1. 建模任务 F.{$HJ 1.1
模拟条件
C"QB`f: 模拟区域:0~10
udOdXz6K? 边界条件:Periodic
FEO/RMh 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
Ys0N+ 单位长度:0.5
x#XxD<y
OWc~=Cr hCb2<_3CR 1.2堆栈
结构 af'gk&% JRR,ooN*i 2. 建模过程 {G+iobQdd 2.1设置模拟条件
feJl[3@tO
\<HY'[gr +~V)&6Vn 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 #}lWM%9Dy v?YxF} +!K*FU=). 2.3创建掩膜并生成多畴结构
20]p< f@ILC=c< 3. 结果分析 YrsE
88QqI 3.1 指向矢分布和透过率
qfX26<q "r~/E|Da< ^ X-6j[". 3.2所有畴的V-T曲线
@R Jr
~y0 Z7NR%u_|[ _3IRj=Cs 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
)O2IEwPd.