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1. 建模任务 uSQ*/h-<)0 1.1. 模拟条件 y b G)=0 光源: EML Emitter (Unit source) aS7zG2R4H 偶极子方向: Polarization )p Lq^j Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) vSA%A47G 波长: 380~780 nm (10 nm step) WI,=?~- 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) _YS+{0
Vq% ("oA{:@d 1.2 堆栈结构 #50)D wD }sU\6~
 z&0V21"l j5O*H_D 2. 建模过程 Jq#Cn+zW
~e+w@ lK 2.1创建新的项目文件 gsp 7N
NHF?73:
 *La =7y : ^IpiNY/%Q 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 9F](%/
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 kk'w@Sn.( >nDnb4 'C 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) t>2^!vl 3>" h*U#
 @;}H<&" wjJ1Psnx 3. 结果分析 ,9qB}H G
0?xiG SZV 极坐标图结果 @RIEO%S
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 YoJ'=z,e |mmG
s 等高线图结果 61/zrMPn
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