1. 建模任务 l7vU{Fd-h^ 1.1
模拟条件
w8~B@}% 模拟区域:0~10
TuR.'kE@ 边界条件:Periodic
, !0-;H.Y 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
;l4epN 单位长度:0.5
xQ~}9Kt\
)/Z%
HBn <9Sg,ix't 1.2堆栈
结构 n3x<L:) )a99@`L\P 2. 建模过程 'z\$.L 2.1设置模拟条件
}*Z *wC
Ct@O S227x ebv"`0K$ 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 'fo.1 so=Ux2 N./l\NtZ 2.3创建掩膜并生成多畴结构
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6/ # H* 85gdmla@9 3. 结果分析 dkUh[yo"H 3.1 指向矢分布和透过率
O>
.gcLA h_*!cuH hsCts@R 3.2所有畴的V-T曲线
_98
%?0 MVDEVq0 5-[bd I 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
.0=VQU