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摘要 b(q$j/~ zb
I6K7!+;2 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 <KHv|)ak ?gd'M_-J, (g%JK3 概述 8s QQK.N( D-Bv(/Pz]$ -/M9 vS •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 *4|9&PNLE •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 PzIy">plm •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 i'Y-V]-> |9+bSH9
,]f) ,;= l*QIoRYFW 衍射级次的效率和偏振 !(B_EM CHPL>'NJzc bHO7*E •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。
fkW3~b •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 OfD@\;L •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *GCA6X •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 V)2"l"Kt •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 >oe4mW
nped `ifb<T 光栅结构参数 h^['rmd nA>*IU[ :L]-'\y •此处探讨的是矩形光栅结构。 M_tj7Q3
W •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 (})]H:W7 •因此,选择以下光栅参数: 1T!cc%ah - 光栅周期:250 nm ''_,S,.a20 - 填充系数:0.5 USE [N - 光栅高度:200 nm gB>(xY>LrA - 材料n1:熔融石英 0o;k?4aP.c - 材料n2:TiO2(来自目录) $X`bm* _i-\mR_~ !K!)S^^Po? d
"2wO[ 偏振状态分析 a4%`" ,r@xPZPz:e ex.+'m<g •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 dI!8S •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 v,n); •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 }|AX_=a V:(y*tFA
K-Re"zsz NK 8<=
n%" 产生的极化状态 [C~fBf5 5n:nZ_D
]Fxku<z7| >Q&CgGpW$ aXC!t 其他例子 c2/"KT n4Vwao/9x WmNA5;<Q •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Ocyb c% •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 aUAcRW </,.K`''W CdZnD#F2 ?fB5t;~E 光栅结构参数 =`JW1dM B4@fY g#w`J\iz •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ;"D~W#0-v •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 &0s*PG •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 2H6:np|O •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 C(}^fJ6r
UnP|]]o:I 2.ew^D# 光栅#1 kj-=xhJ{= *u}'}jC1X
,}KwP*:Z I,]J=xi 9YAM#LBTWi •仅考虑此光栅。 0',[J •假设侧壁表现出线性斜率。 #vtN+E •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Cpe#[mE •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 f$vwuW Z4#v~! ![
a 假设光栅参数: )Z("O[ •光栅周期:250 nm JwB"\&'1ZS •光栅高度:660 nm &Bm&i.r •填充系数:0.75(底部) -;vT<G3 •侧壁角度:±6° l~NEGb •n1:1.46 *Z > •n2:2.08 zz&vfO31J se#@)LtZ 光栅#1结果 f9a$$nb3` 0Q`&inwh VNO'="U •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 <1K7@Tu •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 <*_o0;h| •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ^zgacn cv]BV>=E ?~Pv3'%d @7%.7LK 光栅#2 2$tQ @r ]
opto
O>%$q8x@i 9n"V\e_R C B/r]+4 •同样,只考虑此光栅。 2QL?]Vo •假设光栅有一个矩形的形状。 ^&NN]? •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 F\-Si!~oOz 假设光栅参数: x9&p!&*&IT •光栅周期:250 nm n+rM"Gxz •光栅高度:490 nm gHZqA_*T8U •填充因子:0.5 uFo/s&6K •n1:1.46 C `6S}f, •n2:2.08 s&VOwU e1UITjy 光栅#2结果 </=3g>9Z H99xZxHZ{ xCq'[9oU •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 d8o ewkiR •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ^BiPLQ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 qe%V#c -?z\5z
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