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摘要 n.R"n9v` S_RP&+!7 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 V7O7"Q^q Np+pJc1 "V`DhOG& i->G{_gH 建模任务 _={mKKoHs \=&Z_6Mu rR#wbDr5 概观 [nrD4 OjqT5<U Nw-U*y 光线追迹仿真 >&F:/ ^=PY6! iW •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 dxtG3 XV`8Vb •点击Go! "}H2dn2n •获得3D光线追迹结果。 >B*zzj 02T'B&&~
$+Z2q<UT 6E^9> 光线追迹仿真 V)ag ss w? FP*kA_z$ J(=y$8xje •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 .C ,dV7 •单击Go! 9-24c •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 1rLxF{, K]|hkp& m@0> =s~. lQm7`+ 场追迹仿真 +>$Kmy[3 `9P`f4x 9jNh%raG| •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 imhE=6{ •单击Go! P7l3ZH( g pr,1pqiAf k72NXagh }jdmeD: 场追迹结果(摄像机探测器) HMmVfGp] zG^$-L.n F}1._I`- •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 141xi;o •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 Nei i$ Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 ]k+(0qxG k5+ Fxf
NGO?K? .0;\cv4} 场追迹结果(电磁场探测器) wL6G&6]</W aMJ2bu Ae1b`%To •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 :1@jl2, nY\X!K65
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