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摘要 !97k h3<L,Olp 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 9c}mAg4 }C<<l5/ z
SdJGhU ~kJ}Z<e 任务说明 ;Sq n
w jnu!a.H (:spA5 aYBc)LCd 简要介绍衍射效率与偏振理论 [PI!.9H 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ZITic&>W 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: mbS`+)1=l =Ay'\j 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 CH ojF+e 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: `>
:^c gpe/ dfyJ9 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 {wNNp't7 "3r7/>xy 光栅结构参数 xX5EhVR 研究了一种矩形光栅结构。 1e'Ez4* 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 jmH=W) 根据上述参数选择以下光栅参数: I=DvP;! 光栅周期:250 nm X;vfbF 填充因子:0.5 b)e';M 光栅高度:200 nm vK10p)ZV 材料n_1:熔融石英(来自目录) ?e. Ge0& 材料n_2:二氧化钛(来自目录) AB1.l
hR Y!K5?kk yG ,oSp| &-hz&/A, 偏振态分析 yt@;yd:OEk 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 s;9>YV2at 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 @7fx0I'n 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 H/I1 n\ 0?0$6F N"M?kk, v[*&@aW0n 模拟光栅的偏振态 "{lw;AA5F it\U+xu
E;>BcPt5 v1m'p:7uGB 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: {f12&t 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 5J1q]^ 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 9wB}EDZ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 S
Y7'S# XoZw8cY Passilly等人更深入的光栅案例。 2=[de Qs Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 .vm.g=-q 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 N;6@f*3_i dPtQ
Sa
ee7{5 n1mqe*Mvs/ 光栅结构参数 +kXj+2 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 Q
6)5*o8n 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 `PH*tdYrh 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 M*xt9'Yd 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 t]QGyW A]
bTrQ(qp ,]\: ]Y&? 光栅#1——参数 '(4#He?Gd 假设侧壁倾斜为线性。 M.loG4r! 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 V.f'Cw 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 }p <p( 光栅周期:250 nm -eA3o2' 光栅高度:660 nm >.fN@8[ 填充因子:0.75(底部) ,O;+fhUJ( 侧壁角度:±6° mK);NvJ! n_1:1.46 HfN:oww n_2:2.08 +1]xmnts 1,/L&_=_A
r8uc. z2% , id`=L= 光栅#1——结果 Y>N`( 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 ,M)NC%0X 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 `Qc_]CWYH SjZ?keKZ
F9Bj$`#) EA/+~ux 光栅#2——参数 potb6jc? 假设光栅为矩形。 CK{.Ic^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 @NY$.K#] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 +"!=E
erKi 光栅周期:250 nm 'B$bGQ 光栅高度:490 nm FQ72VY 填充因子:0.5 bN',-[E n_1:1.46 qZ8V/ n_2:2.08 =u+.o<
%~ ROV>& fV`R7m. k/|j e~$ 光栅#2——结果 NUclF|G 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 IIW6;jS 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 v8<MAq F%v?,`_&I 09RJc3XE9
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