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摘要 p[-buB] *HN0em 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 fdTyY ; p)=Fi}#D\
Flzl,3rW4 w`Js"_\ 任务说明
$mG&4Y c)fTI,.$ #x|h@(y| I-
X|- 简要介绍衍射效率与偏振理论 g4^df%)& 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 *.9.BD9 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: "J%/xj 3pKr
{U92 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 w/HGmVa 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: r$~
f[cA v-@xO&< 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 {!hA^[}| n.$wW
= 光栅结构参数 _S;L|1>S 研究了一种矩形光栅结构。 u;*Wc9>sU 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 kiFTx
&gf 根据上述参数选择以下光栅参数: SD^6ib/]b 光栅周期:250 nm 64OgE! 填充因子:0.5 "!6 Ax-' 光栅高度:200 nm :kDHwYv$ 材料n_1:熔融石英(来自目录) ~Xg@,?Zr 材料n_2:二氧化钛(来自目录) uiIY,FL$ agFWye Td5;bg6Qy fhAK^@h 偏振态分析 j6KGri 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 5M2G ;o 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 S5Q$dAL 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 3%<xM/# 7usf^g[dh `}^_> <Vk^fV 模拟光栅的偏振态 b_]14 v X|F([,o
dkC[Jt ~',<7eW 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: }w&+H28.# 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 u"\HBbBx 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 )0P>o]fWI 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 7)NQK9~ P2h}3%cJq Passilly等人更深入的光栅案例。 ~'e/lX9g- Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 KF|<A@V 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 \*s'S*~ <[2]p\rj
EwcN$Ma yD+)!q" 光栅结构参数 H1'`*
}V 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 dD3I. ?DY 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 XTD_q 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 "|S \J5-% 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 0.-2FHc9L
2 fX-J VrA9}"1x~* 光栅#1——参数 9Kw4K#IqQ 假设侧壁倾斜为线性。 y8Bi5Ae,+1 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 Oc;0*v[I 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 fMn7E8. 光栅周期:250 nm B1oy,' 光栅高度:660 nm
qh/q< 填充因子:0.75(底部) HPAd@5d( 侧壁角度:±6° =~% B}T n_1:1.46 ;6I{7[ n_2:2.08 MC!K7ji +! 6C^G
9KVeFl Yz0ruhEMk 光栅#1——结果 !6ZkLE[XJ< 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 s%Q
pb{ 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 q#-szZQ ^.F@yo2}
2+Z2`k]AC
yf! 光栅#2——参数 AG2iLictv 假设光栅为矩形。 ,qak_bP 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 gOZ$rv^g 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 KE+y'j#C3 光栅周期:250 nm pO$`(+q[ 光栅高度:490 nm |,j6cFNw 填充因子:0.5 lztPexyXZ n_1:1.46 HHD4#XcU n_2:2.08 P@:#NU[ x2.G1 ;8;nY6Ie Re('7m h~ 光栅#2——结果 S=^yJ6xJ 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 !mrB+<: 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 3=1aMQ SC`.VCfc. Dg/&m*Yl
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