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摘要
xp'_%n~K@ qL6c`(0 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ~fl@ 2 A,-6|&F  e"]8T }, MfO :m[s 建模任务 ,)+ o <tpmUA[]  _cT h#t ^ 概观 ,H}_ %}10 [L`ZE *z  q>f<u& 光线追迹仿真
`0H g y= 'C$XS > S •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 3uU]kD^ wS+V]`b
•点击Go！ I
+5)Jau^S
•获得3D光线追迹结果。 uY_SU-v
H>Q%"|
 %+ 7p lM -m'j]1 光线追迹仿真 G CRz<)1 Vt^3iX{! Sw^X2$h
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 !f>d_RG
•单击Go！ a8u 9aEB
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 :.( ;<b<\ '[$)bPMHl  GWsE; M)*\a/6?{ 场追迹仿真 ^ Jb
H? Yw5' 6NU
4p;aS$Q
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 j.a`N2]WE
•单击Go！ kK 8itO 9[!,c`pw  }(a+aH H z"D.Bm~ ] 场追迹结果（摄像机探测器） r|4t aV&
4tg<iH{ jVLA C WH
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 AV 8n(
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 tg^sCxz9]
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 _X ~87
6nhMP$h
 \tx bhWN
ys_ `e 场追迹结果（电磁场探测器） C]^H& dd2[yKC` _%'},Xd.z
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 u66XN^ +q6ydb,
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