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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 b(q$j/~ zb  
    I6K7!+;2  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 <KHv|)ak  
    ?gd'M_-J,  
    (g%JK3  
    概述 8s QQK.N(  
    D-Bv(/Pz]$  
    -/M9 vS  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 *4|9&PNLE  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 PzIy">plm  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 i'Y-V]->  
    |9+bSH9  
    ,]f),;=  
    l*QIoRYFW  
    衍射级次的效率和偏振
    ! (B_EM  
    CHPL>'NJzc  
    bHO7* E  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 fkW3~b  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 OfD@\;L  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *GCA6X  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 V)2"l"Kt  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 >oe4mW  
    nped  
    `ifb<T  
    光栅结构参数 h^['rmd  
    nA>*IU[  
    :L]-'\y  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 M_tj7Q3 W  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 (})]H:W7  
    •因此,选择以下光栅参数: 1T!cc%ah  
    - 光栅周期:250 nm ''_,S,.a20  
    - 填充系数:0.5 USE   
    - 光栅高度:200 nm gB>(xY>LrA  
    - 材料n1:熔融石英 0o;k?4aP.c  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) $X`bm*  
    _i-\mR_~  
    !K!)S^^Po?  
    d "2wO[  
    偏振状态分析 a4%`"  
    ,r@xPZPz:e  
    ex.+'m<g  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 dI!8S  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 v,n);  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 }|AX_=a  
    V:(y*tFA  
    K-Re"zsz  
    NK8<= n%"  
    产生的极化状态 [C~fBf5  
    5n:nZ_D  
    ]Fxku<z7|  
    >Q&CgGpW$  
    aXC!t  
    其他例子 c2/"KT  
    n4Vwao/9x  
    WmNA5;<Q  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Ocybc%  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 aUA cR W  
    </,.K`''W  
    CdZnD#F2  
    ?fB5t;~E  
    光栅结构参数 =`JW1dM  
    B4@fY  
    g#w`J \iz  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ;"D~W#0-v  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 &0s*P G  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 2H6:np |O  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 C(}^fJ6r  
    UnP|]]o:I  
    2.ew^D#  
    光栅#1 k j-=xhJ{=  
    *u}'}jC1X  
    ,}KwP*:Z  
    I,]J=xi  
    9YAM#LBTWi  
    •仅考虑此光栅。 0',[J  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 #vtN+E  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Cpe#[mE  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 f$vwuW  
    Z4#v~!  
     ![ a  
    假设光栅参数: )Z("O[  
    •光栅周期:250 nm JwB"\&'1ZS  
    •光栅高度:660 nm &Bm&i.r  
    •填充系数:0.75(底部) -;vT<G3  
    •侧壁角度:±6° l~NEGb  
    •n1:1.46 *Z >  
    •n2:2.08 zz&vfO31J  
    se#@)LtZ  
    光栅#1结果 f9a$$nb3`  
    0Q`&inwh  
    VNO'="U  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 <1K7@Tu  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 <*_o0;h|  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ^zg acn  
    cv]BV>=E  
    ?~Pv3'%d  
    @7%.7LK  
    光栅#2 2$ tQ @r  
    ] opto  
    O>%$q8x@i  
    9n"V\e_R  
    C B/r]+4  
    •同样,只考虑此光栅。 2QL?]Vo  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 ^&NN]?  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 F\-Si!~oOz  
    假设光栅参数: x9&p!&*&IT  
    •光栅周期:250 nm n+rM"Gxz  
    •光栅高度:490 nm gHZqA_*T8U  
    •填充因子:0.5 uFo/s&6K  
    •n1:1.46 C `6S}f,  
    •n2:2.08
    s&VOwU  
    e1UITjy  
    光栅#2结果 </=3g>9Z  
    H99xZxHZ{  
    xCq'[9oU  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 d8o ewkiR  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ^BiP LQ  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 qe%V#c  
    -?z\5 z  
    R5ZIC4p  
     
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