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摘要 K9$>Yxe| C&*oI =6 光栅结构广泛应用于各种光学应用场景,如光谱仪、近眼显示系统、脉冲整形等。快速物理光学软件VirtualLab Fusion通过使用傅里叶模态方法(FMM,也称为RCWA),为任意光栅结构的严格分析提供了通用和方便的工具。为此,复杂的一维或二维周期结构可以使用界面和调制介质进行配置,这允许任何类型的光栅形貌进行自由的配置。在此用例中,详细讨论了衍射级次的偏振态的研究。 KxYwJ @z4*.S&tz
`\T]ej}zvI tiB_a}5IB 任务说明 'IZI:V" dJ2Hr;Lc Oiz ,w7LRh -xSA 简要介绍衍射效率与偏振理论 wRcAX%n& 某个衍射级次(𝑛)的效率表示有多少的辐射功率被衍射到这个特定的级次中。它是由复数值瑞利系数计算出来的,瑞利系数包含了每个衍射级次(矢量)电磁场的全部信息。瑞利系数本身是由FMM对光栅的特征值问题进行严格分析的结果。 JJ}0gZ 如果在TE/TM坐标系(CS)中给出瑞利系数,则可以计算衍射效率: \r /ya<5 ~P8tUhffK 其中,n_in/n_out为覆盖层和衬底层的折射率,ϑ_in/ϑ_out为所分析的阶次的入射角和衍射角。此外,𝐴表示辐射光的振幅。 ewa wL" 如果瑞利系数沿𝑥、𝑦和𝑧给出瑞利系数,则必须应用以下方程: iYORu3 5R@ 因此,必须考虑所给出的瑞利系数的坐标系。默认情况下,光栅坐标系中为 。 =XucOli6 Q&wB$*u 光栅结构参数 PP;}e 研究了一种矩形光栅结构。 /^X/ 8 为了简化设置,选择光栅配置,只允许零阶(R_0)反射传播。 z=rT%lz6
根据上述参数选择以下光栅参数: Ir`eL 光栅周期:250 nm kbTm^y" 填充因子:0.5 #!aN{nK0 光栅高度:200 nm {sihus#Q 材料n_1:熔融石英(来自目录) .y_/U wu 材料n_2:二氧化钛(来自目录) @&%'4j&+ p7veQ`yNc PD&\LbuG 4}_j`d/8| 偏振态分析 ohF JZ' 现在,用TE偏振光照射光栅,并应用圆锥入射角(𝜑)变量。 lD^]\;? 如前所述,瑞利系数的平方振幅将提供关于特定级次的偏振态的信息。 LR.Hh 为了接收瑞利系数作为检测器的结果,需要选择光栅级次分析器件中的单个级次输出,并选择所需的系数。 T]t+E'sQ C8[&S&<_< 9o;^[Ql- 9xO#tu] 模拟光栅的偏振态 !/}O>v~o qfL~Wp2E;
,TXTS*V? eqP&8^HP 瑞利系数现在提供了偏振态的信息: GNXHM*~ 在圆锥入射角为0(𝜑=0)时, 。这说明衍射光是完全偏振的。 @ zs'Y8 对于𝜑=22°, 。此时,67%的光是TM偏振的。 p<TpK ) 对于𝜑>50°,系数接近为常数,因此偏振态也是常数。 OTGofd2zf O4r0R1VQM Passilly等人更深入的光栅案例。 {;N,t]>8M Passilly等人的工作研究并优化了亚波长光栅下衍射光谱的偏振态,以获得不同状态之间的高度转换。 Xf02"PXC 因此,他们将模拟结果与制作样品的测量数据进行了比较。 -~v|Rt S0~2{G"v
0~ZFv Wv biSz?DJ> 光栅结构参数 W%T>SpFl 在本文中,研究了两种不同的制备光栅结构。 jX3,c%aQ5e 由于加工造成的光栅的理想二元形状的一些偏差是可以预料的,而且确实可以观察到:在基板和侧壁上存在不完全平行的欠刻蚀部分。 H<v'^*( 由于缺少关于制作结构的细节,我们将其简化为VirtulLab Fusion中的模拟。 q*F{/N** 但是如果有可用数据,就可以详细分析光栅的复杂形状。 $^OvhnL/
IhA5Wt0j giZP.C"0 光栅#1——参数 -R57@D>j\ 假设侧壁倾斜为线性。 \@8+U;d 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 ~aMlr6; 为了实现光栅脊的梯形形状,采用了倾斜光栅介质。 N['qgO/ 光栅周期:250 nm 85n1eE 光栅高度:660 nm 5jd,{< 填充因子:0.75(底部) 6^]!gR#B 侧壁角度:±6° @2Z#x n_1:1.46 Sx?ua<`:d n_2:2.08 4*Q#0`um Y( 3Bp\6
B$b +Ymu AtdlZ 光栅#1——结果 k p<OJy 这两幅图对比之下匹配度很高,特别是图表的趋势。 7w'wjX- 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 x|mqL-Q f ny`#%Vs
N F+iza;DP JsDpy{q 光栅#2——参数 &;D8]7d
假设光栅为矩形。 7(qE0R&@ 忽略了衬底中的欠刻蚀部分。 _59huC. 矩形光栅足以表示这种光栅结构。 p1&b!*o- & 光栅周期:250 nm [-\%4 光栅高度:490 nm kKAP"'v 填充因子:0.5 (vb
SM}P n_1:1.46 f>W- n_2:2.08 _(h&7P9 K{[%7AM 'R
c,Mq' vU767/ 光栅#2——结果 x n5l0'2 这两幅图对比之下再次显示出非常好的匹配度,特别是图表的趋势。 p(~Yx3$* 与参考文献相比,仿真中光栅结构进行了简化,存在一些小的偏差。由于缺乏关于实际的更详细的光栅结构的数据,这种简化是必要的。 poToeagZ~Q G*-b}f c
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