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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 xp'_%n~K@  
    qL6c`(0  
    高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。  ~fl@ 2  
    A,-6|&F  
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    MfO:m[s  
    建模任务 ,)+ o  
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    概观 ,H}_%}10  
    [L`ZE*z  
    q>f<u&  
    光线追迹仿真 `0H g y=  
    'C$XS>S  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。 3uU]kD^  
    wS+V]`b  
    •点击Go! I +5)Jau^S  
    •获得3D光线追迹结果。 uY_SU-v  
    H>Q%"|  
    %+ 7p lM  
    -m'j]1  
    光线追迹仿真 G CRz<)1  
    Vt^3iX{!  
    Sw^X2$h  
    •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。 !f>d_RG  
    •单击Go! a8u 9aEB  
    •结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
    :.(;<b<\  
    '[$)bPMHl  
    GWsE;  
    M)*\a/6?{  
    场追迹仿真 ^Jb H?  
    Yw5'6NU  
    4p;aS$Q  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。 j.a`N2]WE  
    •单击Go!
    kK 8itO  
    9[!,c`pw  
    }(a+aHH  
    z"D.Bm~ ]  
    场追迹结果(摄像机探测器) r|4t aV&  
    4tg<iH{  
    jVLA CWH  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 AV 8n(  
    •下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。 tg^sCxz9]  
    Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。 _X ~87  
    6nhMP$h  
    \tx bhWN  
    ys_`e  
    场追迹结果(电磁场探测器) C]^H&  
    dd2[yKC`  
    _%'},Xd.z  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。
     u66XN^  
    +q6ydb,  
    TJE\A)|>g  
     
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