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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 08-20
    摘要 F~Kd5-I@  
    Sr7+DCr  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 0 O{Y Vk`  
    wp/u*g  
    C:tA|<b|  
     KR  
    建模任务 FV[6">;g  
    ++KY+j.^  
    =hV-E D  
    概观 f;/t7=>d  
    Z&mV1dxR  
    Pn{yk`6E  
    光线追迹仿真 lYd#pNN  
    #unE>#DW  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 tVx.J'"Y  
    `1%SXP1  
    •点击Go！ {Y5h*BD>  
    •获得3D光线追迹结果。 !$q1m@K1  
    vcB +h;x  
     'e6 W$?z  
    `Tzq vnn  
    光线追迹仿真 "?j|;p@!>  
    c%.f|/.k  
    +n(H"I7cU  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 $XS0:C0  
    •单击Go！ mRCgKW<  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     PN:8H>  
    ?o0#h  
    TJtW?c7  
    m[^;HwJ  
    场追迹仿真 i_GE9A=h  
    BfOG e!Si  
    KmV>tn BQ  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 \Rn.ug  
    •单击Go！     PF.sM(  
    XA])<dZ  
    ^ v3+w"2  
    ]P0DPea  
    场追迹结果（摄像机探测器） S&-sl   
     /x_C  
    .<Z7 K @  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ?xf59mY7  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 | -Di/.  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 \3q{E",\>@  
    #f|-l$a)3a  
    mxHNK4/  
     v>3ctP {  
    场追迹结果（电磁场探测器） I#l9  
    {s8''+Q#(-  
    qn@Qd9Sf  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     +2oZB]GPL  
    ,WOF)   
     )I+1 b !U  
     
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