-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-01-19
- 在线时间1914小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
rB>ge]$. 内容简介 "Ep"$d Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 @DN/]P 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 "+HJ/8Dd1 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 0SQ!lr *uvM6F$ut 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 YpZB-9Krf 目录 6(n0{A Preface 1 {,>G 1>Yv 内容简介 2 'Y38VOI% 目录 i J9^NHU 1 引言 1 s8h*nZ)v 2 光学薄膜基础 2 \J'}CX*aQ 2.1 一般规则 2 T{{:p\<]_ 2.2 正交入射规则 3 Y|Iq~Qy~ 2.3 斜入射规则 6 TW|K.t@5#H 2.4 精确计算 7 mZ)>^.N6 2.5 相干性 8 _imuyt".+ 2.6 参考文献 10 D"7}&Ry: 3 Essential Macleod的快速预览 10 RSX27fb4 4 Essential Macleod的特点 32 |RX#5Q>z 4.1 容量和局限性 33 c~ss^[qx| 4.2 程序在哪里? 33 u`bD`kfT> 4.3 数据文件 35 Pv -4psdw 4.4 设计规则 35 ?qh-#,O9B 4.5 材料数据库和资料库 37 57\ 0MQO 4.5.1材料损失 38 RvzZg%) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 WAu>p3
4.5.2 材料库 41 `7"="T~ * 4.5.3导出材料数据 43 4G&`&fff] 4.6 常用单位 43 a4Q@sn;] 4.7 插值和外推法 46 GVY7`k"km 4.8 材料数据的平滑 50 >eJ<-3L; 4.9 更多光学常数模型 54 zsL@0]e& 4.10 文档的一般编辑规则 55 -/f$s1 4.11 撤销和重做 56 fz'qB-F
Y 4.12 设计文档 57 c_8&4 4.10.1 公式 58 0ho;L 0Nr' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 v$ ti=uk$ 4.10.3 沉积密度 59 ug3\K83aj/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 YWZ;@,W 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 z^bS+0S5x! 4.10.4 性能 61 \&"C 4.10.5 保存设计和性能 64 gV_v5sk
4.10.6 默认设计 64 >|f"EK}m! 4.11 图表 64 '$ei3 4.11.1 合并曲线图 67 @16GF!. 4.11.2 自适应绘制 68 `YhGd?uu$ 4.11.3 动态绘图 68 )Sn0Y B 4.11.4 3D绘图 69 g=Xf&}&=x 4.12 导入和导出 73 f$I=oN 4.12.1 剪贴板 73 atL<mhRz 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 zPt<b!q 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 O(^h_ 4.13 背景 77 #asg5 } 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =?5)M_6) 4.15 生成Rugate 84 *EWWN?d 4.16 参考文献 91 K%q5:9m 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 0Lo8pe`DH 5.1 Jobs 92 EU[\D; 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ?=1eHnP!R 5.3 输入材料 94 \|=6<ZY: 5.4 设计数据文件夹 95 W[2]$TwT 5.5 默认设计 95 :_e[xB=Yy 6 细化和合成 97 o1AbB?%= 6.1 优化介绍 97 TgiZ
% G 6.2 细化 (Refinement) 98 'D\X$^J^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 oE 'P 6.4 目标和评价函数 101 VLuHuih 6.4.1 目标输入 102 t2[/eM.G 6.4.2 目标 103 z33UER" 6.4.3 特殊的评价函数 104 q
G%Y & P 6.5 层锁定和连接 104 1wFu3fh@ 6.6 细化技术 104 l5 9a3=q 6.6.1 单纯形 105 OBi(]l}^O 6.6.1.1 单纯形参数 106 a?[[F{X9^ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ] Q5:JV 6.6.2.1 Optimac参数 108 25>R^2,LiE 6.6.3 模拟退火算法 109 /U;j-m& 6.6.3.1 模拟退火参数 109 U,g8:M
xHK 6.6.4 共轭梯度 111 nPyn~3 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 $|K:
9 6.6.5 拟牛顿法 112 o[Ffa#sE 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 J[ZHAnmPH 6.6.6 针合成 113 ^r~[3NT 6.6.6.1 针合成参数 114 }3
xkA 6.6.7 差分进化 114 M7=,J;@ 6.6.8非局部细化 115 WvfP9(- 6.6.8.1非局部细化参数 115 8~Cmn% 6.7 我应该使用哪种技术? 116 $Q*R/MY 6.7.1 细化 116 A
\/~u"Y 6.7.2 合成 117 uu6 JZp 6.8 参考文献 117 }e\"VhAl/ 7 导纳图及其他工具 118 -1Q24jrO- 7.1 简介 118 <h -)zI 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 \U:OQ.e 7.2.1 四分之一波长规则 119 E ;Z(v 7.2.2 导纳图 120 +ktv:d 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 &gCGc?/R# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 D ,kxB~ 7.5 斜入射导纳图 141 u
W]gBhO$O 7.6 对称周期 141 qPDNDkjDD 7.7 参考文献 142 {$8+n:: 8 典型的镀膜实例 143 a_b#hM/c; 8.1 单层抗反射薄膜 145 6 f*:; 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ]IV{;{E) 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 UT;%I_i!' 8.4 W-膜层 148 o GuAF q 8.5 V-膜层 149 t3)6R(JC 8.6 V-膜层高折射基底 150 FX!KX/OE) 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 tVG;A&\,6 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 5}%R 8.9 四层抗反射薄膜 153 9&sb,^4 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 z|pt)Xl 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 xJ>5 ol 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 coXg]bUKo 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ZID- ~
6 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 B_[efM<R$ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 O#D{:H_dD> 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 /@\`Ibe 8.17 1/4波长堆栈 162 O>L,G)g 8.18 陷波滤波器 163 f&<+45JI 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 TtkHMPlm_ 8.20 褶皱 165 "^&H9 |