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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 kqyMrZ#  
    {[s<\<~B*  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 HhpP}9P;  
    V`H#|8\i  
    /tUl(Fp J`  
    概述 o?b%L  
    lyi}q"Kn*;  
    R80R{Ze  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 xv*mK1e  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 .Gv~e!a8  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 n-=\n6"P  
    +p[~hM6?  
    ?k3b\E3  
    ,S5#Kka~a  
    衍射级次的效率和偏振
    1y@-  
    ?UxY4m%R;  
    T9$U./69-L  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 9F-k:hD |  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 y H'\<bT  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ;CvGIp&y  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 E??%)q  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 |4c==7.  
    [_0g^(`  
    F9<OKcXH  
    光栅结构参数 wiGwN  
    Stc\P]%d  
    4tC_W!?$t  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 xC{NIOYn'  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 =I5XG"",  
    •因此,选择以下光栅参数: esHiWHAC  
    - 光栅周期:250 nm "5YdmBy  
    - 填充系数:0.5 }ot _k-  
    - 光栅高度:200 nm $W?XxgkB?  
    - 材料n1:熔融石英 |. 6@-h~8  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) BNy"YK$  
    f8 ja Mn9o  
    H94.E|Q\+  
    d"78:+  
    偏振状态分析 HDEG/k/~m  
    9,W-KM  
    K$.zO4  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 md`ToU  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 k$c j|-<  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 e ?YbG.(E9  
    V4-=Ni]k  
    F[u%t34'  
    jQb D2x6(  
    产生的极化状态 AH`15k_i  
    6:,^CI|@ t  
    9X%Klm 5w  
    _E;Y ~I,i  
    ETOc4hMO  
    其他例子 p[)<d_  
    ]'Yw#YB  
    /RM-+D:Y  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 7j:{rCp3J  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 J$Epj  
    Q8x{V_Pot  
    /;4MexgB%  
    w#T,g9  
    光栅结构参数 l:eNu}{&  
    CiuN26>  
    !d\GD8|4  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 uE j6A  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 9ojhI=:  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ,*[LnR  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 "o 3"1s>d{  
    @>5<m'}2  
    ~-`02  
    光栅#1 d*$<%J  
    %B*dj9n^q  
    =LxmzQO#  
    uw=Ube(  
    <gLtX[v!CL  
    •仅考虑此光栅。 $0}bi:7  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 r6JkoP Mh  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ts<dUO  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 )|R9mW=k9P  
    .,Qnn}:l  
    ?MM3LA! <  
    假设光栅参数: Fz&ilB  
    •光栅周期:250 nm Qiw4'xQm  
    •光栅高度:660 nm TEyx((SK  
    •填充系数:0.75(底部) J~3T8e#  
    •侧壁角度:±6° gF6j6  
    •n1:1.46 Ok&>[qu  
    •n2:2.08 b:Kw_Q  
    ]Cn*C{  
    光栅#1结果 EAw#$Aq=  
    *"FLkC4  
     IB{ZE/   
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 v8bl-9DQ  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 $af}+:'  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
     |7zP 8  
    Treh{s  
    'S7@+kJ  
    ^r*%BUU9]%  
    光栅#2 6^O?p2xpo  
    h5rP]dbhXU  
    d[e:}1  
    k(z<Bm  
    4c[)}8\  
    •同样,只考虑此光栅。 MW$H/:3  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 |vN@2h(|"  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ](>7h _2B  
    假设光栅参数: ` .(S#!gw  
    •光栅周期:250 nm C6UMc} 9h  
    •光栅高度:490 nm '0')6zW5s  
    •填充因子:0.5 }u_EXP8M  
    •n1:1.46 w2N3+Tkg  
    •n2:2.08
    ESxC{ "  
    B9IXa;  
    光栅#2结果 A?D"j7JD=L  
    7Sz'vyiz  
     zc/%1  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 r@[VY g~  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 GGc_9?h  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 L\Fu']l  
    Fy@#r+PgWp  
    j(6$7+2qN  
     
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