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摘要 }<YU4EW Qvty;2$o@ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 zW\s{ !6l*Jc3
`^] D;RfE Cv@)tb 任务说明 !B92W i),bAU!+m \%7fm#z6 O}w%$ mq 简要介绍衍射效率与偏振理论 wBvVY3VQ^
某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 RRXp9{x` 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: BA2J dU $H)QUFyC 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 1BEs> Sm 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: v2I? 5?j xKl1DIN[ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 +TyN;e KIcIYCBz 光栅结构参数 sQJGwZ7 研究了一种矩形光栅结构。 |j-ng; 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 T9I$6HAi 根据上述参数选择以下光栅参数: @({=~
W^ 光栅周期:250 nm Rpv[rvK' 填充因子:0.5 5.*,IedY 光栅高度:200 nm *FktI\tS 材料n_1:熔融石英(来自目录) -|Zzs4bx 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 0k{\W %S"85#R5E ,<* I5: |iI
dm 偏振态分析 x(cv}#}S8 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 !:m.-TE 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 K"x_=^,Yu* 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 XPU>} 4{ tfN[-3)Z swxX3GR ;Y[D#Ja- 模拟光栅的偏振态 Q3(ulgl] tsJR:~
u5Vgi0}A tj'~RQvO 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: @lF?+/=$ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 j<P;: 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 rD~/]y)t 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 4"k &9+> 2
4+ Passilly等人更深入的光栅案例。 L FkDb} Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 v@soS1V! 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 D>[Sib/@ O7Jux-E1C
2t9UJu4 w8w0:@0( 光栅结构参数 5, ,~k= 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 S)rr 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 CYLab5A 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 [9${4=Kq 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 b9RHsr]V
-dixiJ= XQ]vJQYIR 光栅#1——参数 +7}^Y}( 假设侧壁倾斜为线性。 $j.;$~F 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 hNM8H 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 n82tZpn 光栅周期:250 nm [M[<'+^* 光栅高度:660 nm 12z!{k7N 填充因子:0.75(底部) 8&G9 ?n`I5 侧壁角度:±6° v?OVhV n_1:1.46 pE&G]ZC n_2:2.08 \Q|-Npw 3e&+[j
`P;r[j" RJ'[m~yl5X 光栅#1——结果 "-$}GUK?Z 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 OUi;f_*[r 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 @01.Pd KsP2./N
T0tX%_6` Ze~P6 光栅#2——参数 d\JaYizp 假设光栅为矩形。 i90 X0b-A 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 C P}fxDW 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 'vd&r@N 光栅周期:250 nm N!(mM;1X) 光栅高度:490 nm G0UaE1n 填充因子:0.5 6}TunR n_1:1.46 %NrH\v{7Q n_2:2.08 \R<MQ#
x R^.PKT2E ;_I>`h"r hn8xs5vN 光栅#2——结果 ;DuVb2~+ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 o'#& =h$_ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 .jCGtR )% @KTuG ?. tTy !o=
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