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摘要 g,7`emOX bB->\ 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 |(*ReQ?= G 2+A`\]
lSUEE0V%Q g599Lc&
任务说明 0j7W\'!t g[0b>r7 H.hF`n >pbO\=j]X 简要介绍衍射效率与偏振理论 ^0R.'XL 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 z^T/kK3I 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: /G9wW+1 S2kFdx*Zf 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 6UG7lH!M 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: 6FiI\ 'mXf8 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 (q59cA w~X ZO5_n 光栅结构参数 uwXquOw 研究了一种矩形光栅结构。 7$b!-I+a2 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 O[U^{~iM 根据上述参数选择以下光栅参数: ']WS@MbJ 光栅周期:250 nm R7r` (c! 填充因子:0.5 a"EX<6" 光栅高度:200 nm 7;jwKA;k 材料n_1:熔融石英(来自目录) }KEyJj3"DA 材料n_2:二氧化钛(来自目录) )pJ}
$[6 )gYsg g'ha7~w(p 3s<~}&" 偏振态分析 U$&G_&*0a 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 1N{}G$'Go 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 6oMU) DIa 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 qT$;ZV
# zRd^Uks T!0o(Pp< zc01\M 模拟光栅的偏振态 9=O`?$y 5R\{&
7g8}]\i+ 6c,]N@,Zw 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: As
}:~Jy| 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 1G$fU
zS 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 IL;JdIa 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 Z0uo.
H@.N /'k4NXnW3 Passilly等人更深入的光栅案例。 ebK/cPa8 Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 -c|dTZ8D)8 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 z SDRZ! n}/?nP\%
5Iine n3> Y"6
' 光栅结构参数 _<s[HGA`z 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 y (@j;Q3(r 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 ^YG'p?r.s 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 ecaEWIOG 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 oS6dcJHf
& mwQj<Z v;m`d{(i2 光栅#1——参数 kZ7\zbN> 假设侧壁倾斜为线性。 .'foS>W=t 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 cCx@VT`0 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 VBnD:w"z 光栅周期:250 nm p}H:t24Cr5 光栅高度:660 nm B=14
hY@` 填充因子:0.75(底部) 8_byS<b8 侧壁角度:±6° :5|'C n_1:1.46 7X
4/6]* n_2:2.08 [PG#5.jwQ ykK21P,v
DEJ0<pnQr i!0w? /g9 光栅#1——结果 mV!Ia-k 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 F{*{f =E!B 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 h,-2+} X 4L"M%i
h0**[LDH s/Ne,v 光栅#2——参数 V /i~IG`h/ 假设光栅为矩形。 7`eg;s^ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ,~8&0p 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 &[
oW"Q{ 光栅周期:250 nm ?{=&R o 光栅高度:490 nm ~dc
o 填充因子:0.5 yM,.{m@F< n_1:1.46 Ln-UN$2~F n_2:2.08 kXW5bR Pgug!![ $-^
;Jl 7sypU1V6 光栅#2——结果 BjX*Gm6l 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 +az=EF 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 r?9D/|` T-MC|>pv .+3~
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