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摘要
xp'_%n~K@ qL6c`(0 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 ~fl@ 2 A,-6|&F e"]8T}, MfO:m[s 建模任务 ,)+o <tpmUA[] _cTh#t ^ 概观 ,H}_%}10 [L`ZE*z q>f<u& 光线追迹仿真
`0H g y= 'C$XS>S •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 3uU]kD^ wS+V]`b •点击Go! I
+5)Jau^S •获得3D光线追迹结果。 uY_SU-v H>Q%"|
%+ 7p lM -m'j]1 光线追迹仿真 G CRz<)1 Vt^3iX{! Sw^X2$h •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 !f>d_RG •单击Go! a8u9aEB •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 :.(;<b<\ '[$)bPMHl GWsE; M)*\a/6?{ 场追迹仿真 ^Jb
H? Yw5' 6NU
4p;aS$Q •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 j.a`N2]WE •单击Go! kK8itO 9[!,c`pw }(a+aHH z"D.Bm~ ] 场追迹结果(摄像机探测器) r|4t aV& 4tg<iH{ jVLA CWH •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 AV 8n( •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 tg^sCxz9] Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 _X~87 6nhMP$h
\txbhWN ys_`e 场追迹结果(电磁场探测器) C]^H& dd2[yKC` _%'},Xd.z •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 u66XN^ +q6ydb,
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