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摘要 >Kqj{/SWK 9 ;! uV>-H 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 e3bAT .P JN9H T0  l7FZ;%& *HfW(C $ 建模任务 G/^5P5y%@ ! 7#froh  et7 T)(k0 概观 t2U]CI% &vGEz*F  KH CdO 光线追迹仿真 ^Ypb"Wx8 Rg!aKdDl$ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 V%Z[,C
u+ FkkZyCqZ`
•点击Go！ Yqj.z| }Nb
•获得3D光线追迹结果。 4 Q>jP 3
+P<w<GfQ
 )r-| T&Sn 5<>R dLo 光线追迹仿真 88X*:Kf?: ;#Bh_f 0V>N#P]
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ^5iY/t~Q
•单击Go！ Ag hj) V
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 \q)1 TTnHS WG!;,~f>o  8aIq#v NU 6Kh7 场追迹仿真 j,V$vK P t+Q|l&|0 x%Y a*T
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 MsVI <+JZ
•单击Go！ )}g4Rvr %W|Zj QI^  U Edl"FwM4 HZ`G)1&) 场追迹结果（摄像机探测器） @R Y b-d
y{}, {~FA"
?tM]. \
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 SwmPP- n
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 X ;[zfEB
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 #p:jKAc3
7ump:|
 "u> sS
bT6)(lm 场追迹结果（电磁场探测器） ;ZW}47:BS6 'V1 -iJj9 7XI4=O};&%
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 .}u(& 9/qS*Zdh)
 W1,L>Az^Ts
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