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摘要 J7E/2Sl zd;xbH//)b 高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。 i>w>UA*t D@Wm- s&tr84u| \LS%bO,Y| 建模任务 =+"XV8Fi, uZ'5&k96T YE-kdzff 概观 e%f8|3<6 _p~
`nQ=7 ,Qh4=+jwqn 光线追迹仿真 =|G PSRQ 4<O[d •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 %ZZ}TUI W Ep'C FNbtW •点击Go! )
.]Z}g& •获得3D光线追迹结果。 'i@Y #F%D g1}RA@9
MQ,2v.
vZ. OrRve$U*| 光线追迹仿真 I/@Xr ?c43cYb p~e6ah?1 •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 R.RCa$ •单击Go! 55[K[K •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。 P|6m%y J5l:_hZUV
*qR
tk Y- w5S|! 场追迹仿真 9wAP%xh Cvl"")ZZ` bGSgph •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 XFX:)l#o •单击Go!
M,6AD] 4e5Ka{# < Oi{jzP 9> (8r+ 场追迹结果(摄像机探测器) gmM79^CEF @ojn<7W %iX+" •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 `9F'mT#o/ •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 '7xY,IY Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 8d>OtDLa *=ALns?y
x2nNkd0h
OgzPX^q/= 场追迹结果(电磁场探测器) iKdC2m v0HFW%YJ^J sNNt0q( •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 6ZF5f^M^ 3_D$6/i
&-&6ARb7o
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