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摘要 '|DW#l\n !gve]>M 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 r|EN 5 3Do0?~n
F%h3?"s Jqj!k*=/ 任务说明 f^FFn32u -NXxxK +P^
;7"H k5I;Y:~` 简要介绍衍射效率与偏振理论 !BsQJ_H 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 `G qe]ZE#" 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: pcy;]U? moM?aYm 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Wd:pqhLh 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: {4D`VfX_ '{"Rjv7 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 $D1ha CL Bn7uKa{P 光栅结构参数 }T@=I&g; 研究了一种矩形光栅结构。 (-gomn 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 UGSZg|&6#* 根据上述参数选择以下光栅参数: Ca|egQv 光栅周期:250 nm 17 Ugz? 填充因子:0.5 Am<5J,<uy 光栅高度:200 nm <0})%V?- 材料n_1:熔融石英(来自目录) U?UU]>Q 材料n_2:二氧化钛(来自目录) <y@vv w"v!+~/9 aUaeK(x:H Cz0FA]-g 偏振态分析 ?{ N,&d 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 ./#YUIC 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 =SJ#6uFS 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 jE*{^+n
N d].(_ $G".PWc eFG/!b<17 模拟光栅的偏振态 {DRk{>K, gJQ#j~'
Zw]"p63eMa o-\h;aQJ 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: .9bi%=hP 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 ek][^^4o 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 1Gsh%0r3 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 iXDG-_K 'Aq^z%| Passilly等人更深入的光栅案例。 d4| )= Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 W_W !v&@E= 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 `
,\b_SFg ?2]fE[SqY
'(.5!7?Qc yaR>?[h 光栅结构参数 5T x4u%g 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 NM{)liP
;8 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 Xq? >a+B 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 M& ZKc 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 e$[O J<t
$e\s8$EO g88k@<Y 光栅#1——参数 7m2iL#5[ 假设侧壁倾斜为线性。 c,a8#Og 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ;/Hr ZhOE 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 4fi4F1 f 光栅周期:250 nm s<!A<+Sh 光栅高度:660 nm |{#St-!-7 填充因子:0.75(底部) dla_uXtM6 侧壁角度:±6° 9<gW~
s> n_1:1.46 Qc7*p]E& n_2:2.08 |/Vq{gxp+ Ca~8cQ
Wd'}YbC 'gY?=,dF> 光栅#1——结果 2xNR=u` 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 Xh8U}w<k6 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 =Zj
7dn;EN QRju9x
BZ?w}%-MO JLd%rM\m 光栅#2——参数 z qA>eDx 假设光栅为矩形。 K*:=d}^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 sPNm.W$_ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 =F\Xt " 光栅周期:250 nm -5*OSA:8x 光栅高度:490 nm O C&BJNOi 填充因子:0.5 b$@I(.X: n_1:1.46 e)}E&D;${ n_2:2.08 |>ztx}\ rZgu`5<a q]4h#?.-1v ef'kG"1 光栅#2——结果
:q/s%`ob 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 7&id(&y/ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 }XUL\6 U AWcbbj6Nd f/dJRcDl<
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