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摘要 jQ'g'c! `pCy:J?d>l 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 fap]`P~#L ](Wa:U}Xs YaSBIq{z 概述 S'qT+pP =y@0il+V >itabG-& •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 Ns1n|^9 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 %Rf9KQ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 XD8I.q )\:IRr"
hp/pm6 @ :PMb Ub 衍射级次的效率和偏振 DpA)Vdj ]i6*$qgma !*~QB4\2b •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ^78N25RU( •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 {V(~ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 W!\%v" •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 g9JZ#B gZ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 6@/k|t>OT
v!ai_d^ XKZsX1=@R 光栅结构参数 <yEApWd; 6Y\TVRR _+aR|AEC •此处探讨的是矩形光栅结构。 hGrX,.zj •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 j2IK\~W?- •因此,选择以下光栅参数: 1;<Vr<. - 光栅周期:250 nm d7r!<u&/ - 填充系数:0.5 WvJ:yUb2 - 光栅高度:200 nm oVZzvK(zR - 材料n1:熔融石英 wE=I3E % - 材料n2:TiO2(来自目录) e~(e&4pb ;qUB[Kw 3b0|7@_E z7:*
,X 偏振状态分析 H<fi,"X^ 2bw), W O%>*=h`P •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 @|t]9 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ^swj!da •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 f'5
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R+K|K2"
yF6AI@y D]"W|.6@ 产生的极化状态 ;8&/JS N M ?0KIM*
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oEuKT KGc.YUoE 3w |5%` 其他例子 n CX{tqy $,/E"G` sm{0o$\Z •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 =8*ru\L:hr •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 O:rfDO 3J
5,V +L'Cbv= " :tnW ivrwR 光栅结构参数 xq,ql@7 BGj!/E V0
Z8VqV •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 n^|xp;] : •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 `'XN2-M8 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 {`M\}(E •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 }vY^eOK.
_e>N3fT @uV]7d"z( 光栅#1
[tt{wl"E D{\o*\TN
3`{
vx Gukvd6-g9b Hu6Qr •仅考虑此光栅。 XMZ$AeF@ •假设侧壁表现出线性斜率。 pnp8`\cIH •蚀刻不足的部分基板被忽略了。
jwLZC •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Ev3'EA~` svxjad@l/
z<fd!g+^ 假设光栅参数: i!UT = •光栅周期:250 nm W"vkmk •光栅高度:660 nm ( Ly^+Hjg •填充系数:0.75(底部) pYAKA1F •侧壁角度:±6° Rm)hgmZ •n1:1.46 )jUPMIo •n2:2.08 1oiSmW\ gk?H@b* 光栅#1结果 X|!@%wuGC w<h8`K`3 h/:LC 7 •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 OMo /a%` •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 $ `\qY ^.( •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 #tsP u0k'Jh]K N>a~k}pPH z ULHgG 光栅#2 OIw[sum2 F,VWi$Po\N
~rjK*_3/ zx:;0Z:S6> q\jq9) •同样,只考虑此光栅。 z!b:|*m]w •假设光栅有一个矩形的形状。 UfO='&U^ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 $'d,X@}8 假设光栅参数: '?.']U,: $ •光栅周期:250 nm $39TP@?:Z) •光栅高度:490 nm CXz9bhn<4 •填充因子:0.5 KI*bW e •n1:1.46 T1Z*>(M •n2:2.08 {0fQE@5@ />:$"+gKo 光栅#2结果 #pW!(tfN^a Syl 9j] <Tbl|9 •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 VE/m|3%t •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 P<[)
qq@; •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 jJvd!,=) @QnKaZ8jW
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