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摘要 *Mk5*_
,5.ve)/dE 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 D}OvD |<- zyTeF~_ qf#Ou 概述 |bA\>%~ Xf(H_&K [7oU = •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 7Rwn{]r •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 3w6}%=)$8 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 +/E`u|%|\] J4EQhuQ
+G)L8{FY( i|2CZ 衍射级次的效率和偏振 hV_bm@f/y 7,X5]U&A<x 2NB/&60< •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 8cI<~|4_ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。
XnR9/t •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 =wEU+R_#o •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 z$C}V/Ey •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 xA/Ein0
zg>4/10P1q ?>
)(;Ir9 光栅结构参数 hhRUC&Y%V Qu]F<H*Y| VEFUj&t;xW •此处探讨的是矩形光栅结构。 l1 Nr5PT •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 U~H]w,^ •因此,选择以下光栅参数: o y{
{d - 光栅周期:250 nm xYSNop3_ - 填充系数:0.5 w`ebZa/j - 光栅高度:200 nm Ts)ox}rYVm - 材料n1:熔融石英 !'#Y-"=ypk - 材料n2:TiO2(来自目录) mQwP-s 1!/WC.0 nz+k , $1KvL8 偏振状态分析 -aSj- ol#|
.a2O 5=@q!8a* •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ,Kl6vw8Htg •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 7UnB]- :. •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 A*b>@>2 'TwvkU"
ny++U;qi a]NH >d 产生的极化状态 `!- w^~c ,;%F\<b
K-X@3&X} ^&8FwV] I)s~kA.e 其他例子 ^(79SOZC
7j,u&%om MeCHn2zwB •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 #cGn5c} •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 L@VIC|~E 2,T^L(] i`st'\I =pa
F6!AB 光栅结构参数 V =9 `bAOhaB,/ qL;u59 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 sW#OA\i& •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 'cgB$:T}., •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 I
l2`c}9 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 rP%B#%;S"
Tup2;\y ?j:U<TY) 光栅#1 5yl[#>qt e<Bwduy
A,fP l R u*"mdL2 v$JhC' •仅考虑此光栅。 a]]>(Txc •假设侧壁表现出线性斜率。 (6g;FD:"6 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Ul{{g$ •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 .).}ffhOL G?$0OU )}3!iDA 假设光栅参数: +-$Hx5 •光栅周期:250 nm u#bd*( •光栅高度:660 nm I%?ia5]H •填充系数:0.75(底部) GeydVT- •侧壁角度:±6° jT:z#B% •n1:1.46 f%gdFtJ & •n2:2.08 =}pPr]Cc DMXm$PU4V 光栅#1结果 d(t$riFX} Ec4+wRWk85 ,Nk{AiiN •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 9*&RvsrX •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Et0[HotO •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ZvVrbj& ;;{!wA+"D F Bk_LEcX ibj3i7G? 光栅#2 3*<?'O7I0 lO+6|oF0
+=o?& @!np
0# @b]?Gg •同样,只考虑此光栅。 }<7S%?TY •假设光栅有一个矩形的形状。 dd>
qy •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 BXj]]S2 假设光栅参数: OA?pBA •光栅周期:250 nm bw[s<z|LKA •光栅高度:490 nm 0; PV gO;9 •填充因子:0.5 9*b(\Z)N •n1:1.46 a`t<R •n2:2.08 -:]-g:;/ YEiQ`sYKG 光栅#2结果 *;u'W|"/~ d!z}!
: *Y\C5L] •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 , b;WCWm •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 WUfPLY_c( •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 W!=X_ PgMU|O7To
#=V[vbTY
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