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摘要 Ha#=(9. .N;=\C* 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 U)TUOwF `%bypHeSp 5PCqYN(:B 概述 e)IzQ7Zex ux-/>enc =HK!(C •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 yZ7&b&2nLn •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 AOZP*\k •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 PN%zIkbo OG~gFZr)6
NSMyliM1Y n6=By|jRh 衍射级次的效率和偏振 1q\\5A<V >gQ>1Bwvi >~rTqtKd •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 nbp=PzZy •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 u]wZQl#- •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 R+:yVi[F]U •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 y8Ir@qp5 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 CZe ]kXNv
;]puq L&8~f] 光栅结构参数 lgAoJ[ '6`3(TK.a 3yme1Mb •此处探讨的是矩形光栅结构。 $p8xEcQdU# •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 sjTZF- •因此,选择以下光栅参数: Rh2+=N<X - 光栅周期:250 nm G5_=H,Vmd - 填充系数:0.5 [^n.Pn s - 光栅高度:200 nm @u+]aI!`- - 材料n1:熔融石英 <{p4V|: - 材料n2:TiO2(来自目录) pQ" >UL* ]#<4vl\ +QavYqPF f5"k55 } 偏振状态分析 ?,Xw[pR o|^3J{3G BZ#(
•使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 + 480 l} •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 f`(UQJ •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 "^[ 'y7i P:S .~Jq
Po;W'7"Po` 7"D",1h 产生的极化状态 BVQqY$> QZwNw;$k*
/N+dQe P5V}#;v o[4}h:> dq 其他例子 "cGk)s .sW|Id ) VCfl`Aq'l •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 m~ABC#,2 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 $Wol?)z G>=*yqo
//MUeTxR E~T-=ocKE 光栅结构参数 =s{> Fsm1 3%|&I:tI aK~8B_5k8 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ]A`n(
"% •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 @bLy,Xr& •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 }#+^{P3 ; •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 r<EY]f^`u
59L\|OR rXq.DvQ 光栅#1 FxY}m Hio0HL-
7z,C}-q Y-z(zS^1 B mb0cFQ •仅考虑此光栅。 Zl!kJ:0 •假设侧壁表现出线性斜率。 'oVx#w^mf •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 hE/cd1iJ$ •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 v/plpNVp> >|=ts 5;WH:XM 假设光栅参数: Z\rwO>3 •光栅周期:250 nm E&w7GZNt •光栅高度:660 nm I
34>X`[o •填充系数:0.75(底部) gVuFHHeUz •侧壁角度:±6° MjRHA^b •n1:1.46
/maJtX' •n2:2.08
K5 z<3+ ?$pCsBDo 光栅#1结果 9=tIz ~8+ Zs e`s
~.ZF •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 8Fh)eha9f •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 >y>5#[M! •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 . Efk* v1JzP# y^*~B(T{ r5/0u(\LB 光栅#2 29b9`NXt f~[7t:WD*
gJ{)-\ 6MW{,N ajT*/L!0_ •同样,只考虑此光栅。 kTB0b*V •假设光栅有一个矩形的形状。 }8z?t:|S •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 D_7,m%Z: 假设光栅参数: $PPi5f}HD •光栅周期:250 nm \)[j_^ •光栅高度:490 nm Or+U@vAnk •填充因子:0.5 00y!K
m_D •n1:1.46 w9imKVry •n2:2.08 +\A,&;!SR mJnIwdW* 光栅#2结果 JQI: sj 6 "sSo j *fxG?}YT •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 J@'wf8Ub •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ITBE|b •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 e T{ 4{ 'H!Uh]!
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