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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 0ZT5bg_M  
    K#%&0D!  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 c&r70L,  
    mPOGidxix  
    >QjAoDVX?  
    w,.+IV$Kk  
    建模任务 sT !~J4  
    =!kk|_0%E  
    bV(Y`g  
    概观 2QD3&Q9  
    yWg@v +  
    $*SW8'],`  
    光线追迹仿真 6TQoqH8@U  
    [="e ziM{  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 gwOa$f%O  
    dU6ou'p f  
    •点击Go！ %=n!Em(  
    •获得3D光线追迹结果。 >z/#_z@LV  
    q+Lr"&'Q  
     X>d"]GD  
    =+/eLKG  
    光线追迹仿真 9*2[B"5  
    H;?{BV  
    {v=T [D  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 gcE|#1>  
    •单击Go！ {E p0TVj`  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     NgADKrDU  
    ~rlB'8j(  
    t0/p]=+.p/  
    W}--p fG  
    场追迹仿真 Ozw;(fDaU  
    ~o82uw?  
    jq-p;-i  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 8 BY j  
    •单击Go！     o]+z)5zC  
    ^$%S &W  
    {HL3<2=o  
    VCu{&Sh*  
    场追迹结果（摄像机探测器） :j5n7s?&=y  
     &+a9+y  
    qHsUP;7  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 , `wXg  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~Fe${2   
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 [DJflCR&  
    <A<{,:5C  
    0]>u )%  
     oeKHqP wg  
    场追迹结果（电磁场探测器） wHsYF`  
    {s)+R[?m<o  
    b_,|>U  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     !$DIc  
    {p)",)td  
     J c g,#@  
     
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