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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 XIh2Y\33ys  
    OLUQjvnU  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 -NtT@ +AE  
     设计包括两个步骤: LuY`mi  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 s, m+q)  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 T0s7aw[zm  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 s|rlpd4y  
    QLH&WF  
    TJ[C,ic=D  
    照明光束参数 hm3,?FMbq  
    yaD<jc(O  
    tt%Zwf  
    波长:632.8nm TU$PAwn=  
    激光光束直径(1/e2):700um
    U^vQr%ha  
    '$pT:4EuGq  
    理想输出场参数 ,Q4U<`ds!  
    | qtdmm  
    "}Kvx{L8  
    直径:1° A`<#}~A  
    分辨率:≤0.03° }uo5rB5D  
    效率:>70% D5fJuT-bp  
    杂散光:<20% F>jPr8&  
    26JP<&%L  
    '#$Y :/  
    2.设计相位函数 B!GpD@U  
    z_R^n#A~r  
    6TJ5G8z_  
    Y(GH/jw  
     相位的设计请参考会话编辑器 E@TX>M-&  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 $V-]DD%Y  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 L0uvRge  
    :zfnp,Gv  
    3.计算GRIN扩散器 E0[!jZ:c  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 ~fw 6sY#  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 ^@ s!"c  
     最大层厚度如下: \eF5* {9  
    B+S &vV  
    4.计算折射率调制 #m?GBr%k  
    jUtrFl  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 ;~T)pG8IS  
    _'<V<OjVM!  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 KK4>8zGR  
    (q`Jef  
    ~r;da9  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 {dvrj<?  
    SjD,  
    FP<RoA? W  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 3 lH#+@  
    Je_Hj9#M\d  
    QwXM<qG*  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。 xb\(>7M6Y  
    A Ntp7ad  
    H6E@C}cyM  
    6G6Hg&B  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 5 EDHJU>  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 vLn<=.  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 k| 0Fa}Z[  
    "wL~E Si  
    5.X/Y采样介质 $_ub.g|  
    .B*Yg<j  
    2!f0!<te  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 }u cqzdk#2  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 IIeEe7%#  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 Ht+ng  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    f^](D'L?D  
    ^y'xcq  
    g! ~&PT)*  
    ^% BD  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 &:=   
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 (bt^L3}a  
     应该选择像素化折射率调制。 pC(AM=RY!  
    }hyK/QUCoN  
    l|O^yNS  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 "BjQs<]%sF  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 ^|xj.  
    Dntcv|%u  
    6.通过GRIN介质传播 d=WC1"  
    ,'5P[-  
    ;d G.oUk=  
    %\N.m/5  
     通过折射率调制层传播的传播模型: "F>-W \%  
    - 薄元近似 <y'B !d#  
    - 分步光束传播方法。 g3n^ <[E  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 ;hF>iw  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 +P|$T:b  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 $m:}{:LDCf  
    =sRd5aMs  
    7.模拟结果 a8M.EFa:  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    D}"\nCz}y&  
     ;Fcdjy  
    8.结论 9 pE)S^P  
    ?# >|P-4  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 ~] Mq'  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 JiZ9ly( G  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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