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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 3!o4)yJWx  
    d ~_`M0+  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Ei3zBS?J)  
    EIbXmkHl<  
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    建模任务 o{kbc5_  
    asgF1?r  
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    概观 uw7{>9  
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    m&oi8 P-6  
    光线追迹仿真 F'?I-jtI  
    >71&]/Rv  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。  <n\`d  
    Hv<'dt$|  
    •点击Go！  5q<zN  
    •获得3D光线追迹结果。 v !Kw< fp|  
    PaCzr5!~f  
     m:O(+Fl  
    sK=}E=  
    光线追迹仿真 F{\gc|!i  
    k)FmDX  
    - ?!:{UXl  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 >Dg#9  
    •单击Go！ )W&>[B  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     0gF!!m  
    UU}7U]9u  
    +>g`m)?p  
    2o[IHO]  
    场追迹仿真 ftavbNR`W  
    Er:?M_ev  
    Q7o5R{.oJ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 rp :wQ H7  
    •单击Go！     ` e{BId  
    qJT0Y/l:(  
    j%*7feSNC  
    "n\%_'R\hH  
    场追迹结果（摄像机探测器） :Px\qh}K  
     jB^OP1  
    jUjr6b"  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 4DO/rtkVq  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .Nx W=79t  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 g42R 'E%  
    g "!\\:M  
    8<)$z?K   
     gw3NS8 A+  
    场追迹结果（电磁场探测器） qG >DTKIU  
    =O{~Q3z@s  
     8R69q:  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     EH+~].PJd  
    Dd2Lx&9  
     ke.7Zp2.R  
     
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