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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 $q;dsW,8  
    Z:}d\~`x$%  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Rm!Iv&{  
    6<<ihm+  
    ]`Y;4XR  
    6muZE1sn  
    建模任务 Gv w:h9v  
    $u./%JS  
    sP5\R#  
    概观 _(s|@UT#  
    aE( j_`L78  
    J@c)SK%2h  
    光线追迹仿真 lf\]^yM #  
    ( XoL,lJ  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 @(:M?AO9S.  
    z@3t>k|K  
    •点击Go！ %g4G&My@J  
    •获得3D光线追迹结果。 o4CgtqRs  
    lclSzC9  
     )xuvY3BPB?  
    Pp[?E.]P  
    光线追迹仿真 ga~C?H,K  
    .W<yiB}^  
    @<O Bt d  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Ul@yXtj  
    •单击Go！ w QX,a;Br  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     _fu?,  
    ?HBNd&gZ1G  
    >>voLDDd  
    ^F `   
    场追迹仿真 V!F# ek:  
    tTB,eR$  
    V3NQij(  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 }Zue?!KQ  
    •单击Go！     )8:Ltn%  
    r_f?H@v  
    [Az<E3H"  
    i5sNCt  
    场追迹结果（摄像机探测器） [wJM=` !W  
     e:E:"elr]  
    FDA``H~  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 -# [=1 Y  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 5 #)5Z8`X  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 %o4ZD7@ '  
    w NlC2is  
    >i%{5d  
     T\VKNEBo  
    场追迹结果（电磁场探测器） ?H\K];  
    F(J6 XnQ  
    %- W3F5NK  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     r wtU@xsD  
    v&p|9C@  
     /*)zQ?N  
     
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