[培训]线下课程——薄膜设计与镀膜工艺（12月4~6日）上海 [复制链接]

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课程编号CS240016                                                                             S@a#,,\[  
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时间地点 @i
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主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司 1wpeYn7>W  
授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 $MEKt}S  
授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 d M&BnI  
课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问 007SA6xq  
课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) 0=r.I}x  
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特邀专家介绍 ddMSiwbY)  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 4u zyU_  
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课程简介 DM*mOT  
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随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 Zq--m/  
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课程大纲 5CxD ys&<  
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1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 `R]9+_"N  
1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 Mlp[xk|  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） tIgKnKr^)  
1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 Z%Nl<i  
2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 p*r
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2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 CqUK[#kW(  
3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 !Q`GA<ikv  
3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取 h,q%MZ==^s  
4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g `um#}ify#  
4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 PX3rHKK{  
4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 dE*n
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4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 ?#^_yd|<  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接 pC2r{-  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 &WIiw$@  
5.2 分光膜5.3 高反射膜 Z~tOR{q  
5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片 8Hf!@p6R+  
5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 Nw}y_Qf{  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 A+T!DnVof  
5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 N9D<wAK##)  
6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 <a|$Bl  
6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 kL,{H~iq;  
6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 bmotR8d  
7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 |2\6X's  
8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 'w`:p{E  
9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 #;Y JR9VN  
9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 /lSz8h2  
10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题 <LDVO'I0!  
10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 E0^~i:Mk  
11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 @8TD^ub  
11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 8kw`=wSH>  
11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 M SU|T  

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