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ohc/.5Kl 内容简介 w371.84 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 g<hv7?"[ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?(,5eg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 $@u^Jt, ? j quSR= 讯技科技股份有限公司 zNsL^;uT
cT>z 目录 WfTdD.Xx Preface 1 a_pCjG89 内容简介 2 St3(1mApl 目录 i *(\;}JF- 1 引言 1 .~A"Wyu\ 2 光学薄膜基础 2 *nsnX/e(- 2.1 一般规则 2 2LxVt@_R!% 2.2 正交入射规则 3 tZNad 2.3 斜入射规则 6 [#Nx>RY 2.4 精确计算 7 ,$6MM6W;-F 2.5 相干性 8 *v:,rh 2.6 参考文献 10 ,a]~hNR*X 3 Essential Macleod的快速预览 10 G%p!os\> 4 Essential Macleod的特点 32 qh(-shZ4Du 4.1 容量和局限性 33 e@2Vn? 5 4.2 程序在哪里? 33 T24#gF~ 4.3 数据文件 35 L"[wa.< 4.4 设计规则 35 S)'q:`tZo 4.5 材料数据库和资料库 37 #o"HD6e 4.5.1材料损失 38 Z;~E+dXC 4.5.1材料数据库和导入材料 39 #`vGg9 4.5.2 材料库 41 ~g4rGz 4.5.3导出材料数据 43 Y^jnlS)h 4.6 常用单位 43 DO- K 4.7 插值和外推法 46 C(t6;&H 4.8 材料数据的平滑 50 }_kI> 4.9 更多光学常数模型 54 602eLV) 4.10 文档的一般编辑规则 55 [-Dgo1}Qr 4.11 撤销和重做 56 aji~brq 4.12 设计文档 57 |L_g/e1 A3 4.10.1 公式 58 X_s G6Q@ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 {u_k\m[Y 4.10.3 沉积密度 59 .{]c&Ef+f 4.10.4 平行和楔形介质 60 rd 35) 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 G|G?h 4.10.4 性能 61 +} ! F(c 4.10.5 保存设计和性能 64 N>6yacTB 4.10.6 默认设计 64 2W:?#h3 4.11 图表 64 XFf+efh 4.11.1 合并曲线图 67 sO4}kxZ 4.11.2 自适应绘制 68 NX{-D}1X= 4.11.3 动态绘图 68 tCCi|*P
G 4.11.4 3D绘图 69 +SA<0l 4.12 导入和导出 73 hq8/`u
YF 4.12.1 剪贴板 73 Q0"F> %Cn 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 zS"zb 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 :V-}Sde 4.13 背景 77 O->(9k < 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 vzrD" 4.15 生成Rugate 84 :qSi>KCGh 4.16 参考文献 91 ~
%YTJS 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 q;a*gqt 5.1 Jobs 92 _M]rH<h 5.2 创建一个新Job(工作) 93 8.%a"sxr 5.3 输入材料 94 -IsdU7} 5.4 设计数据文件夹 95 soVZz3F 5.5 默认设计 95 %K7EF_% 6 细化和合成 97 DdS3<3]A 6.1 优化介绍 97 O<d?'{ 6.2 细化 (Refinement) 98 ZNC?Ntw 6.3 合成 (Synthesis) 100 s)DNLx
6.4 目标和评价函数 101 BM$tywC 6.4.1 目标输入 102 wZ3vF)2s 6.4.2 目标 103 0)Xue9AS 6.4.3 特殊的评价函数 104 OTHd1PSOu 6.5 层锁定和连接 104 >5vl{{,$K 6.6 细化技术 104 h`;F<PFW 6.6.1 单纯形 105 Y./}zCT 6.6.1.1 单纯形参数 106 JHh9> .1 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Rb}&c)4 6.6.2.1 Optimac参数 108 "O1*uwm 6.6.3 模拟退火算法 109 dpn&)?f 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Qbt>}?- 6.6.4 共轭梯度 111 ,bwopRcA 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 "`gZy)E 6.6.5 拟牛顿法 112 )%@WoBRj 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 W;g+R- 6.6.6 针合成 113 dVtLYx 6.6.6.1 针合成参数 114 Cv(N5mA2 6.6.7 差分进化 114 !2M[ 6.6.8非局部细化 115 GKx,6E#JM 6.6.8.1非局部细化参数 115 y~ 4nF 6.7 我应该使用哪种技术? 116 R qjDMN: 6.7.1 细化 116 T0"0/{5-_ 6.7.2 合成 117 1;~ 1U9V 6.8 参考文献 117 )qP{X,Uf 7 导纳图及其他工具 118 B';>Hk 7.1 简介 118 \C2P{q/m 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 eh7r'DmAR 7.2.1 四分之一波长规则 119 #~-&&S4a.J 7.2.2 导纳图 120 Wu;|(2I 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 j{-7Pf8A 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 L.%~?T[F 7.5 斜入射导纳图 141 -j=& |