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摘要 ^$]iUb{\ 3p]\l ]= 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 p_vldTIW t{,e{oZx c}s#!|E0v 概述
yYrFk^ '}:(y$9.` 0|g@;Pc •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 wd3OuDrU •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 9W,%[ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 3i\Np = ?H>^X)Ph
;+bF4r@:+ CHq5KB98+ 衍射级次的效率和偏振 rITA-W O PjXiYc& fs-LaV
0 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 :*^aSPlV •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 f=.!/e70 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ,*YmXR-" •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 K;w2qc.+ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 O#p_rfQ
7GS4gSd3 PKC0Dt;F. 光栅结构参数 *e<}hmDr $F[+H Wf \3"B$Sp|= •此处探讨的是矩形光栅结构。 ZJm$7T)V •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 +-9-%O.(; •因此,选择以下光栅参数: |QMmF" 0 - 光栅周期:250 nm Ab>Kf r# - 填充系数:0.5 r=SCbv - 光栅高度:200 nm !^s -~`'\~ - 材料n1:熔融石英 +6$-"lf - 材料n2:TiO2(来自目录) gs=ok8w T>7N "C VW*?(,#j{ !3\$XK]5ZT 偏振状态分析 OU}eTc(FeC e+F$fQt> 12?!Z •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 R4P&r=? •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 !M`.(sO] •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 GAZRQ :zq Un&k&
68(^* JM?__b7g2 产生的极化状态 mpCu,l+lo z5@i"%f
UKV<Ye| 9S[.ESI{> %3"3V1 其他例子 CTKw2`5u %'_:#!9 Z 4i5,f •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 FG+pR8aA$ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ,c$tKj5ulQ nM:<l}~v{ ::'Y07 @ S[As~9X 光栅结构参数 rQGInzYp
<#57q% r&B0-7r •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 b_6cK# •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 &A.0(s •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 bZ:+q1
D •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 P0(LdZH6u
!iNwJ|0 r|*_KQq 光栅#1 !G\gqkSL tKcC{
B8"c+<b 1 I.P7_/ KS$"Re$ •仅考虑此光栅。 )g^qgxnnV •假设侧壁表现出线性斜率。 9QB,%K_:4 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 oQ/T5cOj •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 lw}7kp4
2F *QWOWg4w ,dK)I1"C 假设光栅参数: C96*,.j~' •光栅周期:250 nm cF=W hP*f •光栅高度:660 nm dQ-shfTr] •填充系数:0.75(底部) Ab/JCZNn •侧壁角度:±6° !9YCuHj!p •n1:1.46 _h \L6. •n2:2.08 Xx[,n-rA /3^XJb$Sa 光栅#1结果 u kZK*Y9P 4r~K`)/S' t2OBVzK •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 tJ6Q7
J;n •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 z80FMulO •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 Sew*0S( chUYLX}45 Jq(;BJ90R X<C fy 光栅#2 Ri_2@U- 3<M yb
+_pfBJ_$% v6=%KXSF l5VRdZ4Uf •同样,只考虑此光栅。 G,$nq4 •假设光栅有一个矩形的形状。 ,<#Rk'y$ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 hF@%k
;I 假设光栅参数: o_mjI: •光栅周期:250 nm <&) hg: •光栅高度:490 nm +jwk4BU •填充因子:0.5 Z#Nw[>NN* •n1:1.46 :n{{\SSIgX •n2:2.08 =Hd#"9- c"lwFr9x7 光栅#2结果 W3>9GY90R $6*Yh-"g \a|~#N3? •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 fvH{va. •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 h~9P34m •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 SZ[?2z %}zkmEY.e
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