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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 9Lus,l\  
    @h&:xA56  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Ky0}phGRu  
    y^!>'cdV  
    (@DqKB  
    概述 =Bg $OX  
    "D\>oFu  
    X<%`  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ,`Keqfx  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ~<N9ckK  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 o3"Nxq"U  
    ` 0$i^,}  
    i)iK0g"2  
    |,bP` Z  
    衍射级次的效率和偏振
    -9] ucmN  
    ~dO+kD  
    s.X .SJ  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 &k@\k<2Ia  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 6"Ze%:AZZ  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 &4O2uEW0  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 57fl<IM  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 PglSQ2P  
    j.&Y'C7GOC  
    l k sNy  
    光栅结构参数 eMV{rFmT  
    oVTXn=cYDp  
    S$O5jX 0  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 +v2)'?BS  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 {RGQX"k  
    •因此,选择以下光栅参数: _Sg"|g  
    - 光栅周期:250 nm O#<F"e;$  
    - 填充系数:0.5 <{+U- ^rzR  
    - 光栅高度:200 nm UX2@eyejQ7  
    - 材料n1:熔融石英 (@1>G ^%  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) *HsA.W~2W  
    BM~6P|&qD  
    ?8do4gT+1  
    Pn,>eD*g  
    偏振状态分析 vX7U|zy  
    LOgFi%!6:  
    }4g$ aTc  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 soRY M  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 dB)-qL8,2  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 =H`yzGt  
    Z2L7US -  
    !|W.YbS  
    @Di!~e6  
    产生的极化状态 K'}I?H~P_  
    ,#czx3?4  
    p"FWAC!  
    A0>r]<y  
    MgP&9  
    其他例子 `W>Sss  
    m68>`  
    3-=AmRxW't  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 M&jlUr&l  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 x=Aq5*A0  
    *8J 0yv  
    NBXhcfF  
    aX~Jk >a0  
    光栅结构参数 '`YZJ  
    C;5`G *e  
    \#PZZH%  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 OkAgO3>Y/  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 .p]r S =#  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Uqz.Q\A  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ]bAVOKm-  
    ek.@ 0c  
    aZ|?i }  
    光栅#1 ^D]J68)#a  
    /N({"G'  
    73 4t  
    1{5t.  
    *T#^|<.XG  
    •仅考虑此光栅。 cRMyYdJ o  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 jU kxA7 }}  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ::+;PRy_E  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Z ^}[CQ&Am  
    j /_&]6!  
    D^2lb"3  
    假设光栅参数: 6uv~.-T<l  
    •光栅周期:250 nm IBvn q8\  
    •光栅高度:660 nm 3;FV^V'  
    •填充系数:0.75(底部) SuB8mPn  
    •侧壁角度:±6° m[(_fOd  
    •n1:1.46 Ozhn`9L+1!  
    •n2:2.08 z@ J>A![m  
    K@JaN/OM  
    光栅#1结果 |V4<eF-0S  
    &XdTY +  
    Kj"X!-  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 >_xuXEslUz  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 H] g=( %ok  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    SB08-G2  
    ,[T/O\k  
    O_ZYm{T[7  
    r{t6Vv2J  
    光栅#2 -)B_o#2=2  
    K,JK9)T  
    !zm;C@}ln  
    UX[s5#  
    u]7wd3(  
    •同样,只考虑此光栅。 UlXxG|  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 _~MX~M3MB  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 v-SX PL]_^  
    假设光栅参数: n-xdyJD  
    •光栅周期:250 nm y3o3G  
    •光栅高度:490 nm e8T"d%f?  
    •填充因子:0.5 ez!W0  
    •n1:1.46 Rzh.zvxTp  
    •n2:2.08
    W;cY g.W2  
    "&/2 @  
    光栅#2结果 |0oaEd^*}  
    W7b m}JHn  
    "oNl!<ep  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 xpO;V}M|  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 +&S6se4  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 [>r0 (x&.  
    `Fo/RZOW  
    4bp})>}jB  
     
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