[求助]H4冲氧不稳，应该怎么排除？ [复制链接]

我们有台镀膜机H4电子枪充氧量用的压控，设计充到1.0-2，但每一锅都不太稳定，有时候充到7.5-3，有时候充到8.3-3，也有能充到1.0-2的，H4是手动熔的，一般就镀普通AR,导致分光变来变去，稳定不住 ，请教大佬们，这种情况是药里面杂质多还是压控控制系统有问题？应该怎么排除？

坐等分析

控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 s_u@8e 6_  

1.手动融料重复性不好 yd'>Mw  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 ,A4v|]kq]  
3.充氧控制改固定参数 1d"g$i4e  
4.真空计污染导致真空不准确

yzhuang:控制软件PID参数调整一下，一般是可以恒压的，当然，如果放气量很不稳定也可能导致控制失败 j*Uz.q?  
 (2024-09-20 09:09)  3CcCcZ9I  

>}?jOB  
感谢回复，我们这个只能设定数值，PID调不了

度魔银:1.手动融料重复性不好 YuXCRw9p;  
2镀膜机真空度是否有漏气现象 2]of4  
3.充氧控制改固定参数 Yyx
sj9  
4.真空计污染导致真空不准确 (2024-09-20 09:54)  _"%hcCMw  

o%yfR.M6$  
感谢回复，我们先定量充氧试试

真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。 aP$it6Z  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 dy>5LzqK3  
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 +0ALO%G;G"  
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。 `5Bv2wlIV  
最后一个应该就是压控仪本身的问题，比如PID参数过大导致调节缓慢。 >^6|^rc  

ouyuu:真空计和冲氧口的位置和距离很重要，如果压力周期性波动的话，就调整真空计位置。 GEvx<:  
但是现在看来好像是冲氧的压控问题。 \QQWhwE  
真空计一般是用电压信号，要保证压控仪和真空计用的电压定义是一样的。 x<`^4|<  
另外要排除信号干扰，如果真空信号受干扰了，那么肯定无法稳定的进行控制。 {qGXv@ I6  
最后一个应 .. (2024-10-22 22:50)  l{*m-u5&;  

vz(=3C[  
感谢大佬解惑，充氧口是固定的，真空计玻璃规的位置我们每次换没注意位置，才知道这个也会影响真空数据，我们现在定量充氧40，分光比原来稳定了很多，但每层H4充氧后的真空度都有差异

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