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摘要 (Kd;l&8 V6?ku6k 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 0#KDvCBJ G eN('0
|S|0'C* \zw0*;&U 任务说明 /Ou`$2H87 oJbD|m C2Fklp6 !
R?r)G5E 简要介绍衍射效率与偏振理论 [
/w{,+U 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 MQY^#N 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: Q5b?-
P YA O,
rh 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 kXA
o+l 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: >_(Xb%w B1oi]hDy 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 iXK.QktHw T>e!DOW; 光栅结构参数 PuqT&|wP l 研究了一种矩形光栅结构。 :TqvL'9o 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 1w/1k6`0 根据上述参数选择以下光栅参数: /Y:&307q 光栅周期:250 nm _?kjIF 填充因子:0.5 N^pTj<M<g 光栅高度:200 nm *P_(hG&c 材料n_1:熔融石英(来自目录) jt?4raNW 材料n_2:二氧化钛(来自目录) I4:4)V? G1 z[v3T 3r!6Z5P7{' ,y>,?6:> 偏振态分析 l^w=b~|7= 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 :oYu+cQ 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 #\[h.4i 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 ~q4KQ&.! @&t';"AE [X]yj t=o0
#jo 模拟光栅的偏振态 Mh"DPt9@J A94ZG:
5drc8_fZ 56t9h/y 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 1Y4=D
在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 $$ou qLu 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Rd@34"O 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 +>h}Uz $#4Qv5} Passilly等人更深入的光栅案例。 }kzGuNj Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 u+%Ca,6 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 lx$]f)%~ =NLsT.aa
^F2OTz4n f#mBMdj 光栅结构参数 |b"
h+ 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 X- 2 rC 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 dCv@l7hE 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 C4wJSQl_I 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 |^9+c2
b5K6F:D22 (?R;u> 光栅#1——参数 4j^-n_T 假设侧壁倾斜为线性。 $BHbnsaQ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 j06?Mm_c2 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 w/_n$hX 光栅周期:250 nm h!.#r*vV 光栅高度:660 nm kHLpa/A 填充因子:0.75(底部) =OY&;d!C 侧壁角度:±6° [P~6O>a5p n_1:1.46 ev~/Hf n_2:2.08 !-%fCg(B ETU.v*HT]
@!k\Ivd -7jP'l=h 光栅#1——结果 Z3jh-{ 0 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 /){F0Zjjt 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 HQPb W=b<"z]RE
u\LG_/UJV1 YDh6XD<Z 光栅#2——参数 /IQl 假设光栅为矩形。 8/q6vk>< 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 70pt5O3] 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 0zH^yx:ma 光栅周期:250 nm Xc)V;1 光栅高度:490 nm BCnf'0q 填充因子:0.5 r*$$82s n_1:1.46 ttQX3rmF01 n_2:2.08 <3?T^/8 0LI:R'P+P[ &?+ vHE} !
C}t)R]^ 光栅#2——结果 "V/|RC 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 epz'GN]V 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 RSL%< iMgfF_r <eWGvIEP[
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