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摘要 s^)(.e_ d8
v9[4 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 T$FKn k'F*uS
K4|fmgcy. 概述 Wo9=cYC) ]CU)#X<J 7?_gm>]a •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 9"Dt3>Z •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 }(na)B{m •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 pXQ$n:e lt5Knz2G,Z J7EWaXGbz -c0*
衍射级次的效率和偏振 *fy aAv 6PWw^Cd .hf%L1N%F •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ]-heG'y]{ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 /a}N6KUi •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 D&N3LH •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 D7thLqA •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ?u{Mz9:?HT PK{FQ3b2{ mH<|.7~0 光栅结构参数 {~\:4 3$_- 0> \\oa[nvL~ •此处探讨的是矩形光栅结构。 RWDPsZC •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 (o\D=!a •因此,选择以下光栅参数: 4eaH.&& - 光栅周期:250 nm Gh3f^PWnc - 填充系数:0.5 Mac :E__G - 光栅高度:200 nm "yU<X\ni - 材料n1:熔融石英 Hp(41Eb, - 材料n2:TiO2(来自目录) 8JMxA2tZhG }Vm'0 m+pK,D~{" }U%E-:
偏振状态分析 ?^8.Sa{ mxc^IRj S!R(ae^} •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 8y?q)y9h •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 OMjx,@9 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 g'-hSV/@}@ !.q#X^@>L _|{pO7x]oG v,3}YDu 产生的极化状态 IMy!8$\u $qoal s2+_`Ogg kZ^wc . p+2%LYR u 其他例子 N45@)s!F9j W3MH8z
z5f3T D6, •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 D_w<igu!3 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 |Y+[_D} +sd':vE PXDJ[Oj7(0 3/su 1M[ 光栅结构参数 XlwyD T(kG"dz Ojp|/yd^YL •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 7'{Y7]+z+ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 C*Y0GfW= •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 'EU|w,GL} •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Vgj[m4l ab_EH}j1\q !ZN"(0#qz 光栅#1 AeW_W0j evyA#~o Xpmi(~n z8PV&o H)+wkR!~ •仅考虑此光栅。 MWn[]'TpH •假设侧壁表现出线性斜率。 C9`x"$ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 1~*JenV- •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 fd1z
XK#Z2 }M(XHw SYv5{bff = 假设光栅参数: !R$t>X •光栅周期:250 nm :\#/T,K" •光栅高度:660 nm =I)Ex) •填充系数:0.75(底部) l]P3oB}Yo •侧壁角度:±6° pH.&OW% •n1:1.46 h{VGhkU9f •n2:2.08 1,sD'iNb ARid 光栅#1结果 5'"9)#Ve eJZt&|7N ZOHGGO]1M •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 #xxs^Kbqa# •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 J|o )c~ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 -;[,`g(f izP>w*/nO GEfTs[ '$be+Z32 光栅#2 G~\=:d=^,` 7Dx<Sr! h@(S];. m[?gN&%nc B#x.4~YX •同样,只考虑此光栅。 cpBTi •假设光栅有一个矩形的形状。 9GVv[/NAb •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Nc[u?- 假设光栅参数: ns !Mqcm •光栅周期:250 nm h-RL`X •光栅高度:490 nm ;PX>] r5U0 •填充因子:0.5 \@:mq]Y •n1:1.46 7-MkfWH2b6 •n2:2.08 s4{ >7`N2 o51jw(wO 光栅#2结果 p EbyQ[ ."JtR
6J%yo[A(w •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 '"Y(2grP •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 0N>R!
•与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 %u02KmV. -85W/% K)r|oW=6Y
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