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摘要 ,Zpc vK/S OX"^a$ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 23lLoyN 4@K9% 9 >t 概述 "Ih>>|r K+0&~XU $[L8UUHY<8 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 'f#i@$|] •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ^4+ew>BLSv •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 )yV|vn %:v59:i}
hPCt- ){AtV&{$ 衍射级次的效率和偏振 x>>#<hOz[ *4i)aj L[]*vj •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 vhw"Nl •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 pjC2jlwm* •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *V\z]Dy-[ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 rjmKe*_1V •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 [79 eq=
e}x}Fj</( |ZEZ@y^ 光栅结构参数 xbh4j!FD$ ZP@or2No% |x2+O •此处探讨的是矩形光栅结构。 ]s*Fs]1+H •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 Q?f%]uGFQ •因此,选择以下光栅参数: vybQ}dscn - 光栅周期:250 nm R W=<EF& - 填充系数:0.5 t SST.o3 - 光栅高度:200 nm q P<n< - 材料n1:熔融石英 j@kL`Q\&I - 材料n2:TiO2(来自目录) e&Z\hZBb uS9:cdH U($sH9, +3HukoR( 偏振状态分析 !Gv*iWg f8ap+][ ;2o+|U@ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 2v!ucd} •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ?;{fqeJz •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 "[` .I*WNo -hM
nA)+
81\$X e
~X<+3< 产生的极化状态 64Ot`=A" 8q)wT0A~
zeqP:goy .g CC$ nI1DLVt 其他例子 CYr2~0<g sUaUZO2V T5mdC •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 U Ox$Xwp5& •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 8
S'g% aZ$$a+ _$<Q$P6y =1dU~B:Lm 光栅结构参数 "W_C%elg 5lp
L$ e=11EmN9 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 N4 O'{ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 "J0,SFu: •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 6E9y[ %+ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 GCxtW FXH
IAr jL$&]sQ`O) 光栅#1 E"ju<q/Q P!?Je/Tz]
O[p;IG` G)(\!0pNZ ],*^wQ •仅考虑此光栅。 _":yUa0D •假设侧壁表现出线性斜率。 Cdjh/+!f •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 >
,L'A;c} •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Mr}]P(4h cD-.thHO Luxo,Ve 假设光栅参数: 9N9dQ}[:g •光栅周期:250 nm \NYtxGV[Z •光栅高度:660 nm SnK j:|bV •填充系数:0.75(底部) x4SI TY •侧壁角度:±6° *}9i@DP1, •n1:1.46 yVThbL_YJ •n2:2.08 oE+s8Q Mis t,H7 光栅#1结果 =<-tD< >uN`q1?l' O?uT'$GT •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 >3H/~ Y •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 0dKI+zgr •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 ({3hX"C@Q CPq{M.B G Q&9b_ 0NLoqq 光栅#2 bl|k6{A dhe?7r]u
}i1p&EN^ %K^l]tWa@ gY AXUM, •同样,只考虑此光栅。 g-=)RIwm •假设光栅有一个矩形的形状。 ^'S0A=1 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ,s'78Dc$ 假设光栅参数: ,jWMJ0X/N= •光栅周期:250 nm T ,,
Ao36 •光栅高度:490 nm [@ ]f@Wd •填充因子:0.5 .xT8@] •n1:1.46 e{edI{g •n2:2.08 ?3!"js
B [GeJn\C_? 光栅#2结果 u,0N[.&N )^UM8
s [>"bL$tlo* •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 F_ ~L&jHP •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ;dl> •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 i^ 9PiP|U !j8h$+:K
yp=Hxf
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