[培训]线下课程——薄膜设计与镀膜工艺（12月4~6日）上海 [复制链接]

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课程编号CS240016                                                                             FB0y  
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时间地点 "lp),  
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主办单位：讯技光电科技（上海）有限公司；苏州黉论教育咨询有限公司 g8{?;  
授课时间：2024年12月4 (三）-6（五）共3天  AM 9:00-PM 16:00 ;5P>R[p  
授课地点：上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 4^KoHeM6  
课程讲师：讯技光电高级工程师&资深顾问 hOX$|0i  
课程费用：4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐) !
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特邀专家介绍 _cZ`7]Z  
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易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 "=unDpq]  
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课程简介 U=C8gVb{Hq  
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随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 @5%cP  
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课程大纲 6t5)rlT  
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1. Essential Macleod软件介绍1.1 介绍软件 N[j7^q7Xt  
1.2 创建一个简单的设计1.3 绘图和制表来表示性能 ]u_^~  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 2O|o%`?  
1.6 特定设计的公式技术1.7 交互式绘图 >?,arER  
2. 光学薄膜理论基础2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 Dk|<&uVV  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响3. 材料管理 `he{"0U~S  
3.1 材料模型3.2 介质薄膜光学常数的提取 *HmL8c  
3.3 金属薄膜光学常数的提取3.4 基板光学常数的提取 [FKmZzEy  
4. 光学薄膜设计优化方法4.1 参考波长与g 5hE8b {V  
4.2 四分之一规则4.3 导纳与导纳图 DU7kZ  
4.4 斜入射光学导纳4.5 光学薄膜设计的进展 3:a}<^DuCS  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能4.6.1 优化目标设置 <ZJ>jZV0*  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法）4.6.3 膜层锁定和链接 >qn@E?Uf  
5. 光学薄膜系统设计与分析案例与应用5.1 减反射薄膜 1;ulqO  
5.2 分光膜5.3 高反射膜 3MC| O5R4  
5.4 干涉截止滤光片5.5 窄带滤光片 P,!k^J3:l  
5.6 负滤光片5.7 非均匀膜与Rugate滤光片 /|y3M/;F  
5.8 仿生蛾眼/复眼结构5.9 颜色膜 *g5df[  
5.10 Vstack薄膜设计示例5.11 Stack应用范例说明 twx8TQ9  
6. 薄膜性能分析6.1 电场分布 V|{ )P@Q  
6.2 公差与灵敏度分析6.3 反演工程 IPcAE!h6zN  
6.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真7. 真空技术 \PzC:H  
7.1 常用真空泵介绍7.2 真空密封和检漏 x
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8. 薄膜制备技术8.1 常见薄膜制备技术 ^Y xqJy  
9. 薄膜制备工艺9.1 薄膜制备工艺因素 WjGv%^?  
9.2 薄膜均匀性修正技术9.3 光学薄膜监控技术 bK%go  
10. 激光薄膜10.1 薄膜的损伤问题  UJoWTx  
10.2 激光薄膜的制备流程10.3 激光薄膜的制备技术 ~aH*ZA*f  
11. 光学薄膜特性测量11.1 薄膜光谱测量 
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11.2 薄膜光学常数测量11.3 薄膜应力测量 0-g,C=L  
11.4 薄膜损伤测量11.5 薄膜形貌、结构与组分分析 SGH"m/ e  

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