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)= n6 课程编号CS240016 ?zhI=1ED% <=m
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时间地点 )+w/\~@ qb-2QPEB 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司
iFnOl*TC 授课时间:2024年12月4 (三)-6(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00
GcZM+ c 授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室
:,S8T%d 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问
QxL@'n#5 课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
UVT>7 +24|_Lx0 B-\,2rCC Z 特邀专家介绍 2;%#C!TG;
OAW=Pozr9 易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,主要从事
光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空
镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。
?z5ne?? J})$ 1#>&p%P! 课程简介 N#RD:"RS! 9raHSzK@d 随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计
模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。
@)OnIQN~ pYLY;qkG" 课程大纲 y$j1?7 5:*5j@/S 1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍
软件 `z3|M#r\; 1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能
f[JI/H> 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
W+d9cM= 1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图
d7W%zg\T 2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
fuNl4BU 2.2 后表面对光学薄膜特性的影响
3. 材料管理 hF7V !*5 3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取
UM4@H1 3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取
j*;*Ka w 4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考
波长与g
G *mO&:q 4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图
rPiiC/T.` 4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展
``(}4a 4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置
< -Hs<T|tW 4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)4.6.3 膜层锁定和链接
hi ;WFyJTu 5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜
E/wQ+rv 5.2 分光膜5.3 高反射膜
ERp:EZ' 5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片
i(M(OR/4 5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
q3c*<n g# 5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜
@@xO+$6 5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明
~a'nHy1 6. 薄膜性能分析6.1 电场分布
K,x$c % 6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程
&Q'\WA' 6.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真
7. 真空技术 @DfkGm[% 7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏
; @7 8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术
\yih 1Om>~ 9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素
2UU2Vm_6 9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术
/{fZH,!L 10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题
q?;N7P 10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术
F1 <489 11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜
光谱测量
YHETI~'j. 11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量
lp:_H-sG 11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析
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