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摘要 o0pII )v 9[^gAR 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 cra+T+|>Kc o9H^?Rut
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9}E GxKqD;;u?= 任务说明 FD8N"p -k"^o!p *;Ed*ibf vo#UtN:q 简要介绍衍射效率与偏振理论 V?=8".GiX 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 DuOG { 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Mv6-|O v_nj$1dY6 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 y8rm 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 1+U J52
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g4l 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 sUU{fNC6| lHhUC16> 光栅结构参数 ~>+]%FPv 研究了一种矩形光栅结构。 k0Uyf~p~ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 )kkhJI*v 根据上述参数选择以下光栅参数: n2fbp\ I 光栅周期:250 nm /\WQxe 填充因子:0.5 2!$gyu6bpG 光栅高度:200 nm `^4vT3e 材料n_1:熔融石英(来自目录) "1HRLci 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 4- [J@ ]._LLSzWhg 1)[]x9]^q' KFFSv{m[ 偏振态分析 kVy\b E0o 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 NwZ@#D#[ Y 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 cJL'$`gWf 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 :bC40@ [ U wi 6A=8+R'`F |USX[jm\ 模拟光栅的偏振态 HVC>9_:] (1NA
44F`$.v96 \R3H+W 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: mb!9&&2-t 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 r{rQu-|. 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 C|?o*fQ 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 ,-OCc!7K al[n,u Passilly等人更深入的光栅案例。 ;JRs?1<=' Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 %3$*K\Ai 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 ]7/
b/J Bdu&V*0g
K/}rP[H /mK?E5H'r1 光栅结构参数 FSRj4e1y1 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 gB4U*D0[e~ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 4NdN<#Lr 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 NmSo4Dg`U 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 +
Q6l*:<|c
^'ryNa;" w$u3W*EoU^ 光栅#1——参数 yOwA8^q 假设侧壁倾斜为线性。 *tAg*$ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 -Fn}4M 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 4DOK4{4?5 光栅周期:250 nm zH*KYB 光栅高度:660 nm -@Uqz781 填充因子:0.75(底部) bl'z<S,
' 侧壁角度:±6° 5A4&+rdU n_1:1.46 Y9`5G% n_2:2.08
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a 光栅#1——结果 "$}vP<SM 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 >|Cw\^ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 @GvztVYo >X51$wBL
WsDM{1c Vy|6E#U 光栅#2——参数 OGY"<YH6 假设光栅为矩形。 @e'5E^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 LB.co4 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 %G?;!Lz 光栅周期:250 nm &< !Ufa& 光栅高度:490 nm JXj8Br?Z@ 填充因子:0.5 G!XIc>F* n_1:1.46 _fwb!T}$ n_2:2.08 36n>jS& .&x}NYX4 ,<Q~b%(3 g38&P3/ 光栅#2——结果 G5FaYL.7 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 >[1W:KQA 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 mP(kcMT" 8L1oh j U bYEEY#
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