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摘要 *X38{r j =)OC|?9 C\ 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 )P>u9=?,=E g+C!kaC)  TjBY
4 ~/tKMS6T 建模任务 i$KpDXP\ :;!\vfZbU  da$BUA qU 概观 Ab 1/.~^ @l UlY2  Q^Bt1C 光线追迹仿真 i
NWC6y v1.q$ f^( •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 www`=)A; lKEa)KF[
•点击Go！ s 2v(=
•获得3D光线追迹结果。 V8z`qEPM
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 XDD <oo $Y G1z 光线追迹仿真 8"vwU@cfC ^Dx#7bsDZR xkA2g[
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 i3
)xX@3
•单击Go！ - &[z\"T
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 }o9 Aa0$*$ tO.$+4a  <V_7|)'/A RwTzz]
M 场追迹仿真 } IlP: Z# Lx_*p]Q J%dJ w}
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 S9Yt 1qb
•单击Go！ px9>:t[P f3
]  Z]-WFU_
N b5e@oIK 场追迹结果（摄像机探测器） +EAS Aq
04 y!\ RFG$X-.e
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 -'C!"\%
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 e4qj . b
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 XSB8z
?G/ hJ?3
 E:VGji7s
+|C[-W7Sw 场追迹结果（电磁场探测器） Eqphd!\#6 S>ugRasZ $ MMD<I6Iyv
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 H|+tC=]4IZ h}=M^SL
 SQKt}kDbM
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