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=o(5_S.u; 内容简介 wssRA?9< Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 0S_~ \t 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 rU:`*b< 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 y2dCEmhY t9` .bx8 讯技科技股份有限公司 ZF8 yw(z
N)| yu1S 目录 ~
'cmSiz- Preface 1 l/GGCnO/ 内容简介 2 ,kGc]{'W 目录 i jD]~ AwRJ 1 引言 1 H5B:;g@ 2 光学薄膜基础 2 ::lKL 2.1 一般规则 2 GW@;}m( 2.2 正交入射规则 3 1CD+B=pQG 2.3 斜入射规则 6 Yui3+}Ms 2.4 精确计算 7 hbDXo: 2.5 相干性 8 `pa!~|p 2.6 参考文献 10 L.2^`mZs 3 Essential Macleod的快速预览 10 -UEZ#Q 4 Essential Macleod的特点 32 )p0^zv{ 4.1 容量和局限性 33 G@\1E+Ip 4.2 程序在哪里? 33 %6,SKg p 4.3 数据文件 35 '~<m~UXvD# 4.4 设计规则 35 d#Y^>"|$. 4.5 材料数据库和资料库 37 . B9iLI 4.5.1材料损失 38 yCR?UH; 4.5.1材料数据库和导入材料 39 O2E/jj 4.5.2 材料库 41 m+R[#GE8# 4.5.3导出材料数据 43 |Nn)m 4.6 常用单位 43 py!|\00} 4.7 插值和外推法 46 o3^l~iT 4.8 材料数据的平滑 50 8 &LQzwa 4.9 更多光学常数模型 54 ^7U
G$A 4.10 文档的一般编辑规则 55 m|n%$$S& 4.11 撤销和重做 56 ]EBxl=C}D 4.12 设计文档 57 )JLdO*H 4.10.1 公式 58 XGWSdPJLr 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 kQSy+q 4.10.3 沉积密度 59 mt{nm[D!Xp 4.10.4 平行和楔形介质 60 !8d{q)JZ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 w^|*m/h|@u 4.10.4 性能 61 ?k&Vy 4.10.5 保存设计和性能 64 -q1??u 4.10.6 默认设计 64 |(E
FY\ 4.11 图表 64 oXh#a8 4.11.1 合并曲线图 67 HGs $* 4.11.2 自适应绘制 68 T{.pM4Hd 4.11.3 动态绘图 68 DDP/DD;n}r 4.11.4 3D绘图 69 TH&U
j1 4.12 导入和导出 73 nu[ML 4.12.1 剪贴板 73 L-WT]&n_ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 m@2QnA[4 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Smn;(K 4.13 背景 77 Uw. `7b>B 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Nho>f 4.15 生成Rugate 84 >}8j+t&T 4.16 参考文献 91 rdP[<Y9 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 {_[N<U:QT& 5.1 Jobs 92 i Dp)FQ$ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 x7&B$.>3 5.3 输入材料 94 dO<ERY 5.4 设计数据文件夹 95 HZC"nb}r4 5.5 默认设计 95 {yHCXFWlS 6 细化和合成 97 P6-s0]-g 6.1 优化介绍 97 ghG**3xr 6.2 细化 (Refinement) 98 g0=z&2Q[_) 6.3 合成 (Synthesis) 100 5h=}j 6.4 目标和评价函数 101 .+3g*Dv{& 6.4.1 目标输入 102 Q:G4Z9Kt 6.4.2 目标 103 kW Ml 6.4.3 特殊的评价函数 104 |&+o^ 6.5 层锁定和连接 104 9k'7832u 6.6 细化技术 104 &tLgG4pd 6.6.1 单纯形 105 2ozax)GY 6.6.1.1 单纯形参数 106 XH 4 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 nLZTK&7} 6.6.2.1 Optimac参数 108 z,[Hli*0 6.6.3 模拟退火算法 109 ; ; OAQ` 6.6.3.1 模拟退火参数 109 MDZ640-Y 6.6.4 共轭梯度 111 A Ru2W1g 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 1QcNp(MO 6.6.5 拟牛顿法 112 X8a/ `Y, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 a
od-3"7[ 6.6.6 针合成 113 3</_c1~ 6.6.6.1 针合成参数 114 NqazpB* 6.6.7 差分进化 114 u^+7hkk 6.6.8非局部细化 115 DZ'P@f)] 6.6.8.1非局部细化参数 115 Ha0M)0Anv 6.7 我应该使用哪种技术? 116 RNEp4x 6.7.1 细化 116 Z*]9E^ 6.7.2 合成 117 PB\(= 6.8 参考文献 117 Q0`wt.}V2 7 导纳图及其他工具 118 ;40/yl3r3[ 7.1 简介 118 D[[|")Fn 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 H7&8\FNa 7.2.1 四分之一波长规则 119 0y'H~( 7.2.2 导纳图 120 \R9(x]nZ% 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Y1W1=Uc uk 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 .nf#c.DI 7.5 斜入射导纳图 141 pSH=%u> 7.6 对称周期 141 K*vt;L 7.7 参考文献 142 ok"k*?Ov 8 典型的镀膜实例 143 -n~1C{< 8.1 单层抗反射薄膜 145 T"}5}6rSG 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 KI iO 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 a8e6H30Sm 8.4 W-膜层 148 ed{ -/l~j 8.5 V-膜层 149 r,8 [O 8.6 V-膜层高折射基底 150 T?CdZc. 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 .,|G7DGH] 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 6RU~"C 8.9 四层抗反射薄膜 153 t:x\kp 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Hh3X
\ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 YlJ@XpKM 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 \$~|ZwV{ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 +6M}O[LP 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 R6<X%*&% 8.15十五层宽带抗反射膜 159 "+R+6< |