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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 A<(DYd1H  
    ' d?6 L  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 +!$`0v   
    ~mMTfC~9  
    o-;/ x)  
    64>CfU(  
    建模任务 Sn' +~6i  
    ~-R2mAUK  
    !aL=R)G&e  
    概观 <vD(,||  
    p(Osz7K  
    |f.,fVVV;  
    光线追迹仿真 h@y>QhYU0  
    ooC9a>X  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 TNK1E  
    M* {5> !\  
    •点击Go！ cL~YQJYp  
    •获得3D光线追迹结果。 BL"7_phM,  
    @YG-LEh  
     J(w FJg\/  
    Htln <N  
    光线追迹仿真 >Q?8tGfB  
    =);@<Jp  
    ,xAF=t  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 GQQp(%T  
    •单击Go！ kQQDaZ 8  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     18Ju]U  
    "^;h'  
    ^Xu4N"@  
    LhM$!o?W  
    场追迹仿真 Nd{U|k3pL  
     X>P|-n#  
    gU NWM^n  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 0r8Wv,7Bo  
    •单击Go！     NK(_ &.F  
    )S/=5Uc  
    -|>T? t'K  
    1xkrh qq  
    场追迹结果（摄像机探测器） )feZ&G]  
     l=(( >^i  
    Jyr V2Tk^  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 a ~W  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 $$"G1<EZ  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 &g1\0t  
    e?*Teb ?R  
    HXztEEK6  
     x{tlC}t  
    场追迹结果（电磁场探测器） RVLVY:h|F  
    a7453s  
    -5ZmIlL.S  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     $CX3P)% `  
    QG2 Zh9R  
     X J)Y-7c  
     
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