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摘要 vdx0i&RiL tG9BfGF 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 ]|zp0d=&o V'8s8H
QLEKsX7p> \]2]/=2tLd 任务说明 R`DKu= t<z`N-5* ||hb~%JK6 )4gJd?
8R 简要介绍衍射效率与偏振理论 XWS%zLaK 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 ,9}h 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 723bkJw
V T92UeG 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 #LL?IRH9^ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: i|w81p^o sk,ox~0R 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 njScz"L~ F+,~v- 光栅结构参数 '_w=k4 研究了一种矩形光栅结构。 E*V`":efS 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 {*0<T|<n 根据上述参数选择以下光栅参数: p?7v$ev_ 光栅周期:250 nm H:t$'kb` 填充因子:0.5 yp KUkH/ 光栅高度:200 nm w+#C-&z 材料n_1:熔融石英(来自目录) 544X1Ww2 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 7\$qFF-y 6r"eN%m #A1Z'y0 >/kcdWl 偏振态分析 Ljxz.2LGr 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ~]pE'\D7Ad 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 Xjo5v*P u 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 8/i!' 0r\ b J=Jg~& bJRN;g -(bXSBs# 模拟光栅的偏振态 Tl$[4heE \6E|pbJ}x
uC+V6; v(B<Nb 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: +BVym~*^ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 y#Fv+`YDl 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 # {w9s0: 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 'Jt]7;04p W-x?:X<} Passilly等人更深入的光栅案例。 Gn|F`F Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 {1V($aBl 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 QMa;Gy R:e<W/P"
'(f&P=[b ;>
_$` 光栅结构参数 "U!AlZ`g 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 *5vV6][ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 u
[m 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 y4*U6+ #. 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 "uuVy$6C
J7= + C~nzH,5 光栅#1——参数 G;v8$)Zj 假设侧壁倾斜为线性。 %+8F'&X 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 S4^vpY
DeN 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 WF1px % 光栅周期:250 nm tZ}
v%3 光栅高度:660 nm 0vEoGgY0*: 填充因子:0.75(底部) r\b3AKrIN 侧壁角度:±6° 1Ty<\bZ= n_1:1.46 &<wuJ%'>)Z n_2:2.08 AvxfI"sp sm0x LZ
i`QKH B^j 光栅#1——结果 ap&?r`Tu 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 0'V5/W 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 3Mxp)uG/ f|h|q_<;
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+(lZ @6{~05.p
光栅#2——参数 (@%gS[] 假设光栅为矩形。 RA KFU 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 :p]'32FA! 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 4SlADvGl 光栅周期:250 nm )Y2{_ bx4" 光栅高度:490 nm _CW(PsfY 填充因子:0.5 :bz}c48% n_1:1.46 e?7&M n_2:2.08 k 8UO9r[ y.WEj?EL PV9pa/`@ Svondc
4 光栅#2——结果 DE%KW:Hug 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 5]n[]FW 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 ebT:/wu,2 5Yl<h)1 ]|MEx{BG-
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