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摘要 VbY>l' rY +$Ddd`J' 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ueS[sN! gw*yIZ @3)
bTI&#Hu FlM.D u 任务说明 :ok!,QN +$an*k9 @/Wty@PU X.W#=$;$: 简要介绍衍射效率与偏振理论 8*Nt&`@ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 (&a3v 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: n[S4180 9< G> 5=` 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ,T1XX2?: 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ~]D\&D9=? D[FfJcV'$ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 cnjj)
c [M zc^I& 光栅结构参数 OM#OPB
rB 研究了一种矩形光栅结构。 tkUW)ScJ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 n=Z[w5 根据上述参数选择以下光栅参数: Cvu8X&y 光栅周期:250 nm a#~Z5>{ 填充因子:0.5 :)3$&QdHT 光栅高度:200 nm [b\lcQ8O 材料n_1:熔融石英(来自目录) vYTPZ@RL 材料n_2:二氧化钛(来自目录) .\hib.n3 .w*{=x0k :[ZC-hc\ [F9KC^%S 偏振态分析 =6 q*w^ET 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 K:Xrfn{s 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 yvH#1F`{q 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 bQnwi?2 0e5-\a \?`d=n= Ar{=gENn 模拟光栅的偏振态 lCs8`bYU "Jv,QTIcS
\gk3w,B?E IUBps0.T\ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 9W,}AWf:Y 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 /x"pj3 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Y=wP3q 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 e|+;j}^C \~1zAiSd># Passilly等人更深入的光栅案例。 :e9jK[)h0 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 O|g!Y( 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 7=ga_2 RAkFgC~
do?n /<@o .f!eRV.& 光栅结构参数 <t|9`l_XW 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 =[-- Hf 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 #5"<.z 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 Zp(P)Obs# 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 pQ2)M8 gf
Q*J ~wuE2 7!840 :a?+ 光栅#1——参数 "=RoI 假设侧壁倾斜为线性。 o>,z %+ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 LB ^^e"
为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 d4eC Bqx 光栅周期:250 nm eR
2T<7G 光栅高度:660 nm "aO, 填充因子:0.75(底部) ).`a-Pv 侧壁角度:±6° F vk:c- n_1:1.46 7JwWM2N?V n_2:2.08 vi.AzO pvdZ>D-IU
i3WmD@ 6V?&hq&t 光栅#1——结果 !'t2 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 |+=:x]#vV 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 e/#&5ISk EG8R*Cm,}
Pds*M?&F Tb6x@MorP 光栅#2——参数 Q7aDl8L xn 假设光栅为矩形。 $YQ&\[pDA 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 iOXP\:mPo 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 uU!i`8 光栅周期:250 nm 2o5<nGn 光栅高度:490 nm 9i[2z:4HJ 填充因子:0.5 P FFw$\j n_1:1.46 >!p K94 n_2:2.08 9i)mv/i .W.U:C1 Bw7:ry _SW a3O#' 光栅#2——结果 P87Fg 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 {:8[Mdf 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 pXlBKJmW r.5Js*VX! VCtiZ4
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