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摘要 }xb?C""q^q Wi"3kps q 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 d cG)ql4d 1x3>XN]a
Bgf'Hm%r PZYVLUw
` 任务说明 c*DBa]u2 >ca w
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_ LKsK!X 简要介绍衍射效率与偏振理论 +zINnX 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 E06)&tF 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: w^=uq3X? 8}.V[,]6 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 GWCU9n 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: >E\U$}WCG kVY0
E 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 iu.$P-s $X ]t}= 光栅结构参数 v"8i2+j 研究了一种矩形光栅结构。 D0*+7n3 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 rk7d7`V 根据上述参数选择以下光栅参数: 3ahbv%y 光栅周期:250 nm .:9XpKbt 填充因子:0.5 16|miK[@ 光栅高度:200 nm S '(K 材料n_1:熔融石英(来自目录) yP*oRV%uX 材料n_2:二氧化钛(来自目录) kR]AW60OE f|NWn`#bY )Pj4_$uM Dwbt^{N^ 偏振态分析 8\BYm|%aa 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 7Rl/F1G o} 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 BRF4p: 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 [+(fN T_I ApC !vGJ7 ?O.'_YS 模拟光栅的偏振态 [ n2)6B\/ ;9)A+bD]
byN4?3F >7(7 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: (yv)zg9 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。
hpOK9 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 txFcV 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 V1
{'d[E* $LHF=tYS Passilly等人更深入的光栅案例。 4cZlQ3OE. Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 aSH =|Jnc 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 5z@QAQ PD`EtkUnv
Hq0O!Zv !I+F8p 光栅结构参数 .s`7n
*xz 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 0ra+MQBg 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 @jT=SFf 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 hO..j 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 JK^pb0ih
wt1Y&D WF` 光栅#1——参数
)vy_m_f& 假设侧壁倾斜为线性。 Wf>=^ ~` 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 l;vA"b=] 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 f@H>by
N 光栅周期:250 nm U{ZKxE 光栅高度:660 nm a~A"uLBR 填充因子:0.75(底部) ~NZ}@J{00_ 侧壁角度:±6° |6T"T P n_1:1.46 >+F +"NAN n_2:2.08 OJ,Z &O|qx~(
Oi$$vjs2 #waK^B)<a 光栅#1——结果 91:TE8?Z 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 i?IV"*Ob1N 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 G[s/M\l *#c^.4$'
?Suv.!wfLl z]n&,q,5g 光栅#2——参数 )mE67{YJh~ 假设光栅为矩形。 0s%]%2ON 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 r)Fd3)e 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 G ; 光栅周期:250 nm ?jHu, 光栅高度:490 nm C0-,<X 填充因子:0.5 v\Edf;( n_1:1.46 Dt
Ry%fA_ n_2:2.08 EBx!q8zz TM0DR'. Rkh
^|_<! p^U#1c 光栅#2——结果 RxXiSc`^z 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 Q)ZbnR2Z8 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 {z*`*
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