1. 建模任务 Awr(}){ 1.1
模拟条件
G8' 模拟区域:0~10
F$i 6 边界条件:Periodic
n@6vCdk. 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
E{}J-_oS45 单位长度:0.5
"{Hl! Zq/
z#lIu Wiw~oXo 1.2堆栈
结构 LW#U+bv]Dq uN1VkmtDO 2. 建模过程 N`4XlD 2.1设置模拟条件
].sD#~L_
0|g@;Pc db@^CS[P 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 X ka+1c CR;E*I${ Nw(hN+_u 2.3创建掩膜并生成多畴结构
85$ WH
+hX= 3. 结果分析 2vhP'?;K 3.1 指向矢分布和透过率
qJ2Z5 YW"uC\kg| ouO9%)zv
3.2所有畴的V-T曲线
Pz\ByD +3sbpl2} RJKi98xwJ
3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
I8c:U2D