhu"h@w% 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 l;i
u` 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 wEqCuhZ 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 Tl-B[CT < ,n4|z) KLB?GN?Pb G(e?]{( 模拟光栅的偏振态 yIP
IA%dJ cFo-NI2
;bmd<1 {%dQV#'c 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: H%V[%
T4= 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 6jA Q 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 S d -+a 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 CdjGYS ' JVvL Passilly等人更深入的光栅案例。 ^hJ,1{o Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 zc5_;!t 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 =0|evC l1-FL-1
ggWfk ;anG
F0x 光栅结构参数 /vKDlCH* 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 *a4eL [ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Z]CH8GS~< 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 L x&ZWF$ 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Vy VC#AK,
,y @3'~ 6cvm\opH 光栅#1——参数 `MS=/x E 假设侧壁倾斜为线性。 (Nf.a4O 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 8X5XwFf} 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 I
Cs1= 光栅周期:250 nm -W,b*U 光栅高度:660 nm fq'Of
wT 填充因子:0.75(底部) !h~\YE) 侧壁角度:±6° jrR~V* :k n_1:1.46 g*uO
IF n_2:2.08 b6ddXM\Z <R$|J|
f]ef 1# 7+bzCDKU 光栅#1——结果 dLq!t@?iu> 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ~%ZO8X:^ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 xUUp?]9y 5s9~rm
ub&1L_K L.'N'-BV 光栅#2——参数 wl4yNC 假设光栅为矩形。 hkY E7 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,??|R`S 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 O(VV-n7U 光栅周期:250 nm MvCBgLN 光栅高度:490 nm s.U p<Rw 填充因子:0.5 m,b<b91 n_1:1.46 *SZ<ori n_2:2.08 "x)W3C%*S l)Hu.1~ l`k3!EZDS //(c 1/s 光栅#2——结果 D+U^ pl- 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ME.LS2'n 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 9b0Z
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