-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-01
- 在线时间1892小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 9cUa@;*1 `}KxzD 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ;>f\fhi' mJ=V<_ N%xCyZ 概述 -4sKB>b rhy-o? DU$#tg}{ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 $Seh4 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ooUVVp •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 T'vI@i9 }8#Ed;%K
u~j
H
op5`#{ 衍射级次的效率和偏振 \20}/& Zfcf?&>< 1(dKb •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 !CcDA/0 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 MO0NNVVi%U •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 )J> dGIb •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 $x+7.%1m)~ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 )=d)j^t9
h!K"
;qw 8K-P]] 光栅结构参数 'JJKnE zQ SFd_k9 f"P866@oWn •此处探讨的是矩形光栅结构。 aG^E^^Y •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 1' U •因此,选择以下光栅参数: ;Vat\,45pg - 光栅周期:250 nm vm_]X{80; - 填充系数:0.5 1xd6p - 光栅高度:200 nm a-Y6ghs - 材料n1:熔融石英 U364'O8_ - 材料n2:TiO2(来自目录) &Wcz~Gx3Q su%-b\8K 9!Q ZuZY Ht(TYq 偏振状态分析 g^(gT Wn+s:ov f^B'BioW( •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 8Iw)]}T' •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 `|?<KF164 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 8`urkEI^r XV]xym~
/~w*)e) UIyLtoxu 产生的极化状态 XZARy:+bc xm1di@
YR-G:-(#b zHZfp_I 4tLdqs 其他例子 vLHn4>J,R j;@a~bks6z ygIn6.p •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。
mu{C>w_Rz •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 mz6]=]1w LxhS
9 5tpC$4m yP+<kv4 光栅结构参数 2}pZyS U'ctO% vRC >=y*= •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ,4t6Cq! •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 0H>gMXWE] •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ial{A6X •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 g{6jN
VqW5VLa %AA&n*m 光栅#1 A/I\MN| z~vcwiYAP
IxCesh jOzXy Dq m8{8r>6* •仅考虑此光栅。 I*.nwV< •假设侧壁表现出线性斜率。 TS|Bz2( •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 F><_gIT •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 we`BqZV /-FV1G,h 1Y $%| ` 假设光栅参数: ;X<Ez5v3 •光栅周期:250 nm S!u8JG1 •光栅高度:660 nm &Ril[siw •填充系数:0.75(底部) }p*|8$#x" •侧壁角度:±6° EQ~<NzRp= •n1:1.46 6H'A]0 •n2:2.08 *Igb3xK% W.[!Q` 光栅#1结果 \;~Nj# jdJTOT ;LP3 •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 d%0Gsga} •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 UU>+ b: •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 <`pNdy4 .
KLEx]f. U$gR}8\e ?{"r( 光栅#2 f4P({V <<?32r~
#tu>h bVU4H$k E&kv4, •同样,只考虑此光栅。 b_nE4> •假设光栅有一个矩形的形状。 i%.NP;Qq]M •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Oe\(=R 假设光栅参数: 8k-]u3 •光栅周期:250 nm q( ~rk •光栅高度:490 nm [nig^8 •填充因子:0.5 e,}h^^" •n1:1.46 kH hp;< •n2:2.08 #'1dCh
vZ 3A`]Rk
光栅#2结果 r c[~S 7d%x 7!E k/{WlLN •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 wX}p6yyN •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 k^;n$r"i5 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 8Y`g$2SZ^8 V:y6NfL7i'
<9X@\uvU.<
|