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1. 建模任务 zEF3B 1.1. 模拟条件 o&;+!Si@T 光源: EML Emitter (Unit source) %9-).k 偶极子方向: Polarization ;r-
\h1iA' Ex=Ey=1/Phase=-90˚, 90˚ (circular polarization) N ^ h, [ 波长: 380~780 nm (10 nm step) ;{q7rsE 视角: Theta: 0˚~90˚(10˚ step)/ Phi: 0˚~360˚(10˚ step) A7+eWg{ TxN#3 m?G 1.2 堆栈结构 9:fVHy nr a%;$l_wVT:
 5$GE 3IER8 \KLWOj% 2. 建模过程 rNfua
^z9ITGB~tV 2.1创建新的项目文件 ; '} 1
Xn$]DE/r}N
 f Nm
Sx /Kwo^Q{ 2.2 使用材质或层定义 1D 结构 SG8|xoL
BA A) IQF
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97F D D"]as"# 2.3 设置和编辑膜层的属性(Emitter) /ta-jOcRH& hP`3Ao
 Z)62/`C)
,Z tj 3. 结果分析 lsY5QE:Qrp
%Ni)^ 极坐标图结果 ]#j ]yGV
j@ UI N3
 *vCJTz i )+@'!6 等高线图结果 }j+Z F'#
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