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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 hk4t #Km  
    zZCRej  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 \OVtvJV]  
    g) oOravV  
    5F~l;zT  
    ":Tm6Nj  
    建模任务 &}k7iaO  
    4G(7V:  
    F =e9o*z  
    概观 O[ird`/  
    #mu L-V  
    O+=%Mz(l  
    光线追迹仿真 zk8 )!Af  
    43AzNXWF8  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Y)X7*iTi'j  
    pVy=rS-  
    •点击Go！ nFEJO&1+  
    •获得3D光线追迹结果。 xeU|5-d'  
    ~#*C,4m  
     \s5Uvws  
    V+ ("kz*  
    光线追迹仿真 o2ggHZe/=@  
    c,2& -T}  
    nL:&G'd  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ZiJF.(JS  
    •单击Go！ Kt_oo[ey{  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     mgjJNzclL  
    `sYFQ+D#O  
    ^r\ rpSN  
    I1E9E$m5\<  
    场追迹仿真 uPz+*4+  
    }~I!'J#)  
    c}o 6Rm50  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 D9oNYF-V  
    •单击Go！     :jl*Y-mM  
    |q77  
    J;0;oXwJ<  
    ccuGM WG*  
    场追迹结果（摄像机探测器） ?J\&yJ_B  
     :x\[aG9  
    ]^~}/@  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 N*-tBz  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 .*zS2 z  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 JnBUW"  
    nHm}^.B*+  
    ,5n!a.T  
     lhN@ ,q  
    场追迹结果（电磁场探测器） ;?2)[a  
    6ZQ |L=Ytp  
    uDDa >Ka#+  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Y_'ERqQ  
    7=6:ZSI  
     9*)&hhBs,  
     
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