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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 GoRSLbCUR  
    uf}Q{@Ab  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Tp fC  
    h&6t.2<e  
    =]hPX  
    Tz2<# pLR  
    建模任务 X?Z#k~JR  
    [iT#Pu5  
    2:D1<z6RQ  
    概观 CsW*E,|xyP  
    3&vUR(10  
    x $=-lB  
    光线追迹仿真 cb9q0sdf  
    T0Zv.  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 :Y>M/ /0  
    f/K:~#k  
    •点击Go！ z\Y-8a.]  
    •获得3D光线追迹结果。 d&[.=M\E8  
    O)WduhlGQ  
     >XiTl;UU  
     C#x9RW  
    光线追迹仿真 ]U,f}T"e  
    y |E {]  
    Ah <6m5+  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 no lLeRE1  
    •单击Go！ Xv1mjHZCC  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     (>gAnebN L  
    84$#!=v  
    ,c\3b)ax  
    ^qD@qJ  
    场追迹仿真 )./'`Mx?  
    nkvkHh  
    X6lR?6u%|  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 FtL{ f=  
    •单击Go！     %T:7I[f  
    |6}:n,KA.  
    0/Wo":R:  
    /\&Wk;u3  
    场追迹结果（摄像机探测器） 1Ev#[FOc  
     T2V# fYCc  
    09 >lx$  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 -8r9DS -/W  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 EO[UezuU  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 p|b&hgA  
    MVpk/S%W  
    $5;RQNhXh  
     ;\5^yDv[e  
    场追迹结果（电磁场探测器） Ni4*V3VB  
    ,wvzY7%  
    LVj62&,-  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     NhDM h8=$^  
    l*Iy:j(B  
     ^?3e?Q?  
     
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