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摘要 12tk$FcY8* K?>sP%m) 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 %JI*)K1WI <7`U1DR=
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b(t8TR#- 任务说明 Q+s2S>U{v +3Z+#nGtk nK#%Od{GF v
,zD52 简要介绍衍射效率与偏振理论 JA4}Bwn 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 X2'XbG3 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: 9U Hh#
<,Mf[R2N> 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 C9*[/| T 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: i!iG7X)qT j{6O:d6([$ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 M5 ^qc G+<id1 光栅结构参数 |-z"6F r- 研究了一种矩形光栅结构。 *E+VcU 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 TSVlZy~Xo 根据上述参数选择以下光栅参数: 1C0'
Gf)3 光栅周期:250 nm ay]l\d2!3 填充因子:0.5 rU|?3x 光栅高度:200 nm yT[=!M 材料n_1:熔融石英(来自目录)
I]BhkJ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) p!DOc8a.\e ^fmuBe}d{ eKf5orN \"w+4} 偏振态分析 ElK Md 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 2w fkXS=~6 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 T8d=@8g,% 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 tJmy}.t1 }zqo<o "Y@q?ey[1 00@F?|-j 模拟光栅的偏振态 |(CgX6 l3
V Ds0+RC
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HbIk5 3#y`6e=5 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: E<7$!P=z` 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 u"m TS& 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 Z[>fFg~N4 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 _&S;*?K. {
SDnVV Passilly等人更深入的光栅案例。 HE>V\+
AL Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 NE4]i 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 }pGjc_:'] "=LeHY=9
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dp$jrNLr 光栅结构参数 5sNN:m 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 i:jns>E 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 [f}`reRlZ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 pl$wy}W- 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 mq(-L
<[ u(il ^%tn$4@@Z. 光栅#1——参数 piqh7u3~ 假设侧壁倾斜为线性。 I:6XM? 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 T#i~/ 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 lJ,\^\q 光栅周期:250 nm VLJ]OW8cO 光栅高度:660 nm
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|,9 填充因子:0.75(底部) :))&"GY 侧壁角度:±6° a*iKpr- : n_1:1.46 JSmg6l?[u n_2:2.08 G~ LQM {Ppb ;
6/ T/A+u :qzhkKu 光栅#1——结果 EBiLe;=X 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 v`G}sgn 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 Ro4!y:2| L,ax^]
-yb7s2o /Ak\Q5O'3 光栅#2——参数 Db;>MWt+e 假设光栅为矩形。 H9(UzyN>i 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 rBi6AM/ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 dBS_N/ 光栅周期:250 nm ] SLeWs 光栅高度:490 nm yu&mu |