JWHsTnB 时间地点 g;Ugr8 主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司
syu/"KY^! 苏州黉论教育咨询有限公司(微信号:18001704725)
A.*e8a/6X 授课时间:2024年9月27(五)-29(日)共3天 AM 9:00-PM 16:00
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-G9'c~ 授课地点:深圳市光明区凤凰街道光明大道与科裕路交汇处尚智科园1栋1B座1503室
O.jm{x!m 课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问
_#\Nw0{ 课程费用:4800RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐)
'/`O*KD] ;BuMzG:tmZ 课程简介 kk5&lak2V 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直达合格为止。
u^xnOVE 透明塑料基板质轻价廉,而且容易成型为非球面
透镜,被广泛采用在
光学系统中,如眼睛镜片、相机透镜、手机
镜头、及显示器面板,如OLED,近眼显示应用。但塑性及软性基板的低密度致使其具有吸水性,从而使
薄膜与基板的附着性不佳。再者这些塑料基板比较柔软、容易刮伤、需要镀上硬膜保护。因此塑料透镜的镀膜除了抗反射,还要兼具免受刮伤的保护。本课程会从这些方面重点阐述塑料基底的镀制工艺及其物理特性。
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.qs 该课程一天会全面讲解光学薄膜分析软件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天会讲解薄膜设计和工艺上的应用。
}`CF(Do 课程大纲 KKpM=MZ 1. Essential Macleod软件介绍
*
1}dk`- 1.1 介绍软件
by1q"\-, 1.2 运行程序
cq>J]35 1.3 创建一个简单的设计
2|7:`e~h 1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据
%3dc_YPS 1.5 约定-程序中使用的各种术语的定义
rOOo42YW` 50 w$PW 2. 光学薄膜理论基础
XOX$uLm 2.1 介质和波
dWzf C@] 2.2 垂直入射时的界面和薄膜特性计算
XR",.3LD 2.3 后表面对光学薄膜特性的影响
X.{xHD&_ OybmyGHY 3. 理论技术
P,ZQ*Ju 3.1 参考
波长与g
uPl7u1c 3.2 四分之一规则
Q"s6HZ"YI 3.3 导纳与导纳图
{;Hg1=cm GTOA>RB2 4. 光学薄膜设计
64b AWHv 4.1 光学薄膜设计的进展
1q;R+65 4.2 光学薄膜设计中的一些实际问题
MMk9rBf 4.3 光学薄膜设计技巧
V=fu[#<@Ig 4.4 特殊光学薄膜的设计方法
E
uO:}[ 4.5 优化目标设置
V}TPt6C2 4.6 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法)
]*]*O|w H.M:
cD: 5. 常规光学薄膜系统设计与分析
ax5n} 5.1 减反射薄膜
_S[@?]=`b 5.2 分光膜
n<|8Onw 5.3 高反射膜
'`k 5.4 干涉截止滤光片
*0oa2fz% 5.5 窄带滤光片
R6X2d\l# 5.6 负滤光片
oeKl\cgFx 5.7 非均匀膜与Rugate滤光片
IZdWEbN1 5.8 Vstack薄膜设计示例
D(Z#um8n 5.9 Stack应用范例说明
DNj<:Pdd) 6. VR、AR及HUD用光学薄膜
fFVQu\ 6.1 背景介绍
)+v5H 6.2 产品特性
IM6n\EZ^ 6.3 典型VR系统光学薄膜设计分析
KUPQ6v } 6.4 典型AR系统光学薄膜设计分析
m!zvt
6.5 典型HUD系统光学薄膜设计分析
wY8Vc" p]X+#I< 7. 防雾薄膜
)6XnxBSH 7.1 自清洁效应
1xtS$^APcd 7.2 超亲水薄膜
ZwxEcs+UM 7.3 超疏水薄膜
b"@-9ke5I 7.4 防雾薄膜的制备
!M }-N 7.5 防雾薄膜的性能测试
vR#MUKfh A"DGn 8. 材料管理
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@%0/[ 8.1 光学薄膜材料性能及应用评述
=}%:4 8.2 金属与介质薄膜
aiX4;'$x! 8.3 材料模型
~Gc@#Msj 8.4 介质薄膜光学常数的提取
T+0z.E!~I 8.5 金属薄膜光学常数的提取
O>f*D+A- 8.6 基板光学常数的提取
AvIheR 8.7 光学常数导出遇到的问题及解决思路
P5dD& ku57<kb 9. 薄膜制备技术
=|O]X|y-lZ 9.1 常见薄膜制备技术
f7 ew<c\ 9.2 光学薄膜制备流程
wBI:}N@. 9.3 淀积技术
$0{h Uex 9.4 工艺因素
p? +!*BZ 10. 误差、容差与光学薄膜监控技术
,:
z]15fX 10.1 光学薄膜监控技术
J#w=Z>oz < 10.2 误差分析与监控决策
j^Qk\(^#IV 10.3 Runsheet 与 Simulator应用技巧
<b4}
B 10.4 膜系灵敏度分析
u6E
ze4u 10.5 膜系容差分析
cWQ &zc 10.6 误差分析工具
we}5'bS> 11. 反演工程
OvC@E]/+ 11.1 镀膜过程中两种主要的误差(系统误差和随机误差)
4y.'O 11.2 用反演工程来控制对设计的搜索
a~VW?wq &f A1kG% 12. 应力、张力、温度和均匀性工具
iN Lt4F[i 12.1 光学性质的热致偏移
&B+_#V=X@ 12.2 应力工具
"FE%k>aV@v 12.3 均匀性误差(圆锥工具、波前问题)
vPZ0?r_5W N1>M<N03 13. 光学薄膜特性测量
_M>S =3w 13.1 薄膜光学常数的测量
Q^Vch(`&P 13.2 薄膜堆积密度的测量
=L"I[ 13.3 薄膜微观结构分析
FAGi`X<L 13.4 薄膜成分分析
8;UkZN"hy5 13.5 薄膜硬度、附着性及耐摩擦性的测量
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