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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 v|3mbApv  
    7Q&S [])  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 PevT`\>  
    J DOs.w  
    V[7D4r.j  
    概述 v\}{eP'  
    <jLL2-5r0  
    Scmew  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 98UI]? 4  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 GAh\ 6ul  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 7!6v4ZA  
    %F:; A  
    oS_YQOoD  
    =:H EF;!  
    衍射级次的效率和偏振
    nD=N MqQ &  
    /d$kz&aIV  
    $bZ5@)E  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 pE.TG4  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 5mm&l+N)  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 #aKUD  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Nfmr5MU_  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 vJb/.)gh]  
    e :@PI(P!  
    x5M+\?I<2  
    光栅结构参数 "`* >co6r  
    m;>:mwU  
    5hDPX \  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Xl>ZnI];  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 t ^1uj:vD  
    •因此,选择以下光栅参数: "R% RI( y{  
    - 光栅周期:250 nm 2=naPTP(  
    - 填充系数:0.5 mdcsL~R  
    - 光栅高度:200 nm 9]I{GyH  
    - 材料n1:熔融石英 Bc<pD?uOK  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) @q{.shqo  
    <J.q[fd1*  
    hF5(1s}e$  
    aT BFF  
    偏振状态分析 (!9+QXb'  
    _k(&<1i  
    SPtx_+ Q)S  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 I(Vg  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 pLMaXX~4_  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 p.x2R,CU  
    '7.4!I0'  
    KfQR(e9n   
    RE08\gNIt  
    产生的极化状态 UM^~a$t  
    !;Pp)SRzKG  
    Qm*XWo  
    q&LCMnv"P  
    .k|\xR  
    其他例子 BUyKiMW49  
    J.c yb  
    lZ) qV!<  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 isFxo,R9r  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ?R4%z2rcW  
    sR)jZpmC(  
    $|AasT5w  
     nL[G@1nR  
    光栅结构参数 V$dhiP z  
    SU jo%3R  
    _SU6Bd/>  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 A!R'/m'VG  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 a`LkP%  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 MXDUKh7v3  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 {*K$gH$  
    }eveNPB{5  
    4I*'(6 ,!  
    光栅#1 S,vdd7Y  
    @R(Op|9  
    "w__AYHV  
    {P )O#  
    R'fEw3^  
    •仅考虑此光栅。 kr-5O0tmf  
    •假设侧壁表现出线性斜率。  , YlS  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ,,lR\!>8  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 {$ v^2K'C  
    YWL7.Y>%5  
    flOXV   
    假设光栅参数: ]kF1~kXBe  
    •光栅周期:250 nm Ei=rBi  
    •光栅高度:660 nm "akAGa!V+  
    •填充系数:0.75(底部) > }kZXeR|  
    •侧壁角度:±6° 6Xbf3So  
    •n1:1.46 #qeC)T  
    •n2:2.08 U=5~]0g  
    Ty7)j]b"zl  
    光栅#1结果 :39arq  
    ES8(:5  
    sd =bw  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 4vCUVo r  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ):y^g:  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    jB l$r{L  
    `7[!bCl  
    0|8cSE< i  
    6?[SlPPE1  
    光栅#2 7nP{a"4_  
    e>bARK<  
    'pB?  
    zL'S5'<F|  
    $8SSu|O+x  
    •同样,只考虑此光栅。 5".bM8o  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 2<:dA >1  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 zS h9`F  
    假设光栅参数: }}k*i0  
    •光栅周期:250 nm 0G2Y_A&e**  
    •光栅高度:490 nm Oqq' r"S  
    •填充因子:0.5 ?CcX>R-/  
    •n1:1.46 COmu.'%*  
    •n2:2.08
    34nfL: y  
    bW=3X-)  
    光栅#2结果 7PBE(d%m  
    #&1gVkvp  
    C%CgWO`Xj  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ?e,:x ]\L  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 p(K ^Zc  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 )d2:r 07a  
    %s^1de  
    ;zV<63tW  
     
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