1.模拟任务 (?1$ "{D/a7]lC 本
教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。
?Cf'IBpN 设计包括两个步骤:
Zio!j%G - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。
GE!nf6>Km - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。
:;eOhZ=_ 设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。
q%;cu1^"M ~&)\8@2 LvG$J* 照明光束参数 "H(3pl. 2v ~8fr4 3?FY?Q[ 波长:632.8nm
}}TPu8Rl 激光光束直径(1/e2):700um
^R@)CIQ 2PSExK57 理想输出场参数 GCN-T1HvA2 fL2P6N@ YM_ [ 直径:1°
cwzkA,e@ 分辨率:≤0.03°
$EFS_*<X 效率:>70%
g3kbsi7_: 杂散光:<20%
\ 2y/: 1M??@@X M8WjqTq 2.设计相位函数 lF(v<drkB L%v@|COQ3 cOP'ql{" 45.ks. 相位的设计请参考会话编辑器
F(`|-E"E; Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和
优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。
D*- 设计没有离散相位级的phase-only传输。
S&UP;oc ; j.d 3.计算GRIN扩散器 8wkhbD|; GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。
xFp$JN 最大折射率调制为△n=+0.05。
2K>1,[ C'Z 最大层厚度如下:
'Jf
LTG. *]yrN` 4.计算折射率调制 tP|/Q5s Gn
9oInY1 从IFTA优化文档中显示优化的传输
:} =lE"2 QO;Dyef7b 将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。
/a32QuS M%ecWr!tj
yGtTD9j 生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。
|E6_TZ#= kfas4mkc
s*gqKQ; 乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。
ir.RO7f ,4"N7_!7 2EM6k|l5 将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。
}'wZ)N@ A-4;$
QSm IWv5UmjN ^)]U5+g? 数据阵列可用于存储折射率调制。
[(*Eg!?W= 选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。
hev;M)t 插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。
iqB5h|
` i=<;$+tW 5.X/Y采样介质 _}p[(sTV
BmpAH}%T *ilh/Hd> GRIN扩散器层将由双界面元件
模拟。
:u9'ZHkZ 这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。
#:BkDidt2v 元件厚度对应于层厚度12.656μm。
$>#0RzU 折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
h'em?fN( }d;2[fR) [r"Oi|
8I BJ5MCb.w 基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。
'9u?lA^9$ 折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。
!aUYidd 应该选择像素化折射率调制。
15J"iN2"W E'4Psx9: = sTP\} 优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。
tx
d0S! 介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。
R4 eu,,J 39O rY 6.通过GRIN介质传播 4Lg
,J9 I\_2=mL 99*k&mb py\:u5QS 通过折射率调制层传播的传播模型:
$)NS]wJ]3 - 薄元近似
sm'_0EUg - 分步光束传播方法。
`>UUdv{C 对于这个案例,薄元近似足够准确。
%`k [xz 在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。
N,lr~6) 场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。
s1wlO y |HT7m5tu4 7.模拟结果 *;}xg{@ 角强度分布
(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
nG4ZOx.*1g 5FJLDT2Lg 8.结论 Mrgj*| (/$-2.@ VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射
光学元件和全息图。
'|=Pw 优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。
Lqxhy s 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。