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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 oH?:(S(  
    , QWus"5H  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 O6)Po  
    l~f3J$OkJ  
    !rAH@y.l  
    概述 V| kN 1 A  
    zIu/!aw  
    ?%qaoxG37  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 IF5-@hag,  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 8IQ}%|lN  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 <N$Hb2b  
    !#W>x49}  
    f^lcw  
    )UF'y{K}  
    衍射级次的效率和偏振
    zPqJeYK  
    fW+ "Kuw  
    yq k8)\p  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ,52 IR[I<T  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 l5Ko9CG  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 8a)Brl}u  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 $w{d4")  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 d;0]xG?%=  
    ;*j K!  
    %aMC[i  
    光栅结构参数 =FV(m S  
    EFh^C.S8  
    1.3dy]vG  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 wn!=G~nB  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 gjN'D!'E1D  
    •因此,选择以下光栅参数: lGWz  
    - 光栅周期:250 nm +~iiy;i(  
    - 填充系数:0.5 )1M2}11uS  
    - 光栅高度:200 nm g`S;xs  
    - 材料n1:熔融石英 QY&c=bWAX"  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) *->*p35  
    rC_1f3A  
    Kmaz"6A  
    h+j^VsP zB  
    偏振状态分析 tJ K58m$  
    0>td[f  
    d wG!]j>:_  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 (XmmbAbVom  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 e3TKQ (  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 5G\OINxy  
    %\sE\]K  
    .Vnb+o  
    v"ORn5  
    产生的极化状态 \|QB;7u  
    ~nmFZ] y  
    .-M5.1mo\(  
    UH%H9; ,$]  
    JfWkg`LqL  
    其他例子 >\<eR]12  
    5Ex[}y9L`  
    uuwJ-  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 \}=T4w-e  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 V.*M;T\i  
    _3 oo%?}  
    qm><}N7f  
    .G\](%  
    光栅结构参数 a'jUM+D;  
    nfHjIYid  
    DoQ^caa@  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 bH/4f93Nb  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 I]W7FZ=o  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 r1-MO`6  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 9|<Li[  
    {c_bNYoE  
    sGhw23  
    光栅#1 -+1O*L!  
    0~RD@>]  
    E7\K{]  
    $%DoLpE>  
    2?q>yL!Gz  
    •仅考虑此光栅。 TCRTC0_}k  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 NN'pBU R  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 CqC )H7A  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 W7uX  
    'pIrwA^6N  
    pu/5#[MC)^  
    假设光栅参数: +&VY6(Zj+*  
    •光栅周期:250 nm 6Y ]P7j  
    •光栅高度:660 nm o[_,r]%+D  
    •填充系数:0.75(底部) J?m/u6  
    •侧壁角度:±6° vi^YtA  
    •n1:1.46 GIE QD$vy  
    •n2:2.08 Ds"%=  
    K1J |\!o  
    光栅#1结果 p P@q `  
    vFdI?(c-  
    /+%aSPQ  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 tkk8b6%h?p  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 sS ?A<D  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    Lw[=pe0e  
    1O0. CC,p  
    %<DdX*Qp  
    #2U#h-vI  
    光栅#2 59 g//;35@  
    S`5bcxI_  
    zW#5 /*@  
    P=,\wM6T|  
    A+Isk{d  
    •同样,只考虑此光栅。 z4BU}`;b3t  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 6 ~0kb_td  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 I ]o|mjvs  
    假设光栅参数: ._tEDY/1m  
    •光栅周期:250 nm <t(H+ykh  
    •光栅高度:490 nm akr2Os  
    •填充因子:0.5 mB>0$l y  
    •n1:1.46 s(fkb7W,gO  
    •n2:2.08
    *cWHl@4  
    98u@X:3  
    光栅#2结果 U=KUx  
    %$zak@3%'  
    [6RODp3')  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 *GXPN0^Qjo  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 _ s}aF  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 l#v52  
    >e/>@ J*  
    } G{"Mp4  
     
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