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1aRTvaGo 内容简介 !PEKMDh Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 H<i!C|AF 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 h>GbJ/^ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ,IboPh&Q78 IMqe( 讯技科技股份有限公司 /}U)|6-B
k"DZ"JC 目录 #9]2Uixq[ Preface 1 aXVldt' 内容简介 2 N}B&(dJ 目录 i QH(&Cu, 1 引言 1 Ii[U% 2 光学薄膜基础 2 `&q+ f+z 2.1 一般规则 2 z[_Y,I 2.2 正交入射规则 3 h092S |iY 2.3 斜入射规则 6 ]ASw%Lw) 2.4 精确计算 7 ~"`e9Im 2.5 相干性 8 c{y'&3\
2.6 参考文献 10 )$E){(Aa 3 Essential Macleod的快速预览 10 U3:|!CC)T 4 Essential Macleod的特点 32 `f~bnL 4.1 容量和局限性 33 Oz-/0;1n 4.2 程序在哪里? 33 }WC[<AqI 4.3 数据文件 35 *'8q?R?7g 4.4 设计规则 35 R)Mkt8v 4.5 材料数据库和资料库 37 hfY/)-60o 4.5.1材料损失 38 ">wvd*w0"( 4.5.1材料数据库和导入材料 39 nN<,rN{: 4.5.2 材料库 41 t`Z3*?UqI 4.5.3导出材料数据 43 dE,E,tv 4.6 常用单位 43 !% W5@tN 4.7 插值和外推法 46 #*CMf.OCh 4.8 材料数据的平滑 50 Wgte.K> / 4.9 更多光学常数模型 54 Pa d)| 4.10 文档的一般编辑规则 55 "QXnE^ 4.11 撤销和重做 56 r4iNX+h?V 4.12 设计文档 57 i3|xdYe$ 4.10.1 公式 58 )GG9[%H! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 N80ogio_Tk 4.10.3 沉积密度 59 )YEAk@h@ 4.10.4 平行和楔形介质 60 +:jonN9d 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ya~;Of5 4.10.4 性能 61 iKPgiL~ 4.10.5 保存设计和性能 64 KQ]sUNH 4.10.6 默认设计 64 MhHh`WUGh 4.11 图表 64 sv%E5@ 4.11.1 合并曲线图 67 @,sjM] 4.11.2 自适应绘制 68 lJFy(^KQG, 4.11.3 动态绘图 68 ^rq\kf*] 4.11.4 3D绘图 69 4pT^* 4.12 导入和导出 73 Psx"[2iZm 4.12.1 剪贴板 73 \)uA:v 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 a~LA&>@ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 wMCg`rk 4.13 背景 77 %p)&mYK{ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 3^wHL:u 4.15 生成Rugate 84 T_Tu>wQX 4.16 参考文献 91 BrSvkce 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 dYD;Z<l 5.1 Jobs 92 uQ_C<ii"W 5.2 创建一个新Job(工作) 93 %b*N.v1+ 5.3 输入材料 94 jcj8w 5.4 设计数据文件夹 95 n!Y_SPg
5.5 默认设计 95 <\$"U5"` 6 细化和合成 97 iQ
Xlz]' 6.1 优化介绍 97 (S W6?5 6.2 细化 (Refinement) 98 &D{!zF 6.3 合成 (Synthesis) 100 9VTAs:0D= 6.4 目标和评价函数 101 Ddq*}Pf0K 6.4.1 目标输入 102 cd1-2-4U 6.4.2 目标 103 !YGHJwW: 6.4.3 特殊的评价函数 104 HM)D/CO,? 6.5 层锁定和连接 104 zT)cg$8%fY 6.6 细化技术 104 e{87n>+, 6.6.1 单纯形 105 h&L-G j 6.6.1.1 单纯形参数 106 O6?{@l 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 <FBH;}] 6.6.2.1 Optimac参数 108 o S%(~])\ 6.6.3 模拟退火算法 109 %.`u2'^ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ,_YI:xie|c 6.6.4 共轭梯度 111 sdO8;v> 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 <S7SH-{_\ 6.6.5 拟牛顿法 112 WynTU? 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 1o\2\B=k{ 6.6.6 针合成 113 fh)eL<I 6.6.6.1 针合成参数 114 K!ogpd&X& 6.6.7 差分进化 114 qgl-,3GY%N 6.6.8非局部细化 115 XZk%5t|t 6.6.8.1非局部细化参数 115 x^)?V7[t 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {:"<E?+ 6.7.1 细化 116 \PT!mbB? 6.7.2 合成 117 `T+>E0H(f 6.8 参考文献 117 xV+\R/)x
7 导纳图及其他工具 118 k?Hi_;o 7.1 简介 118 7Dssr [ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 yc]_ ?S>9 7.2.1 四分之一波长规则 119 9*FA=E 7.2.2 导纳图 120 E<-W & a } 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U3B&3K} ~ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 < |