1. 建模任务 x[Hx.G}5+ 1.1
模拟条件
#D|%r-:" 模拟区域:0~10
/3K)$Er 边界条件:Periodic
6M_:D 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
(V\N1T,f 单位长度:0.5
P}UxA! UcOP 0_/ \w>Rmf'| 1.2堆栈
结构 l>`66~+s,` $u'"C|>8 2. 建模过程 FQ1B%u| 2.1设置模拟条件
a:`<=^:4, 6)ln,{ kWVk^, 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 YG8V\4
SQ *PV"&cx 9_iwikD 2.3创建掩膜并生成多畴结构
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' J -Lynvqm 3. 结果分析 c s*E9 3.1 指向矢分布和透过率
W Zm8!Y naH(lz|v fCF.P"{W" 3.2所有畴的V-T曲线
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} 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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