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摘要 X|ZAC!J5> kY{$[+-jR 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 .V3e>8gw3 ~<s =yjTu+
O7uCTB+ Y~UAE. 任务说明 f#w
u~*c 257$ ! oVPr`] NuD|%Ebs 简要介绍衍射效率与偏振理论 10OkrNQ 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 *kYGXT,f] 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: J.M&Vj: DrC"M*$! 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 t4/ye>P & 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: &/"a
E )c'E9ZuZ>d 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 h8(>$A- < *;GJ{ 光栅结构参数 VY+P c/b 研究了一种矩形光栅结构。 RtpV08s\ 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 (K84J*; 根据上述参数选择以下光栅参数: `.3@Ki~$# 光栅周期:250 nm ?2dI8bG 填充因子:0.5 4K?
\5(b 光栅高度:200 nm )7o?}"I 材料n_1:熔融石英(来自目录) @h!Z0}dX( 材料n_2:二氧化钛(来自目录) Qr4 D &);P|v`8 NVsaV;u NRp 偏振态分析 jY]51B 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 -57~7
<N 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 @|Yn~PwKs 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 7}6CUo 5\#I4\ l!&ik9m ]W`?0VwF 模拟光栅的偏振态 Y|Gp\
Yv@n$W`:
&r4|WM/ec #u8#<
,w 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: yGAFQ|+ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 Y68A+
B. 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 kROIVO1|` 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Z${eDl6i uW=G1 *n- Passilly等人更深入的光栅案例。 ]77f`<q<}! Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 \U>&W 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 s-PS]l@ 'Kbrz
L/C~l3 Mb 4"bDBsl 光栅结构参数
QSY>8P 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 +,LWyvc' 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 %N fpEo 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 %'2.9dB 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 W.jXO"pN
Y_+#|]=$B "V26\ 光栅#1——参数 UF#!6"C@ 假设侧壁倾斜为线性。 2HN*j~>i~ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 E1OrL.A6 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 P@vUQ 光栅周期:250 nm BOG.[?yx 光栅高度:660 nm $Vq5U9- 填充因子:0.75(底部) WK(X/!1/k 侧壁角度:±6° 8{2 n_1:1.46 &s vg<UZ n_2:2.08 rpm \!O aXJ/"k #Tl
kodd7 AD (b<0=U 光栅#1——结果 7KhS{w6 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 #5)/B 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 eDZ8F^0 V@k+RniEO
,mp<<%{u 0ck3II 光栅#2——参数 W
wPzm?30 假设光栅为矩形。 "j,vlG 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 [=q/f2_1. 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 u5k{.& 光栅周期:250 nm I\k<PglRA 光栅高度:490 nm X%IqZ{{ 填充因子:0.5 5buW\_G) n_1:1.46 bkDVW n_2:2.08 49&i];:%7% BL16?&RK h'
!C TsK!36cg 光栅#2——结果 ',0:/jSz 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 e,e(t7c?d 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 rtJER?A dnoF)(d&Cm ?I[8rzBWU
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