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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 5e7YM@ng  
    bqbG+ g  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 n=!T (Hk  
    .{ v$;g  
    wlNL;W@w  
    t/[lA=0 )2  
    建模任务 5&8E{YXr  
    %DSr@IX  
    }T[ @G6#  
    概观 |jIHgm  
    &m3-][ !n  
    5az%yS  
    光线追迹仿真 q=t!COS  
    Gj?Zbl <  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 |5vcT, A  
    QYbB\Y  
    •点击Go！ (m3hD)!+y  
    •获得3D光线追迹结果。 F?6kkLS/  
    cH&)Iz`f  
     Lip#uuuXXN  
    Q# hRnM  
    光线追迹仿真 g !^N#o  
    /[TOy2/;%b  
    i\CA6I  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 2_pF#M9  
    •单击Go！  ]~;*9`:  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     lfAy$qP"}  
    ,g?ny<#o  
    l`\L@~ln  
    ~);4O8~.  
    场追迹仿真 yu6~:$%H  
    !`_f  
    VV Q~;{L  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 z#+WK| a  
    •单击Go！     i$y=tJehi  
    {jD?obs  
    |V5BL<4  
    -o+t&m  
    场追迹结果（摄像机探测器） s{dm,|?Jl,  
     %R$)bGT  
    l-w4E"n3  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 E6GubU  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 a>GA=r  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 nC3+Zka  
    "1s ]74  
    XtO..{qU  
     St?mq* ,  
    场追迹结果（电磁场探测器） #<Y.+ :  
    ,P <I<QYu  
    ?`TJ0("z"  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     1le9YL1_g  
     *wJ$U  
     ]MYbx)v)  
     
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