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摘要 >GiM?*cC F9e$2J)C 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 XN"V{;OP1 "F+
9xf&r 8w|j Z@ 概述 NDB ]8C Z*kGWL \n850PS •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 #VC^><)3 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Do(7LidC5 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 2
G_*Pqc J
p .wg
ewgcpV|spn yXNE2K 衍射级次的效率和偏振 Q8M&nf OgrUP /U1GxX:P, •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 (0W%YZ!& •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ^ h^2='p •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 8Es]WR5
^ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 i{VjSWq •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 "zw?AC6
%_1~z[Dv Wuosr3P 光栅结构参数 ]t1)8v2w> -3VxjycY bm1ngI1oI •此处探讨的是矩形光栅结构。 P58U8MEG •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 _\"P<+! •因此,选择以下光栅参数: B>o\;) l3O - 光栅周期:250 nm %kJ:{J+w] - 填充系数:0.5 _OcgD< - 光栅高度:200 nm !j4C:L3F - 材料n1:熔融石英 @V]
Wm1g - 材料n2:TiO2(来自目录) d"XS;;l%< Vw9^otJu SlZL%C; xbo-~{ 偏振状态分析 v5wI?HE p`1d'n[ $EviGZFAaR •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 2{p`"xX •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 -ihF)^"a •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 vG\]xM'u nB,FJJ{kb
P>pkLP}
Vo <4{@g]0RV 产生的极化状态 S97.O@V!$ 7!oqn'#>A
7L;yN..0 I6y&6g ADv
a@P 其他例子 M|d[iaM, h#]}J}si ,l;
&Tb=k •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 bdaZ{5^{ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 &O0+\A9tP tt J,rM _5U
Fml9 &v4w3'@1 光栅结构参数 l`I]eTo)^ P60 3P
XN=<s;U •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 fwsq: •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 7U.g4x|< •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 6^{ hY^Z •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 c_ygwO3.Q
Mh+'f 93 #Z$6>
Xt 光栅#1 ~BS*x+M { tR=D_5
:-"J)^V mnmwO(. oSa FmP •仅考虑此光栅。 bq(*r:`" •假设侧壁表现出线性斜率。 n"FOCcTIs •蚀刻不足的部分基板被忽略了。
6{7O •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 /WHhwMc! =l7LEkR @bqCs^U35 假设光栅参数:
Gzp)OHgJ •光栅周期:250 nm 7abq3OK+` •光栅高度:660 nm "BFW&<1 •填充系数:0.75(底部) (6h7 'r $ •侧壁角度:±6° er#we=h •n1:1.46 2WUBJ-qnuT •n2:2.08 'E&K%/d Tl%4L%
bE 光栅#1结果 zi-+@9T cF(9[8c{ v Q_ B2#U: •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 .9^;? Ts •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 $s]@%6f •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 +]
5a(/m.~ \3LD^[qi CIaabn
rk. UW 光栅#2 qFs<s<] %[Ds-my2
/GeS(xzQ [ThzLk#m CqX%V":2 •同样,只考虑此光栅。 /uyQ>Y*-\Y •假设光栅有一个矩形的形状。 Xj@Kt|&`k •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 F
Qk; 假设光栅参数: H~~(v52wD •光栅周期:250 nm [KE4wz+s{ •光栅高度:490 nm jU#%@d6!# •填充因子:0.5
;<][upn •n1:1.46 \) #3S $L~ •n2:2.08 fZ376Z:S$ +nZG!nP 光栅#2结果 b,`\"'1 xeH#)QJt U)PumU+z$u •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 @'rO=(-b •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 [ho'Pc3A< •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 y(S0
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