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摘要 0VoC|,$U %P_\7YBC> 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 {0QD-b o qTqvEa^X` ~/3cQN^ 概述 g%j z,| v{H23Cfh: wVE"nN# •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 Ze WHSU
•为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ehxtNjA •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 a6WE,4T9 wgLS9.
7 bsW7;C 'ZT!a]4 衍射级次的效率和偏振 =Z#tZ{" !"2OcDFx V$q%=Sip •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ct~lt'L\ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 51x^gX| •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 4
CX*,7LZ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 XF^c(*5 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 EXa6"D
pKEMp&geo <]wN/B-8J 光栅结构参数 A*E4hop[ 7{<F6F^P )QBsyN<x6 •此处探讨的是矩形光栅结构。 DVTzN(gO*~ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 9D<^)ShY •因此,选择以下光栅参数: 9\Xl3j! - 光栅周期:250 nm ACyQsmqm: - 填充系数:0.5 t"0~2R6i - 光栅高度:200 nm vZ]gb$ - 材料n1:熔融石英 B]*&lRR - 材料n2:TiO2(来自目录) OPKX&)SE-
r.K4<ly-N g LpWfT29V X]1ep 偏振状态分析 RtqW!ZZ:H zv0RrF^ <NJ7mR} •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ~Dy0HVE •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 xVl90ak •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 `gss(o1} v(: VUo]H
k*M{?4 "{V,(w8Dt 产生的极化状态 ,E>VYkoA l^Lg"m2
1H[lf
B J25>t^ *=2jteG=3. 其他例子 3ZB;-F5v x_@ev- zP9 HYS •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 OOk53~2id •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 eQ9x l -y/?w*Cx |f>y"T+1 Y7{|EI+@ 光栅结构参数 sdO;vp^:b C*78ZwZ yRgo1o w] •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Gf%o|kX] •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 sztnRX_ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ]&r/H17 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ($cu!$lY~
F2:7UNy, n `n3[ 光栅#1 u!@P,,NY a)TNVm^
=riP~%_ML) ;^*^
:L Hou{tUm{xC •仅考虑此光栅。 u>(Q& 25 •假设侧壁表现出线性斜率。 tlcA\+%) •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 A>4k4*aFm# •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 #|CG %w 4u(}eE
f7 %(kq Hxc 假设光栅参数: n>eIQaV •光栅周期:250 nm wR4P0[ •光栅高度:660 nm e6_.ID'3 •填充系数:0.75(底部) {?jdPh •侧壁角度:±6° >WD^)W fa •n1:1.46 6?a(@<k_ •n2:2.08 b%_QL3m6 5Px.G* 光栅#1结果 Y7jD:P GqAedz ;. NrU-%!Aw •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 _cJ{fYwYU •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 i;tA<-$- •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 cj8r-Vu/N hZ#tB tEEhSG)s% .o-j 光栅#2 JZtFt=>q {&;b0'!Tf
C=m Y RSi0IfG5 k}O|4*.BT •同样,只考虑此光栅。 hKT:@l* •假设光栅有一个矩形的形状。 6X jUb •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 y-@!, @e 假设光栅参数: q-o>yjT~ •光栅周期:250 nm z84W{!
P •光栅高度:490 nm jQr~@15J# •填充因子:0.5 A,og9<+j- •n1:1.46 (G"qIw
•n2:2.08 p}.b#{HJ m0*
B[ 光栅#2结果 lcP@5ZW ?dmMGm0T9 395o[YZx* •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 ~^euaOFU 6 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 &B2c]GoW •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 UxvsSHi xWwPrd
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