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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    5065
    光币
    19641
    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 J7E/2Sl  
    zd;xbH//)b  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 i>w>UA*t  
    D@W m-  
    s&tr84u|  
    \LS%bO,Y|  
    建模任务 =+"XV8Fi,  
    uZ'5&k96T  
    YE-kdzff  
    概观 e%f8|3<6  
    _p~ `nQ=7  
    ,Qh4=+jwqn  
    光线追迹仿真 =|G PSRQ  
    4<O[d  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 %ZZ}TUI W  
    Ep'C FNbtW  
    •点击Go！ ) .]Z}g&  
    •获得3D光线追迹结果。 'i@Y #F%D  
    g1}RA@9  
     MQ,2v. vZ.  
    OrRve$U*|  
    光线追迹仿真 I/@Xr  
    ?c43cYb  
    p~e6ah?1  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 R.RCa$  
    •单击Go！ 55[K[K  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     P|6m%y  
    J5l:_hZUV  
    *qR tk  
    Y- w5S|!  
    场追迹仿真 9w AP%xh  
    Cvl"")ZZ`  
    bGSgph  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 XFX:) l#o  
    •单击Go！      M,6AD]  
    4e5Ka{# <  
    Oi{jzP  
    9> (8r+  
    场追迹结果（摄像机探测器） gmM79^CEF  
     @ojn< 7W  
    %iX +"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `9F'mT#o/  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 '7xY ,IY  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 8d>OtDLa  
    *=ALns?y  
    x2nNkd0h  
     OgzPX^q/=  
    场追迹结果（电磁场探测器） iKdC2m  
    v0HFW%YJ^J  
    sNNt0q(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     6ZF5f^M^  
    3_D$6/i  
     &-&6ARb7o  
     
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