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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 #J (~_%Wi  
    1u3, '8F  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^9Qy/Er'  
    5GA C`}}  
    1#IlWEg  
    F8-?dpf'  
    建模任务 ?POUtRN  
    'R-3fO???  
    @+3kb.P%7  
    概观 KlRr8 G!Z  
    *g?Po+ef%  
    HK`I\,K  
    光线追迹仿真 Bn@(zHG+5&  
    }\J2?Et{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 svxw^ 0~a  
    YIw1  
    •点击Go！ x }Ad_#q  
    •获得3D光线追迹结果。 PB;eHy  
    1-lu\"H`  
      (x/k.&  
    VD_$$Gn*q  
    光线追迹仿真 }=c85f~i  
    rj(T~d4  
    ~e6Brq  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 (L^]Lk x)  
    •单击Go！ lpz2 m\  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     'Ut7{rZ5  
    0lhVqy}:}o  
    89r DyRJ;  
    /p8dZ+X  
    场追迹仿真 %CK^Si%+  
    |*}4 m'c  
    ` ,SiA-3*  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。  }Y;K~J  
    •单击Go！     /!c${W!sY  
    d_IAs  
    |JQQU! x  
    YW7b)u Yf  
    场追迹结果（摄像机探测器） "'D=,*  
     )c `7( nY  
    @`gk|W3  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 V4_=<W  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 dq]0X?[6  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 N;\'N ne  
    nDHTV !]<  
    uD^cxD  
     rx]  @A  
    场追迹结果（电磁场探测器） @)fd}tV  
    ZpnxecJUJ  
    r-Pkfy(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     r,h%[JKM  
    u:=7l  
     B]Thn  
     
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