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摘要 ca3zY|Oo ob/<;SrU< 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 K]B`&ih ZDzG8E0Sq
H'udxPF $eT[`r 任务说明 6l2O>V l3^'b p6HQ {ixKc k=kkF" 简要介绍衍射效率与偏振理论 &L?]w=* 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 -a>CF^tH 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 6p&2A q { 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ;Dp*.YJ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: p|nPu*R-\ VhLfSN>W 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 q%q+2P> ,.2qh|Ol 光栅结构参数 P(I%9 研究了一种矩形光栅结构。 Bf y 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 PB"=\>]`N 根据上述参数选择以下光栅参数: |ITCw$T 光栅周期:250 nm V\L%*6O 填充因子:0.5 H)Me!^@[D 光栅高度:200 nm @N<h`vDa 材料n_1:熔融石英(来自目录) OY81|N
j 材料n_2:二氧化钛(来自目录) qTbc?S46pt tMP"9JE, T zS?WYF J,:;\Xhl 偏振态分析 QX}JQ<8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 4HZXv\$ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 R#y"SxD() 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 s{7bu|0 Iy;"ht6 m*B4a9f ?5B?P:=kl 模拟光栅的偏振态 tUOY`]0 K%
snE7X?)
Mr4,?Z&`-d ~;]zEq-hG 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: hg<[@Q%$o 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 .]4MtG 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 m##!sF^k~J 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 `S-%}eUv -\B*reC Passilly等人更深入的光栅案例。 HrZX~JnTmf Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 FAc^[~E 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 &M3KJ I0L \5j}6Wj
O<|pw pJ1\@G 光栅结构参数 :t "_I 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 }:$ot18 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 `jOk6;Z[ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ]n"RPktx 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 ;-"q;&1e
tKh 2v@B7r4} 光栅#1——参数 j+
L:Ao 假设侧壁倾斜为线性。 m`$Q/SyvG 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 n`w]? bL 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 n q>F_h 光栅周期:250 nm 6yAZvX 光栅高度:660 nm ~UeTV?) 填充因子:0.75(底部) I][&*V1 侧壁角度:±6° @VG@|BQWa n_1:1.46 <z#Fj`2{ n_2:2.08 KkpbZ7\@ [S~Bt78d%r
dcq18~ 2T(+VeMQ= 光栅#1——结果 {dRZ2U3 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 jpZq]E9`P 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 wWf_d jd =v<A&4
< Mu`,Kv* Jn|i! 光栅#2——参数 ]yqE6Lf9 假设光栅为矩形。 }
d8\ Jg 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 QZ;DZMP 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 <~w 3[i=
光栅周期:250 nm ]e"!ZR?XJ 光栅高度:490 nm X2%(=B 填充因子:0.5 srO>l ;Vf/ n_1:1.46 #Y n_2:2.08 YtWw)IK -oUNK}> , u%V% qAbmQ{|w 光栅#2——结果 aL90:,V 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 j}
^3v # 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 aTeW#:m [ @"6:tTU HB}rpiB
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