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knzED~v@( 内容简介 uPv?Hq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 !jq6cND 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ~2}ICU5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _-\{kJ (4{9
QO 讯技科技股份有限公司 1CVaGD^r{
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W 目录 km^+
mK Preface 1 ,VsCRp 内容简介 2 BD#;3?| 目录 i 0U*"OSpF 1 引言 1 r8>?-P 2 光学薄膜基础 2 :uDB3jN[ 2.1 一般规则 2
/?xn 2.2 正交入射规则 3 aKtTx~$@ 2.3 斜入射规则 6 cS7!,XC 2.4 精确计算 7 ZSt
ww{Z 2.5 相干性 8 2A
,36, 2.6 参考文献 10 :P"Gym 3 Essential Macleod的快速预览 10 /n7,B} 4 Essential Macleod的特点 32 *~^^A9C8 4.1 容量和局限性 33 *{s[$}uQ 4.2 程序在哪里? 33 v[3sg2. 4.3 数据文件 35 --FtFo 4.4 设计规则 35 1&"1pH 4.5 材料数据库和资料库 37 +0 |0X {v 4.5.1材料损失 38 @cGql=t 4.5.1材料数据库和导入材料 39 w! 7/;VJ3d 4.5.2 材料库 41 t O>qd#I 4.5.3导出材料数据 43 r= aQS5 4.6 常用单位 43 Qf]!K6eR 4.7 插值和外推法 46 M0
8Y 4.8 材料数据的平滑 50 c?",kzo 4.9 更多光学常数模型 54 I
GtH<0Du 4.10 文档的一般编辑规则 55 b7j#a# 4.11 撤销和重做 56 =oDrN7`,B 4.12 设计文档 57 wJkkc9Rh'( 4.10.1 公式 58 `VN<6o( 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 >E=a~ O 4.10.3 沉积密度 59 [rsAY&. 4.10.4 平行和楔形介质 60 P[i/o# 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 {HnOUc\4 4.10.4 性能 61 0eP~F2<bC 4.10.5 保存设计和性能 64 T9?_ `h 4.10.6 默认设计 64 Y%@'a~ 4.11 图表 64 l}/UriZ0 4.11.1 合并曲线图 67 Z Uv_u6aD 4.11.2 自适应绘制 68 rID]!7~ 4.11.3 动态绘图 68 p2^OQK 4.11.4 3D绘图 69 [?*^&[ 4.12 导入和导出 73 8:NHPHxB 4.12.1 剪贴板 73 {piS3xBi 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 a!]%@A6p 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 p\\q[6 4.13 背景 77 Xii#Qtd. 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 a@J:*W 4.15 生成Rugate 84 JN)t'm[kyE 4.16 参考文献 91 'L/TaP/3 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 -<=<T@, 5.1 Jobs 92 k<H&4Z)d9 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xE_[=7= 5.3 输入材料 94 m=V2xoMw6 5.4 设计数据文件夹 95 E@KK\m
\e 5.5 默认设计 95 U+
=q_ < 6 细化和合成 97 _Hk`e}} 6.1 优化介绍 97 O~VUViS6$ 6.2 细化 (Refinement) 98 r1]^#&V;MC 6.3 合成 (Synthesis) 100 "o^zOU 6.4 目标和评价函数 101 Rim}DfO/ 6.4.1 目标输入 102 } _z~:{Y 6.4.2 目标 103 QNFrkel 6.4.3 特殊的评价函数 104 *p^MAk9= 6.5 层锁定和连接 104 `( Gk_VAa 6.6 细化技术 104 jo~vOu 6.6.1 单纯形 105 ,P +&-}gn9 6.6.1.1 单纯形参数 106 NQ!F` 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 o++Hdvai 6.6.2.1 Optimac参数 108 Op{Mc$5a 6.6.3 模拟退火算法 109 =fPO0Ot; 6.6.3.1 模拟退火参数 109 6"(&lK\^ 6.6.4 共轭梯度 111 )Be;Zw.| 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 oL;/Qan 6.6.5 拟牛顿法 112 @gOgs 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dmO|PswW 6.6.6 针合成 113 ZHJzh\? 6.6.6.1 针合成参数 114 WyETg!b[ 6.6.7 差分进化 114 PdZSXP4;k 6.6.8非局部细化 115 I_rVeMw= 6.6.8.1非局部细化参数 115 >smaR^m 6.7 我应该使用哪种技术? 116 iDsjIW\j 6.7.1 细化 116 Lsdu:+- 6.7.2 合成 117 6BnjT 6.8 参考文献 117 hCgNS1%4 7 导纳图及其他工具 118 %O${EN 7.1 简介 118 zl5S)/A 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 <PxEl4 7.2.1 四分之一波长规则 119 x@=7M'vr% 7.2.2 导纳图 120 J,7\/O(`A 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 N.?Wev{ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Lnzhs;7L 7.5 斜入射导纳图 141 a4yU[KK 7.6 对称周期 141 i]v!o$7 7.7 参考文献 142 ;1nd~0o 8 典型的镀膜实例 143 XN@5TZoaW 8.1 单层抗反射薄膜 145 92i#It}-/ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 uRIr,U^ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 =3'wHl 8.4 W-膜层 148 G r)+O 8.5 V-膜层 149 K5$ y 8.6 V-膜层高折射基底 150 z,tax`O 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 XV& |