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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 (?1$  
    "{D/a7]lC  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 ?Cf'IBpN  
     设计包括两个步骤: Zio! j%G  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 GE!nf6>Km  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 :;e OhZ=_  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 q%;cu1^"M  
    ~&)\8@2  
    LvG$J*  
    照明光束参数 "H(3pl.  
    2v ~8fr4  
    3?FY?Q[  
    波长:632.8nm }}TPu8Rl  
    激光光束直径(1/e2):700um
    ^R@)CIQ  
    2PSExK57  
    理想输出场参数 GCN-T1HvA2  
    fL2P6N@  
    YM_[   
    直径:1° cwzkA,e@  
    分辨率:≤0.03° $EFS_*<X  
    效率:>70% g3kbsi7_:  
    杂散光:<20% \2y/:  
    1M??@@X  
    M 8WjqTq  
    2.设计相位函数 lF(v<drkB  
    L%v@|COQ3  
    cOP'ql{"  
    45.ks.  
     相位的设计请参考会话编辑器 F(`|-E"E;  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 D*-  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 S&UP;oc  
    ; j.d  
    3.计算GRIN扩散器 8wkhbD|;  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 xFp$JN  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 2K>1,[C'Z  
     最大层厚度如下: 'Jf LTG.  
    *]yrN`  
    4.计算折射率调制 tP|/Q 5s  
    Gn 9oInY1  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 :} =lE"2  
    QO;Dyef7b  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 /a32QuS  
    M%ecWr!tj  
    yGtTD9j  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 |E6_TZ#=  
    kfas4mkc  
    s*g qKQ;  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 ir.RO7f  
    ,4"N7_!7  
    2EM6k|l5  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 }'wZ)N@  
    A-4;$ QSm  
    IWv5UmjN  
    ^)]U5+g?  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 [(*Eg!?W=  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 hev;M)t  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 iqB5h| `  
    i=<;$+tW  
    5.X/Y采样介质 _}p [(sTV  
    BmpAH}%T  
    *ilh/Hd>  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 :u9'ZHkZ  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 #:BkDidt2v  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 $>#0RzU  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    h'em?fN(  
    }d; 2[fR)  
    [r"Oi| 8I  
    BJ5MCb.w  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 '9u?lA^9$  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 !a UYidd  
     应该选择像素化折射率调制。 15J"iN2"W  
    E'4Psx9: =  
    sTP\}  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 tx d0S!  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 R4 eu,,J  
    39O rY  
    6.通过GRIN介质传播 4Lg ,J9  
     I\_2=mL  
    99*k&mb  
    py\:u5QS  
     通过折射率调制层传播的传播模型: $)NS]wJ]3  
    - 薄元近似 sm'_0EUg  
    - 分步光束传播方法。 `>UUdv{C  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 %`k [xz  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 N,lr~ 6)  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 s1wlOy  
    |HT7m5tu4  
    7.模拟结果 *;}xg{@  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    nG4ZOx.*1g  
    5FJLDT2Lg  
    8.结论 M rgj*|  
    (/$-2.@  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 '|=Pw  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 Lqxh y s  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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