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摘要 ux7g%Q^" U:IeMf-; 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 u/?;J1z: +n 8,=}
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7hXg"B 任务说明 ]b&qC
( <,T#* fg :4238J8 nQ'AB~ Do 简要介绍衍射效率与偏振理论 n8e}8.Bu 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 umiD2BRZ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: |:`gjl_Nf Nx(y_.I{K 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 Tj=g[)+K 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: &4L+[M{J@4 TUd=qnu 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 VoUAFEcs :w c.V 光栅结构参数 |<7nf7 5c} 研究了一种矩形光栅结构。 Hn(L0#Oqy 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 <.6$zcW 根据上述参数选择以下光栅参数: K<Y-/t 光栅周期:250 nm 9D mQ 填充因子:0.5 ( KG>lTdN 光栅高度:200 nm DfP
vi1 材料n_1:熔融石英(来自目录) tZY(r
{ 材料n_2:二氧化钛(来自目录) PR1% .gHL(*1P Ibl==Irk uI[lrMQYa 偏振态分析 -U_<: 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 8DNGqaH;dt 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 $yg}HS7HC 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 1Xu^pc ;tLu C{):jH,Rf Q1@V?`rkS{ 模拟光栅的偏振态 r`/tb^ "Mmvf'N
rru `%~'O !~k-Sexh 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: |"a%S,I' 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 =Wk!mGc 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 >U$,/_uMNW 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 TXQY&7 /F 1mYq~ Passilly等人更深入的光栅案例。 /ZKO\q Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 EGyQhZ mO 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 "n@=.x l*yJU3PW
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光栅结构参数 eq\{*r"DCK 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 ';!02=-@ 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 '4qi^$|\ 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 "I]% aK0 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 < F Cr
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Q l4d2i;4BK 光栅#1——参数 EmR#)c~(W 假设侧壁倾斜为线性。 9Kyr/6w4-k 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 U;4:F{3m
为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 hQgi--Msw' 光栅周期:250 nm pOip$Z 光栅高度:660 nm '?k*wEu 填充因子:0.75(底部) ~z!U/QR2 侧壁角度:±6° C@L:m1fz n_1:1.46 l+Tw#2s$ n_2:2.08 "sRR:wzQu ( UV8M\
RxkcQL/Le 7@Qz 光栅#1——结果 fF8g3|p: 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 eW+z@\d9Gz 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 0BIH.ZV# ]baO{pJi
jfHVXu^M =2{ ^qvP 光栅#2——参数 OY6lt.t 假设光栅为矩形。 TP oP%Yj" 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 7{XI^I:n 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 i3>7R'q> 光栅周期:250 nm @K]D :MSS 光栅高度:490 nm uV *&a~ 填充因子:0.5 o% !a n_1:1.46 0*8[m+j1 n_2:2.08 mg*[,_3q33 a3037~X r/fLm8+ +B%ZB9 光栅#2——结果 &}%3yrU 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 xq.,7#3 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 )}7rM6hv p}}o#a~V), kL,AY-Iu{@
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