Ip0@Q}^ 时间地点 l:+pO{7L 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司
[76m gj!K 苏州黉论教育咨询有限公司(微信号:18001704725)
!"J* 授课时间:2024年9月27(五)-29(日)共3天 AM 9:00-PM 16:00
8CSvg{B 授课地点:深圳市光明区凤凰街道光明大道与科裕路交汇处尚智科园1栋1B座1503室
2|w.A! 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问
L@R%*-a 课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
Js#c9l{{ )@`w^\E_~_ 课程简介 XWy
iS\ 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。
Ez1*} 透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面
透镜,被广泛采用在
光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机
镜头、及显示器面板,如OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使
薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。
.}y
Lz 该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上的应用。
<db/. A3 课程大纲 LveqG 1. Essential Macleod软件介绍
fW}H##b 1.1 介绍软件
:~)Q] G1Nj 1.2 运行程序
;%z0iZmg 1.3 创建一个简单的设计
#XY]@V\ 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
;09J;sf 1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义
~ pdf' u]MF
r2 2. 光学薄膜理论基础
^9b
`;}) . 2.1 介质和波
&Y=NUDt_ 2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
<,hBoHZSL 2.3 后表面对光学薄膜特性的影响
:3n.nKANr et ~gO!1:* 3. 理论技术
?HcA&
3.1 参考
波长与g
kWz%v 3.2 四分之一规则
c`}X2u]k 3.3 导纳与导纳图
Y@\5gZ&T 0j/81Y}p 4. 光学薄膜设计
?RzT0HRd 4.1 光学薄膜设计的进展
Pd;ClMa% 4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题
w+$gY?% 4.3 光学薄膜设计技巧
yEqmB4^- 4.4 特殊光学薄膜的设计方法
X5/{Mx`8Oz 4.5 优化目标设置
J+|ohA 4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
qL+y8* 4K;j:ZJ"x 5. 常规光学薄膜系统设计与分析
l?1!h2z% 5.1 减反射薄膜
d,+n,;6Cf 5.2 分光膜
:d2u? +F 5.3 高反射膜
XP^6*}H.* 5.4 干涉截止滤光片
_TXV{<E6 5.5 窄带滤光片
9iy|= 5.6 负滤光片
Q%xY/xH] 5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
|O9=C`G_ 5.8 Vstack薄膜设计示例
+?:V\niQI 5.9 Stack应用范例说明
hw'2q9J| 6. VR、AR及HUD用光学薄膜
eztk$o 6.1 背景介绍
zB$6e!fc 6.2 产品特性
rWs5s!l, 6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析
VfcQibm 6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析
_Usg`ax- 6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析
'> Q$5R1 ^Q,/C8qeb 7. 防雾薄膜
f,a %@WT 7.1 自清洁效应
F`Y<(]+
7.2 超亲水薄膜
Qd4T?5 vG 7.3 超疏水薄膜
?.4l1X6Ba 7.4 防雾薄膜的制备
k0IU~y% 7.5 防雾薄膜的性能测试
V$%K=[ 5l}h8So4 8. 材料管理
`j![ 8.1 光学薄膜材料性能及应用评述
v+sbRuo8 8.2 金属与介质薄膜
A,e^bM
8.3 材料模型
_D4}[` 8.4 介质薄膜光学常数的提取
R*0F)M 8.5 金属薄膜光学常数的提取
EG.C2]Fi 8.6 基板光学常数的提取
ECzNByP 8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路
__iyBaX mD)O\.uA 9. 薄膜制备技术
5UjQLB 9.1 常见薄膜制备技术
uP]o39b;V 9.2 光学薄膜制备流程
{ bn#:75r 9.3 淀积技术
>2
qP 9.4 工艺因素
;/T-rVND 10. 误差、容差与光学薄膜监控技术
:a@z53X@M 10.1 光学薄膜监控技术
<pUou 10.2 误差分析与监控决策
)x &@j4, 10.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧
8w[EyVHA 10.4 膜系灵敏度分析
se HbwO3 b 10.5 膜系容差分析
=3C)sz} 10.6 误差分析工具
W@dY:N} 11. 反演工程
"J{zfWr 11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差)
Ds_
"m, 11.2 用反演工程来控制对设计的搜索
*$C[![ 5z ^UQq 12. 应力、张力、温度和均匀性工具
Fd&!-`T? 12.1 光学性质的热致偏移
j]"xck 12.2 应力工具
9 lJj/ 12.3 均匀性误差(圆锥工具、波前问题)
]/Qy1, xN8JrZE& 13. 光学薄膜特性测量
)N6[rw<