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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 [_EZhq  
    (5-FVp fb  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 uxr #QA  
    sYI-5D]  
    0Qf,@^zL*  
    3[Qxd{8r  
    建模任务 zBzZxK>$  
    cK(C&NK  
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    概观 +V{kb<P  
    3YR!Mq$|~  
    -lY6|79bF  
    光线追迹仿真 +~ P2C6@G  
    vdc\R?  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 V_.5b&@  
    rlOAo`hd  
    •点击Go！ +%h8r5o1  
    •获得3D光线追迹结果。 tEvut=k'  
    OrY/`+Cog  
     L>Fa^jq5  
    nAsh:6${  
    光线追迹仿真 nFHUy9q  
    :(P9mt  
    ,is3&9  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 W}@c|d $`  
    •单击Go！ qN9(S:_Px  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     (c=6yV@  
    ?BeiY zg  
    dO! kk"qn  
    s+$ Q}|?u  
    场追迹仿真 6]WAUK%h  
    %K=?@M9i  
    B" 1c  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 JcsHt;  
    •单击Go！     he;dq)-e9  
    6H.0vN&  
    m$>H u@Va  
    P~>O S5^  
    场追迹结果（摄像机探测器） nS }<-s  
     7rc0yB  
    q376m-+  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 pP&7rRhw  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 [ )Iv^ U9  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 /K@XzwM  
    K_|k3^xx"  
    K7_UP&`=J  
     7W Ly:E"  
    场追迹结果（电磁场探测器） [Kg+^N% +  
    NRs13M<ftf  
    g[' ^L +hd  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     5}l[>lF  
    24 'J  
     XPXIg  
     
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