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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 ,ZpcvK/S  
    OX"^a$  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 23lLoyN  
    4@K9%  
    9>t  
    概述 "Ih>>|r  
    K+0&~XU  
    $[L8UUHY<8  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 'f#i@$|]  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ^4+ew>BLSv  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 )yV|vn  
    %:v59:i}  
    hPC t-  
    ){AtV&{$  
    衍射级次的效率和偏振
    x>>#<hOz[  
    *4i)aj  
    L[]*vj   
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 vhw"Nl  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 pjC2jlwm*  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *V\z]Dy-[  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 rjmKe*_1V  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 [79 eq=  
    e}x}Fj</(  
    |ZEZ@y^  
    光栅结构参数 xbh4j!FD$  
    ZP@or2No%  
    |x2 +O  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 ]s*Fs]1+H  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 Q?f%]uGFQ  
    •因此,选择以下光栅参数: vybQ}dscn  
    - 光栅周期:250 nm R W= <EF&  
    - 填充系数:0.5 tSST.o3  
    - 光栅高度:200 nm q P<n<  
    - 材料n1:熔融石英 j@kL`Q\&I  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) e&Z\hZBb  
    uS9:cdH  
    U($sH9,  
    +3HukoR(  
    偏振状态分析 !Gv*iWg  
    f8ap+][  
    ;2o+|U@  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 2v!ucd}  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ?;{fqeJz  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 "[`.I*WNo  
    -hM nA)+  
    81\$X  
    e ~X<+3<  
    产生的极化状态 64Ot`=A"  
    8q)wT0A~  
    zeqP:goy  
    .g CC$  
    nI1DLVt  
    其他例子 CYr2~0<g  
    sUaUZO2V  
    T5mdC  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 U Ox$Xwp5&  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 8 S'g%  
    aZ$$a+  
    _$<Q$P6y  
    =1dU~B:Lm  
    光栅结构参数 "W_C%elg  
    5lp L$  
    e=11EmN9  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 N4 O'{  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 "J0,SFu:  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 6E9y[ %+  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 GCxtWFXH  
    IAr  
    jL$&]sQ`O)  
    光栅#1 E"ju<q/Q  
    P!?Je/ Tz]  
    O[p;IG`  
    G)(\!0pNZ  
    ],*^wQ   
    •仅考虑此光栅。 _":yUa0D  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 Cdjh/+!f  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 > ,L'A;c}  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Mr}]P(4h  
    cD-.thHO  
    Luxo,Ve  
    假设光栅参数: 9N9dQ}[:g  
    •光栅周期:250 nm \NYtxGV[Z  
    •光栅高度:660 nm SnK j:|bV  
    •填充系数:0.75(底部) x 4SI TY  
    •侧壁角度:±6° *}9i@DP1,  
    •n1:1.46 yVThbL_YJ  
    •n2:2.08 o E+s8Q  
    Mis t,H7  
    光栅#1结果 =<-tD<  
    >uN`q1?l'  
    O?uT'$GT  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 >3H/~ Y  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 0dKI+zgr  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ({3hX"C@Q  
    CPq{M.B  
    G Q&9b_  
    0NLoqq  
    光栅#2 bl|k6{A  
    dhe?7r ]u  
    }i1p &EN^  
    %K^l]tWa@  
    gY AXUM,  
    •同样,只考虑此光栅。 g-=)RIwm  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 ^'S0A=1  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ,s'78Dc$  
    假设光栅参数: ,jWMJ0X/N=  
    •光栅周期:250 nm T ,, Ao36  
    •光栅高度:490 nm [@ ]f@Wd  
    •填充因子:0.5 . xT8@]  
    •n1:1.46 e{edI{g  
    •n2:2.08
    ?3!"js B  
    [GeJn\C_?  
    光栅#2结果 u,0N[.&N  
    )^UM8 s  
    [>"bL$tlo*  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 F_ ~L&jHP  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ;dl>  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 i^9PiP|U  
    !j8h$+:K  
    yp=Hxf  
     
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