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摘要 XqxmvN Oh]RIWL 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 KN\*|) N#!**Q 0 9% wVE] 概述 Yfa` }hQ 3;t {V$ L3s1a -K •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 grWmF3c# •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Q}qw`L1 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 \]7i-[ 1Bl;.8he.)
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,fR /C 衍射级次的效率和偏振 O_bgrXg6x -rXo}I,VI t_\;G~O9-M •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 a* GiLq •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ~REP@!\r^ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 .r4M]1Of •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Lo-\;%y •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 CA8N
K'tckJ#% ^{+,j}V_H 光栅结构参数 A."]6R< T x
6\ NBaXfWh •此处探讨的是矩形光栅结构。 `=FDNOwp •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 VQe@H8>3 •因此,选择以下光栅参数: A
KjCm*K(q - 光栅周期:250 nm Of?3|I3 l - 填充系数:0.5 A!bH0=<I - 光栅高度:200 nm 4w<4\zT_U} - 材料n1:熔融石英 TLWU7aj&! - 材料n2:TiO2(来自目录) QgB%\mO= JrA\ V=K }g]O_fN7~ vOnhJN 偏振状态分析 YVT\@+C' p*l]I*x'< 0n('F •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 HgfeSH •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 UL<*z!y •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。
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!c#~g0H+ Sn~h[s_( 产生的极化状态 2Ysl|xRo iF!r}fUU6
\Ng|bWR>LQ `j1(GQt ?VaAVxd29 其他例子 tLc9- x}(p\Efx ~P5;k_& •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 #\LsM
~, •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ~Q36lR ,'>,N/JA l$mfsm|{: m
c q!_#{y 光栅结构参数 >ngP\&\ LkA_M'G [t.x cO •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 s J~WzQ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 HAOl&\)7"_ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 <-avC/M$d •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ^9wQl!e
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1 Ka,u20 W]l&mr 光栅#1 pipO,n r)Dln5F
i{.%4tA4 *~H\#N|x WY3D.z-</ •仅考虑此光栅。 fAHf}j •假设侧壁表现出线性斜率。 I%qZMoS1h •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 OqNtTk+ •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 KMo]J1o H1^m>4ll9 m.0:R 假设光栅参数: p.50BcDg •光栅周期:250 nm #eKg!]4-R •光栅高度:660 nm .
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L4@_ •填充系数:0.75(底部) !`$xN~_ •侧壁角度:±6° C!%\cy%Xj •n1:1.46 6r3.%V.& •n2:2.08 Q`* v|Lp 3|qT.QR`Z 光栅#1结果 \ =(r6X Aq~}<qkIF+ `N.^+Mvx- •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 $ &III •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ZT'VF~ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 )CAEqP
dd&n>A3O= 7>sNjOt@M `<3xi9 光栅#2 E!_mXjlPc Y(D&JKx
tITx+i a"6AZT"8 IA$)E •同样,只考虑此光栅。 7F!(60xY •假设光栅有一个矩形的形状。 !Ic{lB •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 k.MAX8 假设光栅参数: W7 iml|WV0 •光栅周期:250 nm |gP9^B?3 •光栅高度:490 nm \f6@B:?y •填充因子:0.5 Q3OGU} F •n1:1.46 m.|__L •n2:2.08 m5w ZS>@ vy&< O 光栅#2结果 HC[)):S* hynX5,p;. 8;vpa* •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 FK ~FC:K •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 p#fd+ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 WhY8#B'? /xseI)y.B
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