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摘要 H
.sf M J =#9eW 高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 JNA_*3 ' 52*KRq
o  =m xj2>,& r+MqjdXG 建模任务 (j}edRUnB d^|r#" o[  DH4|lb} 概观 m&Y?]nbq d5=yAn-+=  Z1DF ) 光线追迹仿真 &KeD{M% >LFj@YW_) •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 MIc(B_q ^Ov+n1,)
•点击Go！ C yJZ ip
•获得3D光线追迹结果。 ~A>-tn}O
2- wgbC5
 \@j3/!=,n% 9sB LC Z 光线追迹仿真 U9// m=_ ,j[1!*Z_[ .wuRT>4G)G
•然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 71HrpTl1fw
•单击Go！ 9Cw !<
•结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。 p,2H8I){ [i]%PVGW  ze#ncnMo &_Gu'A({J 场追迹仿真 I8:G:s: zXeBUbVi |Fzt |
\
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 R!_1 *H$
•单击Go！ {
*Wc`ZBY zm^ 5WH  _jk+$`[9PL l8N5}!N 场追迹结果（摄像机探测器） ^|%7} =e
j(Tk6S
W o$ UV
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 q%Lw#f
•下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 "I 45=nf
Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 >
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 )$E'2|Gm/
?B: ],aztf 场追迹结果（电磁场探测器） )0 i$Bo ;UWp0d %
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•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。 O:[@?l R&1 xZFj
 1?#Wg>7'
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