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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 *Mk5*_  
    ,5.ve)/dE  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 D}OvD |<-  
    zyTeF~_  
    q &#f#Ou  
    概述 |bA\>%~  
    Xf(H_&K  
    [7 oU =  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 7Rwn{]r  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 3w6}%=)$8  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 +/E`u|%|\]  
    J4EQhuQ  
    +G)L8{FY(  
    i|2CZ  
    衍射级次的效率和偏振
    hV_bm@f/y  
    7,X5]U&A<x  
    2N B/&60<  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 8cI<~|4_  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 XnR9/t  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 = wEU+R_#o  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 z$C}V/Ey  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 xA/Ein0  
    zg>4/10P1q  
    ?> )(;Ir9  
    光栅结构参数 hhRUC&Y%V  
    Qu]F<H*Y|  
    VEFUj&t;xW  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 l1 Nr5PT  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 U~H]w ,^  
    •因此,选择以下光栅参数: oy{ {d  
    - 光栅周期:250 nm xYSNop3_  
    - 填充系数:0.5 w`ebZa/j  
    - 光栅高度:200 nm Ts)ox}rYVm  
    - 材料n1:熔融石英 !'#Y-"=ypk  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) mQwP-s  
    1!/WC.0  
    nz+k ,  
    $1KvL8  
    偏振状态分析 -aSj-  
    ol#| .a2O  
    5=@q!8a*  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ,Kl6vw8Htg  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 7UnB]-:.  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 A*b>@>2  
    'TwvkU"  
    ny++U;qi  
    a]NH >d  
    产生的极化状态 `!- w^~c  
    ,;%F\<b  
    K-X@3&X}  
    ^&8FwV]  
    I)s~kA.e  
    其他例子 ^(79SOZC  
    7j,u&%om  
    MeCHn2zwB  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 # cGn5c}  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 L@VIC|~E  
    2,T^L (]  
    i`st'\I  
    =pa F6!AB  
    光栅结构参数 V =9  
    `bAOhaB,/  
    qL;u59  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 sW#OA\i &  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 'cgB$:T}.,  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 I l2`c}9  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 rP%B#%;S"  
    Tup2;\y  
    ?j:U<TY)  
    光栅#1 5yl[#>qt  
    e<Bw duy  
    A,fPl R  
    u*"mdL2  
    v$JhC'  
    •仅考虑此光栅。 a]]>(Txc  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 (6g;FD:"6  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Ul{{g$  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 .).}ffhOL  
    G?$0OU  
    )}3!iDA  
    假设光栅参数: +-$Hx5  
    •光栅周期:250 nm u#bd*(  
    •光栅高度:660 nm I%?ia5]H  
    •填充系数:0.75(底部) GeydVT-  
    •侧壁角度:±6° jT:z#B%  
    •n1:1.46 f%gdFtJ &  
    •n2:2.08 =}pPr]Cc  
    DMXm$PU4V  
    光栅#1结果 d(t$riFX}  
    Ec4+wRWk85  
    ,Nk{AiiN  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 9*&RvsrX  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Et0[HotO  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ZvVrbj&  
    ;;{!wA+"D  
    FBk_LEcX  
    ibj3i7G?  
    光栅#2 3*<?'O7I0  
    lO+6|oF0  
    +=o?&  
    @!np 0#  
    @b]?Gg  
    •同样,只考虑此光栅。 }<7S% ?TY  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 dd> qy  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 BXj]]S2  
    假设光栅参数: OA?pBA  
    •光栅周期:250 nm bw[s<z|LKA  
    •光栅高度:490 nm 0; PV gO;9  
    •填充因子:0.5 9*b(\Z)N  
    •n1:1.46 a`t <R  
    •n2:2.08
    -:]-g:;/  
    YEiQ`sYKG  
    光栅#2结果 *;u'W|"/~  
    d!z}! :  
    *Y\C5L ]  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 , b;WCWm  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 WUfPLY_c(  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 W! =X _  
    PgMU|O7To  
    #=V[vbTY  
     
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