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摘要 ; 2#y7! djZqc5t 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 T>Z<]s re<{
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gJ{)-\ 6MW{,N 任务说明 %1L,Y @mBQ?;qlK 0+ '&`Q!u WwFm*4{[o 简要介绍衍射效率与偏振理论 dT8S~-d% 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 Q&;9x? e 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: _[3D 3"e,qY 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 pv&sO~!iC 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 3hH<T.@) V!=,0zy~Z 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 B 3I`40# N+xP26D8 光栅结构参数 J@'wf8Ub 研究了一种矩形光栅结构。 t{kG<J/l 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 e T{ 4{ 根据上述参数选择以下光栅参数: 'H!Uh]! 光栅周期:250 nm m0SlOgRsk 填充因子:0.5 reWot&;
光栅高度:200 nm X_h}J=33Q 材料n_1:熔融石英(来自目录) %> eiAB_b 材料n_2:二氧化钛(来自目录) 8<.Oq4ku {\5 L2z[ n\53w h@+ 偏振态分析
teF9Q+*~ 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 KpGhQdR# 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 eMsd37J 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 FZlWsp= r19
pZAc M2Qr(K| ,"ZMRq 模拟光栅的偏振态 a=2%4Wmz 0h_|t-9j
7NGxa6wi K%oG,-wdg 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: 6&x@.1('z 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 jLluj 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 &QgR*,5eo 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 i/4>2y9/F4 &8lZNv8;(p Passilly等人更深入的光栅案例。 l_p2Riv Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 i_%_ x* 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 K|,
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*2l7f`K hgq;`_;1, 光栅结构参数 g7H(PF? 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ktIFI`@w) 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 z0 3K=aZ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 })%{AfDRF 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 `c$V$/IT
yWSGi#)1 @yYkti;4- 光栅#1——参数 ~"!fP3"e 假设侧壁倾斜为线性。 eR>oq, 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 l/5
hp. 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 6gDN`e,@ 光栅周期:250 nm H5|;{q:j 光栅高度:660 nm hZb_P\1X 填充因子:0.75(底部) RA 6w}:sq7 侧壁角度:±6° L/K(dkx n_1:1.46 8s@3hXD& n_2:2.08 PKz':_| At;LO9T3z
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YmG("z 光栅#1——结果 "AqB$^S9t 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 DEgXQ[ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 h(DTa H PVEnVn
A#,ZUOPGH 4xj4=C~i 光栅#2——参数 ueNS='+m 假设光栅为矩形。 %BODkc Zh 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 DlJo^|5 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 :`sUt1Fw. 光栅周期:250 nm DY*N|OnqJ 光栅高度:490 nm lOp`m8_= 填充因子:0.5 (9)Q ' 'S n_1:1.46 6S#Cl>v n_2:2.08 p#tI;"\y l]SX@zTb /-s6<e! cMIEtK` 光栅#2——结果 Z_NCD`i; 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 xIn:ZKJ' 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 5)40/cBe pj(,Zd[47 `]aeI'[}R
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