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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 n.R"n9v`  
    S_RP& +!7  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 V7O7"Q^q  
    Np+pJc1  
    "V`DhOG&  
    i->G {_gH  
    建模任务 _={mKKoHs  
    \=&Z_6Mu  
    rR#wbDr5  
    概观 [nrD4  
    OjqT5<U  
    Nw-U*y  
    光线追迹仿真 >&F:/   
    ^=PY6!iW  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 dxtG3  
    XV`8Vb  
    •点击Go! "}H2dn2n  
    •获得3D光线追迹结果。 >B*zzj  
    02T'B&&~  
    $+Z2q<UT  
    6E^9>  
    光线追迹仿真 V)ag ss w?  
    FP*kA_z$  
    J(= y$8xje  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .C ,dV7  
    •单击Go! 9- 24c  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    1rLxF{,  
    K]|hkp&  
    m@0> =s~.  
    lQm7`+  
    场追迹仿真 +>$Kmy[3  
    `9P`f4x  
    9jNh%raG|  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 imhE=6{  
    •单击Go!
    P7l3ZH( g  
    pr,1pqiAf  
    k72NXagh  
    }jdmeD:  
    场追迹结果(摄像机探测器) HMmVfGp]  
    zG^$-L.n  
    F}1._I`-  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 141xi;o  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Neii$  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ]k+(0qxG  
    k5+ Fxf  
    NGO?K?  
    .0;\cv4}  
    场追迹结果(电磁场探测器) wL6G&6]</W  
    aMJ2bu  
    Ae1b`%To  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
    :1@jl2,  
    nY\X!K65  
    :/t_5QN  
     
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