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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 Q3'\Vj,S&  
    !ku5P+y$  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 2:Zb'Mj  
    &FW|O(]  
    lt`#or"o  
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    建模任务 'OK)[\  
    v=RQ"iv8  
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    概观 #EgFB}>1  
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    \J.PrE'(}  
    光线追迹仿真 DfXXN  
    gR )xw)!  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 37Q9goMov  
    \,+act"v  
    •点击Go！ 4U( W~O  
    •获得3D光线追迹结果。 'x$>h)t]  
    aq@/sMn  
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    光线追迹仿真 * _)xlpy  
    h%|Jkx!v-t  
    )#%k/4(Y  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 }uz*6Z(S  
    •单击Go！ KU|dw^Yk  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     xxpvVb)mF  
    xPl+ rsU  
    7j8nDX<  
    &!x!j ,nT  
    场追迹仿真 eZ'J,;  
    -]C3_ve  
    5|._K(M  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 -Jr6aai3+  
    •单击Go！     p(-f$Q(  
    Vv8e"S  
    6p|*H?|It  
    %9cu(yc*}  
    场追迹结果（摄像机探测器） K; ,2ag  
     uQIa"u7  
    (,z0V+ !  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 y9kydu#q  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Yx>y(Whu.  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ZJlmHlAX  
    p~1!O]qLt  
    C]59@z;+bN  
     B U |]4  
    场追迹结果（电磁场探测器） A2LqBirkl  
    8VxjC1v+  
    'mx_]b^O  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     n%yMf!M .:  
    nK=-SQ  
     _1 TSt%L  
     
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