示例.0012(1.0)
|]9L# RL$%Vy0 关键词:
LED,
激光,谐波场,谐波场设置,
光谱,脉冲,偏振
Z~<=I }@ )E}@h%d 1. 描述 }LeS3\+UHl IJt'[&D 通过该案例,介绍如何配置
光源来
模拟在一个平面上的不同辐射。
&_u.q/~ 在一般的VirtualLab中,区分了相干光源模型和部分相干光源模型。
^Ua6.RH8 横向和光谱辐射特性可以通过以下方式进行定义:
.cHkh^EDY — 预设公式
^/6P~iK' — 测量数据
YWs?2I — 用户自定义的公式
bkc*it 光源没有输入且只有一个输出通道。
Oet+$ b VirtualLab中,除了激光谐振器工具箱外,光源内部的处理不做仿真。
Xhq6l3 M _9JFlBx 2. 光路图中的光源 eWNg?*/ H\qZu%F' h!v<J uT'l.*W6i 3. 光源-基本参数 '
,S}X\
C JER&"em7
EZN!3y| m %B( rW?p& 7~F~ 'V 通过基本参数表可以配置光源的所有共性参数。
Sb> &m 可以输入一个距离光源平面的横向偏移和距离。
IRwtM'%0 用户可以直接定义光源后的介质。
BjagG/sX 支持以下附加配置:
0Sz[u\w — 场尺寸
V.z8
]iG — 场形状(矩形,椭圆)
|35OA/O?X — 边缘宽度(切趾)
;kY~-Om $XTtD UP@
4. 光源-场尺寸和形状 f*B-aj# 92t.@!m` 大多数分析的光分布都是无限扩展的
\hZ%NLj 对于计算机,所有的光分布必须是有限扩展的。
3F@P$4!#l VirtualLab中引入了场尺寸、场形状和边缘宽度(切趾)的概念,
o{! :N> ( 通过在场边缘使用高斯切趾减小数值误差。
]gg(Z!|iQ 场尺寸可自动定义也可手动定义。
D%nd7
| 此外,提出的场尺寸可以通过场尺寸因子进行更改。
kaXq. QF\nf_X q[C?1Kc.z &e@)yVLL 5. 光源-空间参数 AB`.K{h
Qj;{Z*l%+
(/N&_r4x J-Tiwl 1kKfFpN 在空间参数页面,用户可以定义横向分布的附加参数。
_1&Ar4: ~^V&n`*7D 空间参数的具体内容是根据光源配置决定的。
?KOw~-u uBa<5YDF 6. 光源-偏振 R-j*fO}
Jp_#pV*}:
>>,G3/Zd* GaG>0x 在偏振表中,用户可以定义光源的偏振特性。
4minzrKM\ 以下偏振类型可用:
8ZVQM7O — 线性偏振(输入到X轴的角度)
*
l1*zaE — 圆偏振(左旋或右旋偏振)
(X,i,qK/ — 椭圆偏振(定义偏振椭圆)
j}eb
_K+I — 一般的(输入琼斯矩阵)
;//9,x9;t 偏振最终是以琼斯矩阵来表示的。
]FZPgO'G e5>'H!) 7. 光源-光谱参数 ;6Yg}L
xF8n=Lc
P .m@|w&.K ~}}<+ JEEO 用户可以在3种不同的的模式中选择
PnA{@n\ — 单
波长(单色仿真)
8ROKfPj;z — 三波长(三个波长,并通过权重进行定义)
Ze eV- — 波长列表(带权重的波长列表,通过图表或ASCII导入)
xBVOIc[4( 如果是可见光则结果显示为色彩,否则为黑色。
3WJk04r n jWe^ 8. 光源-光谱生成器 5b7(^T^K dHXe2rTE;& )x7n-|y6 MhD' 在光源工作区内有几种生成器,可用于定义光源和脉冲的光谱
0_gN]>,9n 生成的数据阵列可以表示光谱信息,并可导入光源。
1xW!j!A; M% \T5 9. 光源-采样 &,k!,<IF fx5S2%f^ BsIF3sS#9 在采样选项卡中,用户可以定义用于生成场的采样参数。
!%,7*F( 在VirtualLab中提供了一个默认的自动采样模型,该模型已能够满足大部分情况的需要。
UxTLr-db^ |(3y09 $u!(F]^ 自动采样建议可以使用采样因子来修改
BB/wL_=: 如果需要,用户也可以手动定义采样。
nc k/Dw 手动模式下,用户可以选择修正采样点数量或者采样距离。
OuTV74 嵌入因子用来在数据点附近引入零填充。
p2Ep(0w,R5 因此,输入平面上用于表示光源的整体尺寸通过下式定义:
_xaum cERIj0~ G<$:[ +w $v;WmYTJ K6IT$$g 数组通过以下定义:
o+E~iCu5 warray—>数组尺寸
9&eY<'MgP wfield size—>场尺寸
Xxg|01 wedge width—>绝对边缘宽度
.KA-=$~J1 ∆x —>采样距离
>zW2w2O3 Nembedding—>采样点处嵌入窗口宽度
L7C ;l,ot ?}cmES kX@ 10. 光源-光线选择 T7,]^
1
aj&L
Z DD6
=OHX5:Z &j F'2D^_ yW|J`\`^T 用户可以定义产生的
光线的数量和模式(用与光线追迹)
3x+lf4" 支持以下光线模式:
!<p,G`r — x-y –网格(在x和y上的等距网格)
HoGYgye= — 六角形(定义光线的密度)
%;'~TtW5 — 随机的(随机分布的光线数量)
6<];}M_{ v1OVrk>s> 11. 光源-模式选择 >3uNh:|>/
/mex{+p>tO
_Vr- bpAf Jl~ *@0( -#|;qFD] 对于部分相干光模式,该模式的位置和权重可以在模式选项卡中定义。
<L-F3Buu 对于所有的光源,用户可以修改模式并生成光源。
..)J6L5l 此选项仅可用于产生模式的一个子集以来检测光源和
系统的总体性能。
GTdoUSUq [CJ<$R ! 12. 在主窗口中生成光源 6gV*G
>(Y CZ
-5<[oBL; 也可以在主菜单中引入一个光源生成器生成谐波场(光源设置)。
Jl{ 0q7b 对于基本光源,可以指定单色或多色的不同相干光源。
5#DMizv6 i>Q!5 Nz
dN4+ I&1Lm)W& 对于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
ix!xLm9\ 这些光源可以用于,如仿真LED,受激准分子
激光器和多模激光器仿真
;st0Ekni) N:lfKI 13. 总结 ~|+ ~/ Z 1HH0{q-A VirtualLab中的光源生成器不仅应用非常灵活,而且界面友好,易于定义用于进一步的模拟或操作的光源场。
"-Q+!byh 通过标准的方式指定光源所有参数,使用户对使用的概念更加熟悉,并可通过相同的步骤配置所有光源。
AF'< VirtualLab中不仅可以模拟基本光源(如球面场、平面场以及高斯光场)也可模拟部分相干光源(仿真LED,受激准分子激光器和多模激光器)。