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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 Z}T<^  F  
    mwZesSxB_  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Jn +[:s.  
    eU1= :n&&\  
    "Fy34T0N  
    概述 zPe4WE|  
    X |.'_6l.  
    1HskY| X  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 (;$ J5  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 }.3F|H  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 -i V&-oP  
    G`ZpFg0Y  
    @%IZKYf c~  
    oylY1~~}0K  
    衍射级次的效率和偏振
    +&jWM-T"-  
    _K )B  
    <P3r+ 1|R  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 <t,uj.9_  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 H4 Ca+;  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 FviLlly6  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ik+qx~+`Qv  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 n <6}  
    A-~#ydv  
    L5(rP\B  
    光栅结构参数 8Z4d<DIJ  
    S5@/;T  
    LZMdW #,[  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 )UI$ s"  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 F:%= u =  
    •因此,选择以下光栅参数: <GF)5QB  
    - 光栅周期:250 nm _b<Fz`V  
    - 填充系数:0.5 "FT5]h  
    - 光栅高度:200 nm (sW:^0p  
    - 材料n1:熔融石英 4;M  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) f_Y[I :  
    D%LqLLD  
    U# ueG  
    p>Ju)o  
    偏振状态分析 j1N1c~2  
    COOazXtW  
    ?g}n$%*5y!  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ^TyusfOz  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 DdJxb{y7  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 RV.z xPw>>  
    `4.Wdi-Si  
    ]cc4+}L~  
    uTpKT7t  
    产生的极化状态 xB68RQe)  
    !aeL*`;  
    d0>V^cB'?  
    ~q?IG5s*Z  
    Bg-C:Ok 2'  
    其他例子 { Y|h;@j$  
    Z_iu^ Q  
    M/5/Tp  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 [zm&}$nnN  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 MnO,Cd6{%d  
    ":"QsS#*"#  
    H:`W\CP7_  
    HyiuU`  
    光栅结构参数 PkLRQ}  
    % rdW:  
    L4zSro:Si  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 =3{h9  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 z<+".sD'  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 K-)*S\<}  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 YUF!Y9!  
    fg8V6FS  
    req=w;E:  
    光栅#1 Eg3rbqM- 8  
    76c4~IG#  
    tRS^|??  
    5dMIv<#T`  
    3rZFN^  
    •仅考虑此光栅。 }Tu_?b`RUm  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 rzDqfecOmW  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 en=Z[ZIPO  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 vROl}s;  
    kNI m90,g  
    HoT5 5v!o  
    假设光栅参数: U# -&%|b$  
    •光栅周期:250 nm 4.,e3  
    •光栅高度:660 nm ?p. dc ~tZ  
    •填充系数:0.75(底部) B+jT|Y'  
    •侧壁角度:±6° +LQ2To  
    •n1:1.46 BXa1 [7Z  
    •n2:2.08 !}"npUgE  
    E;$t|~ #  
    光栅#1结果 'M_8U0k  
    S5" xb  
    D ,mFme  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 1ScfX\ F=  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 J6hWcA6 g  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    (*/P~$xIj  
    $B~a*zZ7  
    U @|{RP  
    1;fs`k0p  
    光栅#2 C0 .Xp  
    q .tVNKy%  
    XC?H  
    A{>]M@QC2  
    Fy`VQ\%7t  
    •同样,只考虑此光栅。 c[sC 2  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 Wfu%,=@,  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 nkS6A}i3o  
    假设光栅参数: n j; KnZ  
    •光栅周期:250 nm $B}(5D a  
    •光栅高度:490 nm pP{b!1  
    •填充因子:0.5 2a5yJeaIv*  
    •n1:1.46 >6 :slNM#  
    •n2:2.08
    /{>ds-;-  
    uji])e MN~  
    光栅#2结果 i/C#fIB2  
    tOnaD]J  
    g[8V fIe  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 &4O"Xs`ka  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 qlPjz*<h"H  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 np=m ~k  
    cn<9!2a  
    Y91TF'  
     
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