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    [技术]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-22
    摘要 ;@|n @ax  
    x+@rg];m  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 wi6 ~}~%  
    DN57p!z  
    wcY? rE9  
    概述 ?2Py_gkf  
    2a Q[zK  
    P\rg" 3  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 UrEs4R1#  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 k_nql8H  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 RdR p.pb8  
    *wB1,U{  
    %/#NK1&M  
    p4 ^yVa  
    衍射级次的效率和偏振
    ExL0?FemWV  
    N U`  
    VQ9/Gxdeo  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 lp%pbx43s  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 C1 GKLl~  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 6zuTQ^pz  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 H*'IK'O  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 %2V?,zY@  
    [j/9neaye  
    pJ'"j 6Q  
    光栅结构参数 0[?Xxk}s0  
    fSvM(3Y<Qh  
    dE{dZ#Jfi  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 [ ~c|mOk  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 jLHkOk5{:  
    •因此,选择以下光栅参数: }l} Bo.C  
    - 光栅周期:250 nm VY=jc~c]v  
    - 填充系数:0.5 |"CZT#  
    - 光栅高度:200 nm nazZ*lC  
    - 材料n1:熔融石英 #( 146  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) 3eAX.z`D  
    0rs"o-s<  
    l L@XM2"  
    C 7ScS"~  
    偏振状态分析 eiaFaYe\  
    -3Z,EaG^  
    a fW@T2  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ['tY4$L(  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 uGK.\PB$  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 =|y9UlsD  
    =ncVnW{  
    /dI&o,sA  
    r1{@Ucw2  
    产生的极化状态 u.m[u)HQ  
    ^7WN{0  
    .2Elr(&*h  
    hT&Y#fh  
    ,CcV/K  
    其他例子 k|PN0&J  
    paE[rS\  
    Ee%%d  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 5 ,B_u%bb  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ,~@X{7U  
    WUXx;9>  
    '"/=f\)u  
    &>W$6>@  
    光栅结构参数 sW'AjI  
    k&vz 7Q`T  
    x,@B(9No  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 |tMWCA  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 X Dm[Gc>(~  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 /cQueUME`  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 bP$dU,@p~  
    lc1(t:"[  
    .*S#aq4S  
    光栅#1 ^Hnb }L  
    P90yI  
    )|R)Q6UJ  
    li'YDtMKCY  
    $)ijN^hV  
    •仅考虑此光栅。 o!Ieb  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 6"5A%{ J  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 gpvYb7Of0  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 *-=(Q`3  
    Zd}9O jz5  
    gw3K+P  
    假设光栅参数: PI:4m%[  
    •光栅周期:250 nm .*?wF  
    •光栅高度:660 nm FQ7T'G![  
    •填充系数:0.75(底部) t?-n*9,#S  
    •侧壁角度:±6° 8f)?{AX0  
    •n1:1.46 z2_*%S@  
    •n2:2.08 =_ ./~  
    HU8900k+  
    光栅#1结果 ~Z?TFg  
    Vl /+;6_  
    ]7F=u!/`<C  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 2~1SQ.Q<RY  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 9`A;U|~E@  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    R'bTN|Cq  
    $m%f wB  
    DJXmGt]  
    3G)#5 Lf<  
    光栅#2 Yz/md1T$  
    5j<mbt}  
    vMi;+6'n>  
    9N%We|L,c  
    a}BYov  
    •同样,只考虑此光栅。 J6s`'gFns  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 \FbvHr,  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 1R{!]uh  
    假设光栅参数: z0p*Z&  
    •光栅周期:250 nm /ivJsPH  
    •光栅高度:490 nm 0neoE E  
    •填充因子:0.5 pMx*F@&nU  
    •n1:1.46 j9x<Y]  
    •n2:2.08
    ~q@|l3?$  
    G_3O]BMKd)  
    光栅#2结果 */)c?)"  
    !*F1q|R  
    fo*2:?K&  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 G7` ko1-  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 [fya)}  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 6y%qVx#!  
    Bw)/DM]  
    LEbB(x;@  
     
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