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tM;cvc`/ 内容简介 05k'TqT{c Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 k}F7Jw#. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 0 K#|11r 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 |'1.ajxw ]W$G!(3A 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 z/`+jIB 目录 Qw5(5W[L Preface 1 oJ
%Nt&q 内容简介 2 Jk-WD"J6 目录 i >J3mta3 1 引言 1 zN!yOlp5 2 光学薄膜基础 2 g*My1+J! 2.1 一般规则 2 >n3GvZ5% 2.2 正交入射规则 3 Iy49o! 2.3 斜入射规则 6 Y @'do) 2.4 精确计算 7 oA[`|
ji 2.5 相干性 8 yQUrHxm 2.6 参考文献 10 'DVn /3?X 3 Essential Macleod的快速预览 10 t`E5bWG 4 Essential Macleod的特点 32 3))CD,| 4.1 容量和局限性 33 lY"l6.c 4.2 程序在哪里? 33 B G\)B 4.3 数据文件 35 "hI"4xSg 4.4 设计规则 35 hBX.GFnw 4.5 材料数据库和资料库 37 VD7-; 4.5.1材料损失 38 X!LiekU!D 4.5.1材料数据库和导入材料 39 s=-?kcoJ2d 4.5.2 材料库 41 (E@;~7L 4.5.3导出材料数据 43 ?i0+h7=6 4.6 常用单位 43 ]gVA6B?&9 4.7 插值和外推法 46 .<>t2,Af 4.8 材料数据的平滑 50 /klo),|& 4.9 更多光学常数模型 54 zA6C{L G3 4.10 文档的一般编辑规则 55 SF*mY=1 4.11 撤销和重做 56 [[^r;XKQ 4.12 设计文档 57 hNZ_=
<D! 4.10.1 公式 58 /nA>ox78 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^_Lnqk6 4.10.3 沉积密度 59 TM{m:I:Z*n 4.10.4 平行和楔形介质 60 jZqa+nG51 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 q`{@@[/(y 4.10.4 性能 61 i^jM9MAi 4.10.5 保存设计和性能 64 8A]8yX = 4.10.6 默认设计 64 GY-4w@Wl 4.11 图表 64
dnC"` 4.11.1 合并曲线图 67 *(q{k%/M 4.11.2 自适应绘制 68 hs;|,r 4.11.3 动态绘图 68 vb0Ca+}} 4.11.4 3D绘图 69 <:/aiX8 4.12 导入和导出 73 rU"AO}6\@ 4.12.1 剪贴板 73 U:$zlfV 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 9-m_
e=jk6 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 eyDI>7W 4.13 背景 77 {@7UfJh> 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 C $])q`9 4.15 生成Rugate 84 XS@iu,uO 4.16 参考文献 91 W%ix|R^2] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 HI D6h! 5.1 Jobs 92 >BO!jv!a 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $<Gt^3e 5.3 输入材料 94 `k
I}p 5.4 设计数据文件夹 95 OI)k0t^;D 5.5 默认设计 95
b}7g> 6 细化和合成 97 h6LjReNo 6.1 优化介绍 97 L!33`xef' 6.2 细化 (Refinement) 98 aMydeTCHi 6.3 合成 (Synthesis) 100 ^8oN~HLZ 6.4 目标和评价函数 101 ZUB]qzmK 6.4.1 目标输入 102 *B&i `tq 6.4.2 目标 103 0W6='7 6.4.3 特殊的评价函数 104 x?{l<mc 6.5 层锁定和连接 104 rS\mFt X 6.6 细化技术 104 u];\v%b 6.6.1 单纯形 105 9} C(M?d 6.6.1.1 单纯形参数 106 b9.7j!W 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 GPs4:CIgG 6.6.2.1 Optimac参数 108 nrpbQ(zI* 6.6.3 模拟退火算法 109 l3MA&&++KF 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ZyC[w7$I2 6.6.4 共轭梯度 111 ,82?kky 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ?j!/Hc/b4 6.6.5 拟牛顿法 112 C\C*@9=&x 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 :WH0=Bieh 6.6.6 针合成 113 ;2BPEo>z9 6.6.6.1 针合成参数 114 GF<SQHL, 6.6.7 差分进化 114 =hh,yi 6.6.8非局部细化 115 'zt}\ Dt 6.6.8.1非局部细化参数 115 S,+|A)\# 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Vz,"vBds
6.7.1 细化 116 9ys[xOh
WM 6.7.2 合成 117 UG}"OBg/ 6.8 参考文献 117 fEK%)Z:0 7 导纳图及其他工具 118 sV~|9 /r 7.1 简介 118 ) { "}bMf 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 "NSY=)fV 7.2.1 四分之一波长规则 119 `kOp9(Q{ 7.2.2 导纳图 120 &s.-p_4w^D 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 bb/A}<
zD 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 gavf$be
7.5 斜入射导纳图 141 }`$({\^w 7.6 对称周期 141 , YE+k`: 7.7 参考文献 142 +>mU4Fwp 8 典型的镀膜实例 143 1G, ' 8.1 单层抗反射薄膜 145 < |