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e \Qys<2r 内容简介 LSta]81B4L Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 :{a< ~n` 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qA[lL( 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ZxvH1qx8 DvH-M3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 G!j 9D 目录 0%bCP/ Preface 1 )M0`dy{1 内容简介 2 jt}Re, 目录 i 4|PWR_x 1 引言 1 wlNL;W@w 2 光学薄膜基础 2 t/[lA=0 )2 2.1 一般规则 2 SrKitSG 2.2 正交入射规则 3 %DSr@IX 2.3 斜入射规则 6 ( 1z"=NCp 2.4 精确计算 7 eB~\~@ 2.5 相干性 8 SRfh{u 2.6 参考文献 10 L62'Amml 3 Essential Macleod的快速预览 10 KSs1EmB 4 Essential Macleod的特点 32 -jJhiaJ$< 4.1 容量和局限性 33 r6FTpOF 4.2 程序在哪里? 33 *5Zow 3 4.3 数据文件 35 h8(#\E 4.4 设计规则 35 Ovt]3`U9J 4.5 材料数据库和资料库 37 4.,EKw3 4.5.1材料损失 38 Lip#uuuXXN 4.5.1材料数据库和导入材料 39 Q# hRnM 4.5.2 材料库 41 _&l8^MD 4.5.3导出材料数据 43 0~U0s3 4.6 常用单位 43 Z 7@'I0;A 4.7 插值和外推法 46 xVPSL#> 4.8 材料数据的平滑 50 c=u+X`
Q 4.9 更多光学常数模型 54 "-f]d~P> 4.10 文档的一般编辑规则 55 IRg2\Hq 4.11 撤销和重做 56 c';~bYZ 4.12 设计文档 57 d.f0OhQ 4.10.1 公式 58 ~DD
_n 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~m=GS[= 4.10.3 沉积密度 59 NAo.79 4.10.4 平行和楔形介质 60 N[
=I 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ^\v]Ltd 4.10.4 性能 61 7(2}Vs!5 4.10.5 保存设计和性能 64 =OK#5r[UV 4.10.6 默认设计 64 LGL;3EI 4.11 图表 64 .
Z&5TK4I 4.11.1 合并曲线图 67 QjLU@?& 4.11.2 自适应绘制 68 \ZRII<k5) 4.11.3 动态绘图 68 g/C 7wc 4.11.4 3D绘图 69 3X(^`lAf) 4.12 导入和导出 73 ]L~z9) 4.12.1 剪贴板 73 :Ak^M~6a5 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 CRo'r/G 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 OD'~t,St 4.13 背景 77 bZ_&AfcB 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /6rjGc 4.15 生成Rugate 84 Q%O9DCi 4.16 参考文献 91 ,P<I<QYu 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
Z kw-a 5.1 Jobs 92 =+X*$'<J 5.2 创建一个新Job(工作) 93 7ZI{A*^vB 5.3 输入材料 94 HJr/N)d 5.4 设计数据文件夹 95 1tXc7NA< 5.5 默认设计 95 *{?2M6Z 6 细化和合成 97 &3/`cl[+ 6.1 优化介绍 97 MLr L"I" 6.2 细化 (Refinement) 98 DSs/D1mj&
6.3 合成 (Synthesis) 100 \zJ^XpC 6.4 目标和评价函数 101 rX$-K\4W 6.4.1 目标输入 102 |6NvByc, 6.4.2 目标 103 5V<6_o 6.4.3 特殊的评价函数 104 8TYh&n=r 6.5 层锁定和连接 104 X:Y1g)|K 6.6 细化技术 104 %;4#?.W8 6.6.1 单纯形 105 26~rEOgJ 6.6.1.1 单纯形参数 106 m:Rx<E
E 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 08:K9zr 6.6.2.1 Optimac参数 108 PE7V1U#$o, 6.6.3 模拟退火算法 109 _$*-?*V& 6.6.3.1 模拟退火参数 109 jEKa9rt 6.6.4 共轭梯度 111 07^.Z[(pCt 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 T\wOGaCW 6.6.5 拟牛顿法 112 _x5-!gK
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 B#."cg4VR 6.6.6 针合成 113 (a!E3y5, 6.6.6.1 针合成参数 114 F@/syX;bb5 6.6.7 差分进化 114 8;=?F>]xn 6.6.8非局部细化 115 &h[)nD 6.6.8.1非局部细化参数 115 yYOV:3!" 6.7 我应该使用哪种技术? 116 |QzJHP @ 6.7.1 细化 116 aJm5`az) 6.7.2 合成 117 sUF5Yq:9 6.8 参考文献 117 _BG`!3U+ 7 导纳图及其他工具 118 _6FDuCVD- 7.1 简介 118 dY?l
oFz 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 h<m>S,@g 7.2.1 四分之一波长规则 119 $_
$%L0)5 7.2.2 导纳图 120 .*k!Zl* 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 FIn)O-< 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 KI< |