该案例介绍了一个正弦光栅的仿真,该光栅表面具有随机变化的粗糙度结构。此外,分析了对衍射级次的影响,特别是衍射效率。 k7'_ P?\ IlziCB 1. 建模任务 $_onSYWr
g/)mbL>=
5(]=?$$*t 一个正弦光栅不同衍射级次的严格分析和优化。 l q~^&\_# 对于该仿真,采用傅里叶模态法。 7LbBS:@3z_
.i)
H1sD 2. 建模任务:正弦光栅 kFg@|#0v9 N`h, 2!(j x-z方向(截面视图) %4*-BCP S-NKT(H)c
|#^wYZO1U 光栅参数: &!SdO<agZ 周期:0.908um j'R{llZW 高度:1.15um _0Qp[l-
(这些参数提供了一个具有均匀分布传输效率0级和±1级衍射级次,详见案例341) c|.~f+
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3. 建模任务 i7_Nv
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j^-E,YMC
q$L=G
VirtualLab光栅工具箱提供的光栅级次分析器,可对光栅衍射效率进行严格的计算。 &mXJL3iN
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利用该分析器,也可以分别计算出现的每个衍射级次的衍射效率。 :m#[V7
S:aAR*<6
I]+xerVd
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4. 光滑结构的分析 +i HZ*
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计算衍射效率后,结果可在级次采集图中显示。 {Rc mjI7
对于光滑结构,参数平稳,0级和±1衍射级次的传输效率大约为32% "*UN\VV+s
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ldk (zAB.
5. 增加一个粗糙表面 %Z_/MNI
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H2[VZ&Pg VirtualLab光栅工具箱可将两个界面进行组合(如添加)。 Se~<Vpo 因此任意光栅形状(如正弦光栅)可以与粗糙表面组合,形成粗糙光栅面型。 @{/GdB,} mqe83 k%
paCC'*bv mWEaUi)Zz
+5~5BZP t7#lRp& bvn%E
H 该粗糙面有可通过几个选项来实现表面的变化(如周期化)。
),cozN=NM 第一个重要的
物理参数称为”最小特征尺寸”。
fz>3 第二个重要的物理参数是定义”总调制高度”。
K!~j}z* VgGMlDl
8.JFQ/)i =c/jS 6. 对衍射级次效率的影响 C.]\ 4e [u*-~( H#/ #yVw 粗糙度参数:
E3hql3= 最小特征尺寸:20nm
m{#?fR=9 总的调制高度:200nm
f
wE
b 高度轮廓
2-G6I92d 2:[
-
]? 2xS?vd y0}3s)lKv }`fFzb 效率
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_W
+>b m~6 粗糙表面对效率仅有微弱的影响
S2+X/YeB I'h|7y\ TwfQq` 粗糙度参数: 最小特征尺寸:20nm
LK>AC9ak< 总调制高度:400nm 高度轮廓
3g79pw2w= /FJ.W<hw
r<MW8 yj$a0Rgkv 效率
~W/|RP7S YzA6*2
由于粗糙表面的总调制高度变大,±1级衍射效率发生轻微不对称。 P55QE+B S[zETRSG 粗糙度参数: SHow~wxw 最小特征尺寸:40nm jK(]eiR$S 总调制高度:200nm wn1` 9 高度轮廓 simD<&p
s2Rg-:7
Q$bi:EyJXc
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效率 h/goV
fvE:'( #?
MA`.&MA.
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更大的”最小特征尺寸”降低了0级衍射的透射效率。 DYf3>xh>xb
1XppC[))
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粗糙度参数: C<B+! 16
最小特征尺寸:40nm {,X}Btnwp
全高度调制:400nm 2%Mgg,/~
高度轮廓 j+eto'
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效率 b'O>qQ
t,]E5,1
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对于较粗糙的表面,0级衍射效率大幅降低,而且±1级衍射效率的不对称性增大。 q)f-z\
2kSN<jMr
7. 总结 ^'G,sZ6'Nh
VirtualLab的光栅工具箱可对任意形状光栅结构进行严格分析(如包含一个附加粗糙面的正弦光栅)。 1@Gmzh
对于这种类型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里叶模态法。 6%A_PP3Z
光栅级次分析器能够计算全部或特定衍射级次的衍射效率。 7[I%UP
利用VirtualLab光栅工具箱,光栅表面的粗糙度可被加以考虑。因此,由于加工引起的结构差异产生的影响可被估算。 UFl+|wf
H&*KpOL