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摘要 k|{ 4"4r \xcf<y3_ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 #Tt*NU 4Z5;y[k(
]&dPY[~,/i ;--D?Gs]Qr 任务说明 y~su1wUp ap2g^lQXq "h|kf%
W p}5413z5Z= 简要介绍衍射效率与偏振理论 L\t_zf_0 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 |o'r?" 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: xLfv:Rp !Ce!D0Tx 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 GLX{EG9Z 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: ]Qa|9G,b vVrM[0*c 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 pMAP/..+2 sZEa8 光栅结构参数 \9uK^oS 研究了一种矩形光栅结构。 pM}~/ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 1
-C~C]& 根据上述参数选择以下光栅参数: FCWk8/ 光栅周期:250 nm +S`cUn7 填充因子:0.5 p1K]m>Y{? 光栅高度:200 nm <XtE|LG 材料n_1:熔融石英(来自目录) Xo&\~b#- 材料n_2:二氧化钛(来自目录) l(}MM|ka pLys%1hg WtaOf_ -GM"gkz 偏振态分析 ~"<^4h 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 %QEyvl4 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 El: @l% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 W0Y
,3;0 ;(A- +l.LwA WglpWp) 模拟光栅的偏振态 Jb^{o+s53 6(uZn=
M ?AX:0 /oLY\>pD 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 4>a(!ht 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 }`%ks 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 O&yAFiCd 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 &I(\:|`o YbnXAi\y| Passilly等人更深入的光栅案例。 x5V))~Ou Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 |lg jI!iK 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 dv+ZxP%g 9q
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o4J@M{xb_ xI~AZ:m 光栅结构参数 nMfR<%r 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 {
0&l*@c& 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ,<)D3K< 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 j"aY\cLr t 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 BV
}CmU&DA
E_DQ.!U!o 'Cz*p, 光栅#1——参数 RyG6_G} 假设侧壁倾斜为线性。 } .Z` 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 +!E9$U>6% 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 DV[FZ 光栅周期:250 nm @rDBK] V 光栅高度:660 nm LME&qKe5 填充因子:0.75(底部) '3Q~y"C+4 侧壁角度:±6° &5${k' n_1:1.46 nE*S3 n_2:2.08 {"%a-*@% 1 ]
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\AH5zdK peT91b 光栅#1——结果 #D|%r-:" 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 U]_WX(4 @ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 O9/)_:Wdh #;W4$q
K/ &` #ojuSS3 光栅#2——参数 X0-PJ-\aD@ 假设光栅为矩形。 *w O~RnP 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 }^$1<GT 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 hf0(!C* 光栅周期:250 nm Z]oGE@!
n" 光栅高度:490 nm WFFQxd|Z 填充因子:0.5 R@s7s%y= n_1:1.46 VHMQY*lk n_2:2.08 >1;jBx>Qy% lS7L| H!u8+ 6 U[VoUU 光栅#2——结果 =~Qg(=U0U 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 ^v'0\(H?P 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 C=@4U} naH(lz|v oH?:(S(
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