切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 184阅读
    • 0回复

    [技术]马赫-曾德尔干涉仪 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5422
    光币
    21290
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 09-19
    摘要 tL&_@PD)3  
     lBn<\Y!^  
    干涉测量是一种光学计量的重要技术。 它被广泛应用于表面轮廓，缺陷，机械和高精度热变形等领域的测量。 作为一个典型的例程，在非序列场追迹的帮助下，我们在VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的马赫-曾德尔干涉仪，本案例清楚地展示了光学元件的倾斜和移位对干涉条纹图案的影响。 H94_ae  
    C&F% j.<  
    建模任务 q2k}bb +  
    /&?ei*z  
    2C0j.Ib  
    元件倾斜引起的干涉条纹 [3irr0D7l  
    Pf8_6z_  
    ,>g( %3C  
    元件移位引起的干涉条纹 JAW7Y:XB  
    jKP75jm  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表