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摘要 }v}F8}4 Mj1f;$ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 xdbzpU
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8/j|=Q,5 r
ezp7 任务说明 QAx9W% :k?`gm$ 75p9_)>96 sXEIC#rq 简要介绍衍射效率与偏振理论 @yb'h`f] 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 k0=!%f_G! 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: kOo Vqu HdtGyh6X0 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 !m:WoQ/ 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: KRlJKd{ !yj1X
Ar 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 $+J39%Y!^ {sB-"NR`K 光栅结构参数 Bj4c_YBte 研究了一种矩形光栅结构。 p}sM"}Ul 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 w^8Q~3|7 根据上述参数选择以下光栅参数: e@VJ-s 光栅周期:250 nm RQWUO^&e^ 填充因子:0.5 yLLA:5Q1 光栅高度:200 nm <%3fJt-Ie 材料n_1:熔融石英(来自目录) ,=C ipL9] 材料n_2:二氧化钛(来自目录) ){P`-ZF 5P<1I7d A@|Z^T: -w2^26ax 偏振态分析 ~rO&Y{aG# 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 V C VqUCc 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 KO8vUR*2R 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 N)cODy([ `:Wyw<^ En7+fQ 7Fpa%N/WL 模拟光栅的偏振态 )MI w/ d(t)8k$
Bn8&~ vM5I2C3_>! 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: %P1zb7:8 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 dEXhn 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 j,].88H 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 hoBFC1 q*R~gEi#yk Passilly等人更深入的光栅案例。 v,ecNuy*d Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 mQ}\ptdfV 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 +,"[0RH jo"+_)]
<hy!B4 `m1stK(PO 光栅结构参数 qDswFs( 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 'p[6K'Uq5 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 jS3@Z?x?* 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 !V #*(_+n 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 Kc
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#q34>}O< O 5[zr(FuE 光栅#1——参数 |1ry*~ 假设侧壁倾斜为线性。 :,H_
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X 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 |af<2(d 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 ZHA&gdK@ 光栅周期:250 nm NY?iuWa*g 光栅高度:660 nm YVRE9 填充因子:0.75(底部) :/?
Op 侧壁角度:±6° 4ybOK~z n_1:1.46 2\$<&]q n_2:2.08 ]lJ#|zd8o .wm<l:
;/m>c{ $+e(k~ 光栅#1——结果 4mBM5Tv 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 3H"F~_H 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 lKI]q<2 b N>Ar
z&GGa`T" PK?}hz 光栅#2——参数 ND9;%<80 假设光栅为矩形。 k]& I(VQ" 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 )CL/%I,^ 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 B7{j$0fm* 光栅周期:250 nm >)+U^V 光栅高度:490 nm c:z}$DK&' 填充因子:0.5 &U.y): n_1:1.46 &n6
|L8 n_2:2.08 ,,9vk \ F+xMXBD@>* \<%FZT_4~ 8v;T_VN 光栅#2——结果 `~=Is.V[ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 l%2B4d9"v 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 R<h0RKiM@ 8r\xQr'8h Eh_[8:dK
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