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    [技术]设计和分析GRIN扩散器(完整) [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-10-30
    1.模拟任务 =Oo=&vA.oc  
    z}'-gv\,  
     本教程将介绍设计和分析生成Top Hat图案的折射率调制扩散器图层。 op\'T;xIu  
     设计包括两个步骤: ~N<zv( {lG  
    - 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。 ,4O|{Iu#n  
    - 基于相位调制来计算对应的折射率调制。 !p&[:+qN  
     设计相位函数是基于案例DO.002。在开始设计一个梯度折射率扩散器之前,我们迫切地推荐您先阅读这个案例。 LHQ$0LVt>T  
    KaEL*  
    #H0-Fwo  
    照明光束参数 p_^Jr*Mv  
    TuF;>{~}  
    9/?@2  
    波长:632.8nm m?Tv8-1  
    激光光束直径(1/e2):700um
     `7v"(  
    ?Xdb%.   
    理想输出场参数 _,,w>q6K  
    4^3}+cJ7j  
    S!'Y:AeD&  
    直径:1° d`}t!]Gg  
    分辨率:≤0.03° aYJTSgW  
    效率:>70% eflmD$]SW  
    杂散光:<20% )=~OP>7B  
    Yo 0wufbfV  
    sbeS9vE  
    2.设计相位函数 >-%tvrS%  
    2.,4b-^  
    A_:CGtv:  
    (hB+DPi  
     相位的设计请参考会话编辑器 O,a1?_m8  
     Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp。 `#/0q*$  
     设计没有离散相位级的phase-only传输。 , QB]y|:  
    -a=RCzX]  
    3.计算GRIN扩散器 wFe?0u  
     GRIN扩散器应该包含一个1mm厚度石英玻璃作为基板,和一个折射率调制的丙烯酸薄层。 \ 5&-U@  
     最大折射率调制为△n=+0.05。 `(2Y%L(r  
     最大层厚度如下: (_9u<  
    E.V lz^B  
    4.计算折射率调制 jpGZ&L7i&  
    -:$#koW  
    从IFTA优化文档中显示优化的传输 *VuiEBG  
    |TQ#[9C0  
     将传输相位转变为实部,通过函数Manipulation→Field Quantity Operations→Move→Phase to Real。 iE6?Px9]  
     ktA5]f;  
    %1oh+'ES F  
     生成正向函数,通过Manipulation→Amplitude/Real Part Manipulation→Lift Positive函数。 [}mx4i  
    8zI*<RX.Q  
    y-.<iq  
     乘以最大调制折射率(0.05),通过Manipulation→Operation with Constant→Multiply Constant函数。 3Fu5,H EJ  
    fTq/9=Rq4  
    K*QRi/O  
     将数据转换成数据阵列:Manipulation→Create Numerical Data Array(参见下一张)。  V6L0\  
    4#^E$N:  
    L?Fb}  
    eBZ94rA]  
     数据阵列可用于存储折射率调制。 io[>`@=  
     选择在下一个对话框中将实部转化为一个数据阵列图。 !l(O$T9 T  
     插值应该设置为Nearest Neighbor来得到一个像素化折射率调制。 ;h7W(NO~z  
     l_2B  
    5.X/Y采样介质 rGn6S &-  
    D\4pLm"!v  
    ~Y_5q)t(  
     GRIN扩散器层将由双界面元件模拟 ]B2%\}c  
     这个元件可以在平面层和任意折射率调制之间进行模拟。 vWs#4JoG  
     元件厚度对应于层厚度12.656μm。 |7$Q'3V  
     折射率调制由采样x/y调制介质模拟。
    j*6>{_[  
    CVAX?c{   
    fe3a_gYPz  
    .7<6 zG6J  
     基材丙烯酸的离散数据应该从miscellaneous材料目录中加载。 )wM881_!  
     折射率调制的数据阵列必须设置到介质中。 O{<uW-  
     应该选择像素化折射率调制。 .rcXxV@f  
    zMg(\8  
    (g*mC7 HN  
     优化的GRIN介质是周期性结构。 只优化和指定一个单周期。 EK%J%NY  
     介质必须切换到周期模式。周期是1.20764μm×1.20764μm。 {hH8+4c7  
    yt4sg/] :  
    6.通过GRIN介质传播 N hY`_?)  
    sJ>JHv  
    %W8*vSbx  
    oG$OZTc  
     通过折射率调制层传播的传播模型: INRP@Cp1  
    - 薄元近似 8+n *S$  
    - 分步光束传播方法。 &-c{  
     对于这个案例,薄元近似足够准确。 mb?r{WCi  
     在传播面板上选择传播方法,并且编辑传播设置。 .5E6 MF  
     场采样必须设置为手动模式并且采样距离为4.5μm(半像素尺寸)。 H?4t\pSS  
    t!&p5wJ*Q  
    7.模拟结果 IQ $/|b/  
    角强度分布
    (参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
    PN"=P2e/ 6  
    :m[HUh  
    8.结论 9$WA<1PK+  
    9zD,z+  
     VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。 +'"NKZ.>TT  
     优化的GRIN元件可以生成任意的二维强度分布。 i$g6C  
     可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。
     
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