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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 cgNK67"(  
    %E}f7GT 4  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 c/DB"_}!a  
    7 <*sP%6bD  
    3lcd:=  
    概述 )[|TxXz d  
    qZ'&zB)  
    ^q-]."W]t~  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 dT4?8:  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 OCnQSkj  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 z|^:1ov,  
    %D< =6suW  
    >'iXwe-  
    y2;uG2IS_g  
    衍射级次的效率和偏振
    X`/8fag  
    >B<jR$`6@  
    .t*MGUg  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Azv j(j  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 J.W0F #?  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 {U?/u93~  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 [~m@'/  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 1v)ur\>R  
    |=fa`8m G  
    v^1_'P AXu  
    光栅结构参数 LG0+A}E=C  
    /Fy2ZYs,`8  
    Clr~:2g\  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 piIj t  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 fQ33J>  
    •因此,选择以下光栅参数: ad+@2-Y  
    - 光栅周期:250 nm P&@ 2DI3m  
    - 填充系数:0.5 1vk& ;  
    - 光栅高度:200 nm %"B+;{y(5  
    - 材料n1:熔融石英 A.vWGBR  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) HJWk%t<  
    M6 l S2  
    D@A@5pvS  
    Mhp6,JL  
    偏振状态分析 -X BD WV  
    gg $/  
    +NWhvs  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Q{-T;T  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 }GI8p* ]o=  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 p?F%a;V3  
    E>>@X^ =  
    7.U CX"  
    zt,pV \|  
    产生的极化状态 x.W93e[]H  
    _=l8e-6r  
    {[&$W8Li  
    R@zl?>+  
    q$IgkL  
    其他例子 $bSnbU <  
    W C z+  
    K@d,8[  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。  {}x{OP  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 s.ywp{EF  
    9?W!E_  
    86+nFk  
    J; @g#h?  
    光栅结构参数 %49 ^S&  
    +'aG&^k4  
    EhJpJb[Z  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ,Hq*zc c  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 nz-( 8{ae  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 wX?< o  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Ew.a*[W''  
    (.D|%P  
    Ek#?B6s  
    光栅#1 R/5@*mv{  
    :x*#RnRr.  
    +E5EOo{ `|  
    Xh'_Vx{.j`  
    lJ y\Ky(*  
    •仅考虑此光栅。 )Pj8{.t4  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 [OTZ"XQLI  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 2$S^3$k'  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 "WPFZw:9  
    gFBMARxi  
    >U4hsr05  
    假设光栅参数: UB5X2uBv  
    •光栅周期:250 nm Fke_ms=I^  
    •光栅高度:660 nm qC|$0  
    •填充系数:0.75(底部) `)Z+]5:  
    •侧壁角度:±6° b&iJui"7k  
    •n1:1.46 7R4xJ H  
    •n2:2.08 ik:fq&=  
    HzuB.B<  
    光栅#1结果 Y#[Wv1hi  
    :>G3N+A)  
    iRwlK5(&  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 e/S^Rx4W  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 s"jNS1B  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    @20~R/vh  
    . PAR  
    estDW1i)  
    .WeP]dX%:f  
    光栅#2 Zcq 4?-&  
    e 9p+  
    zG%ZDH^82_  
    Adyv>T9  
    B%~D`[~?  
    •同样,只考虑此光栅。 Tw)"#Y!T  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 W{JNNf6G  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 u=mJI*  
    假设光栅参数: ?:8wDV  
    •光栅周期:250 nm k-~HUC.A.  
    •光栅高度:490 nm ~YYg~6}vV  
    •填充因子:0.5 utJz e  
    •n1:1.46 gp?|UMA9 .  
    •n2:2.08
    "?[7oI}c&  
    kJy bA  
    光栅#2结果 ohy?l  
    ;:0gN|+  
    A&dNCB  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 q1d'L *   
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 P2Or|_z  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 "q'9-lk  
    uI'g]18Hi  
    [u=DAk?8  
     
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