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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 e" Eqi-  
    4e@&QOo`Cu  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 wI! +L&Q  
    HX3D*2v":  
    drENkS=,  
    lMBX!9z  
    建模任务 &^&$!Xmu9  
    ]Y4q'KH  
    N&fW9s}  
    概观 ^E$(1><-a  
    ;h9-}F  
    #9D/jYK1X  
    光线追迹仿真 "[*S?QO(L  
    u3Usq=Ij{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 X<~k =qwA  
    WVS$O99Y  
    •点击Go！ s]y-pZ  
    •获得3D光线追迹结果。 7deAr$?Wx  
    7`IUMYl#~  
     C}mYt/  
    X-kXg)!Bg  
    光线追迹仿真 4D^ M<Xn  
    HKTeqH_:  
    'y4zBLY  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 j-J(C[[9  
    •单击Go！ qr)v'aC3  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     /a[V!<"R  
    nW|'l^&  
    q.=^i z&m  
    e9CP802#2  
    场追迹仿真 %cH8;5U40  
    @[MO,J&h  
    *.," N}  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 x37/cu  
    •单击Go！     7hB#x]oQo  
    #V.ZdLo(  
    |7 &|>  
    `"a? a5]k  
    场追迹结果（摄像机探测器） U^%9 )4bj  
     w4\BD&7V  
    CO-Iar  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 t< sp%zXZ  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 9wL!D3e {Q  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 QVIcb ;&:}  
    gjW\ XY  
    X<(6T  
     vO\:vp4fH  
    场追迹结果（电磁场探测器） a9[mZVMgUK  
    Ri|k<io  
    m_a^RB(  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     XZ.7c{B<  
    ;\N79)Gk  
     (O$}(Tn  
     
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