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摘要 CR4rDh8z a "re-@Baw 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 _\5~>g_ +5<k-0v C>^D*C( 概述 G"
b60RQ ?{o/I\\ >QQ(m\a$ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 m:tiY
[c>W •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 l2v_?j-)x •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 k>4qkigjc <Pqv;WI|R
u'Q?T7 ~KjJ\b)R 衍射级次的效率和偏振 3K/Df# =1/NFlt8 :L?_Y/K •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 4z7G2 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 \v@({nB8 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 wyc D>hc •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 !KS F3sz •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 "yb WDWu
a+41|)pt *xRc *
:0 光栅结构参数 ZU'!iU|8 UyYfpL"$A" l'4AF|
p •此处探讨的是矩形光栅结构。 yT /EHmJ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 hp!d/X=J_ •因此,选择以下光栅参数: n/e
BE q - 光栅周期:250 nm v vu<:16 - 填充系数:0.5 _fTwmnA - 光栅高度:200 nm
GrJ#. - 材料n1:熔融石英 TT!ET<ciN - 材料n2:TiO2(来自目录) .,2V5D-${ SDJH;c0 ~9pM%N
V 8Vl!|\x5 偏振状态分析 >}+Q:iNQ)2 ]o.vB}WsY V%L/8Q~ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 0O@_cW •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 eBB:~,C^q. •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 _]#klL =fLL|
wJ"ev.A) O??vm?eo 产生的极化状态 ,krS-. </oY4$ l'
g#^|oYuH6 6k0^ x Q r((Tavn 其他例子 #Fd W/y5 ^tAO_~4 "X1vZwK8N •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 8:;#,Urr •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 t\y-T$\\ V2znU +H'\3^C- y0q#R.TOm 光栅结构参数 QX0Y>&$) W? ,$!]0 s${_K* g6 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 T-L5zu •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 |"k&fkS$ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 -e>|kPfv! •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 \P?ToTTV
hb^!LtF#Y sOC&Q&eg 光栅#1 L'kq>1QWf jz:gr=*z
iyM^[/-R6 bkQ3c-C< B4W\
t{ •仅考虑此光栅。 (Pi-uL<[a •假设侧壁表现出线性斜率。 *Z kss •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 UmP'L! •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 F-0UdV v[#)GB
_5 'Ji+c 假设光栅参数: cH"@d^"+q| •光栅周期:250 nm c~tAvDX •光栅高度:660 nm I-:`cON=G •填充系数:0.75(底部) p5*lEz|$ •侧壁角度:±6° %?tq;~|]Q •n1:1.46 aWvd`qA9r •n2:2.08 |-kEGLH[*V kV)'a 光栅#1结果 n(&*kfk 4;<DJ.XlN= FBYODw •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 )!-S|s' •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ROoE%%8I •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 hZuYdV{'h %W;u}` rx:lKoOnB :C%47qv 光栅#2 I'IB_YRL4 ?0J0Ij,
0j@Ix EPs T-P@u-DU 3?ba
1F0Nw •同样,只考虑此光栅。 2V$9ei6 •假设光栅有一个矩形的形状。 878tI3- •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 1q!sKoJ< 假设光栅参数: *i?.y*g •光栅周期:250 nm H1Xov r •光栅高度:490 nm D44I"TgqD •填充因子:0.5 ^Kw(&v •n1:1.46 D8/sz`N7Q •n2:2.08 l<RfRqjw *|'}v[{v^9 光栅#2结果 h.b+r~u `@$YlFOW MZ^Ch •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Y n>{4BZ># •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 n4*'B* •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 c~oe,9 =g2\CIlVU6
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