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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 ]18ygqt  
    u0Erz0*G4  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ,4Fqvg  
    $048y X 7M  
    Y+ Z9IiS7  
    ~0-764%  
    建模任务 ]k: m2$le  
    ]jb4Z  
    {g- DM}q  
    概观 cXY'>N  
    cQ.;dtT0  
    i f<<lq  
    光线追迹仿真 {?mQqoZ?.  
    Kyp0SZp[  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 7Hl_[n|  
    -p.*<y  
    •点击Go！ i5KwYoN  
    •获得3D光线追迹结果。 >NRz*h#  
    klJ[ {p  
     b'1d<sD  
    G\+nWvV7  
    光线追迹仿真 HD)HCDTX  
    +q j*P9  
    P"x-7>c>Y  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 @7s,| \  
    •单击Go！ @pG lWw9*  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     (Q5@MfK`  
    q83~j `ZJ$  
    U[QD!  
    OJsd[l3xR  
    场追迹仿真 PGPbpl&\t  
    8M|)ojH  
    ~'2r&?=\  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 Yb\\ w<@g  
    •单击Go！     v"r9|m~'  
    _ML~c&9jv  
    48 CI8[T  
    ZSRR lkU  
    场追迹结果（摄像机探测器） %L j0  
     ],F}}pv  
    -#wVtXaSc  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Yxd{&47  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 H_?B{We  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 @mx$sNDkL  
    D*cyFAF  
    '^U tbp2<  
     7<:Wq=e!r  
    场追迹结果（电磁场探测器） }@14E-N=  
    Y#lk!#\Y  
    adI!W-/R:  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     WY"Y)S  
    Fi'M"^:r {  
     9Yl8n dP^E  
     
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