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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 #44}Snz  
    -B#K}xL|x  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 1p=bpJC  
    yw{r:fy  
    NdrR+t^#  
    概述 H~bbkql  
    V!NRBXg  
    e$E>6Ngsr  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 m[Mw2F  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Vq'n$k}  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 tToP7q^  
    ZO>)GR2S  
    <r m)c.  
    c/V0AKkS 8  
    衍射级次的效率和偏振
    4vV\vXT*  
    wj5,_d)  
    dVZ~n4  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 wCu!dxT|,  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Dw$RHogb~y  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 uvJ&qd8M  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 4BeHj~~  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 UhJ!7Ws$  
    =sF4H_B  
    U2CC#,b!(  
    光栅结构参数 Q\N >W+d  
    g |H  
    ~y"OyOi&  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 u=Xpu,q  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 `ZT/lB`  
    •因此,选择以下光栅参数: wN^^_  
    - 光栅周期:250 nm u?F.%j-  
    - 填充系数:0.5 i)$ySlEh  
    - 光栅高度:200 nm HE>V\+ AL  
    - 材料n1:熔融石英 , K:d/  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) A4Q{(z-?  
    ta^$&$l  
    ^f9@ =I  
    MhJA8| B6|  
    偏振状态分析 ~+V$0Q;L  
    F>GPi!O  
    db&!t!#,  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 WD! " $  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 /U-+ClZi@  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 gtT&97tT<  
    ?cn`N|   
    bZ^'_OOn  
    I:6XM?  
    产生的极化状态 yPg0 :o-  
    lJ,\^\q  
    VLJ]OW8cO  
    q=-h#IF^  
    :))&"GY  
    其他例子 a*iKpr-:  
    A.h0H]*Ma  
    btC6R>0   
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 /a)^)  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 N(3Bzd)   
    'Gamb+[  
    PZO.$'L|7  
    5evk_f  
    光栅结构参数 ,~DKU*A_~  
    _~*j=XRs  
    72_+ b  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ydj*Jy'  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 5NhAb$q2Y  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 S9ic4rcd  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 .v+ W>  
    o6:bmKWE  
    'Yh`B8  
    光栅#1 YB!f=_8  
    RGkV%u^  
    m)?0;9bt  
    ] w0Y5H "  
    =e0MEV#s.  
    •仅考虑此光栅。 J<4_<.o(a  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 mN.  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 c;!| =  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 U<>@)0~7g!  
    hwQ|'^(@O  
    Qr7|;l3  
    假设光栅参数: j>l  
    •光栅周期:250 nm l*huKSX}  
    •光栅高度:660 nm {v|ib112;  
    •填充系数:0.75(底部) t o8J   
    •侧壁角度:±6° ~4O3~Y_+GN  
    •n1:1.46 5rc3jIXc{|  
    •n2:2.08 (I(U23A~  
    uXvE>VpJG  
    光栅#1结果 -#R`n'/  
    ;uv$>F auk  
    m1X*I  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 %M/L/_d  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 2X*n93AQi  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    p#-=mXE/2  
    S3$C#mHX  
    a=x &sz\x  
    r dtzz#7  
    光栅#2 CfD4m,6  
    GoH.0eQ^  
    .Cs'@[Ciy  
    _qpIdQBo  
    3)9e-@  
    •同样,只考虑此光栅。 )8'v@8;-  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 o?~27   
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 X+<9 -]=  
    假设光栅参数: {7MY*&P$,  
    •光栅周期:250 nm ~l. C -  
    •光栅高度:490 nm p! )tA  
    •填充因子:0.5 RlU?F  
    •n1:1.46 L<XX?I\p  
    •n2:2.08
    ^,?>6O  
    Pgq(yPC  
    光栅#2结果 u$aN~6HG  
    gB+CM? LKq  
    i_+e&Bjd4j  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Z=;=9<vA  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 qW|h"9sr  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 4>fj @X(3  
    (~! @Uz5  
    6 b?K-)kL  
     
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