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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 E^eVvP4uC@  
    'Qe;vZ31K  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 HC,Se.VYS  
    :6\qpex  
    9qG6Pb  
    概述 )Z9>$V$j  
    s-T\r"d=j  
    dlTt _.  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 [HZv8HU|  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 A~t j/yq9  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 ~IN>3\j  
    6~w@PRy  
    <GaS36ZW  
    "1 M[5\Ax  
    衍射级次的效率和偏振
    rh}J3S5vp  
    U\*J9  
    9mTJ|sN:e  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 |8tilOqI  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 H~1 jY4E  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 QB'aON\S  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 A2jUmK.&  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 nc|p)  
    0.k7oB;f(@  
    ]3.;PWa:  
    光栅结构参数 V[Ui/M!9Z  
    Z}Ft:7   
    iqQD{SRt{  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 b}TS0+TF  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 HRfYl,S,  
    •因此,选择以下光栅参数: _>X+ZlpU:  
    - 光栅周期:250 nm j\^CV?}sm'  
    - 填充系数:0.5 ,wAF:7'  
    - 光栅高度:200 nm vnZC,J `  
    - 材料n1:熔融石英 9m~p0ILh  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) o]I\6,T/|  
    ]|P iF+  
    q'Tf,a  
    J]pir4&j  
    偏振状态分析 q6V>zi  
    LuvY<~u  
    lchPpm9  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 CN8Y\<Ar  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 tG22#F`  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 % ^1V4  
    +}os&[S  
    #fn)k1  
    <k'h:KB?`  
    产生的极化状态 p]2128kqx  
    .;`AAH'k  
    a'yK~;+_9  
    Sk\K4  
    -Cc^d!::  
    其他例子 o9yJf#-En  
    nazZ*lC  
    #( 146  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 3kp+<$  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ^'{Fh"5  
    l L@XM2"  
    `Cynj+PCe  
    @>2i+)=E5  
    光栅结构参数 " C Qa.%  
    L2i_X@/  
    4*cEag   
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 a![{M<Y~  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 B7E:{9l~s{  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 #r~# I}U  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 r1{@Ucw2  
    0)e\`Bv  
    ^7WN{0  
    光栅#1 " 9wvPC ^  
    1FL~ndJs  
    2E)-M9ds  
    x,pjpx  
    Nkth>7*  
    •仅考虑此光栅。 :vQrOn18p  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 nRZ]z( b  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 sfugY (m  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 \\H}`0m:  
    Z4w!p?Wqa  
    sW'AjI  
    假设光栅参数: 2,b(,3{`4:  
    •光栅周期:250 nm DGn;m\B  
    •光栅高度:660 nm Eib5  
    •填充系数:0.75(底部) a;qryUyG  
    •侧壁角度:±6° +RMSA^  
    •n1:1.46 -[9JJ/7y  
    •n2:2.08 .*S#aq4S  
    ^Hnb }L  
    光栅#1结果 Ru!iR#s)!  
    )|R)Q6UJ  
    DIfaVo/"  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 J~ zUp(>K  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 dI@(<R  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    /}fHt^2H  
    v,{ :Ez(H  
    2M#Q.F  
    GxI!{oi2  
    光栅#2 y@:h4u"3  
    #64-~NVL_  
    CR`Q#Yi  
    ):68%,  
    ~IfJwBn-i  
    •同样,只考虑此光栅。 b"uu  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 kYqU9cB~  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 bz2ztH9 n  
    假设光栅参数: JHM9  
    •光栅周期:250 nm p{ Yv3dNl  
    •光栅高度:490 nm Fa Qe_;  
    •填充因子:0.5 Ng2@z<>.  
    •n1:1.46 oim9<_  
    •n2:2.08
    +\c5]`  
    mAj?>;R2$2  
    光栅#2结果 +ocol6G7W  
    \378rQU  
    jrlVvzZ  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 :I j{s  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 mzaWST]  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 n.`($yR_  
    J6s`'gFns  
    \FbvHr,  
     
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