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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 cHX~-:KOr  
    jO}<W1qy  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 PE<(eIr  
    WP >VQZ&  
    xP $\ }  
    5 #Et.P'  
    建模任务 {!xDJnF;  
    _:+ k|I  
    7uq^TO>9f  
    概观 2q ~y\fe  
    k;Ask#rs  
    M?QX'fia  
    光线追迹仿真 G3j'A{  
    Le*gdoW.  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 hE;BT>_dn  
    w3jcit|  
    •点击Go！ b=XHE1^rM  
    •获得3D光线追迹结果。 ]}L tf,9  
    WB3YN+Xl3  
      _:HQ4s@  
    ?wREX[Tqs  
    光线追迹仿真 aRcVoOq  
    l!j,9wz7  
    qqSFy>`P  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Un Ocw  
    •单击Go！  0X}0,  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     dWiX_&g  
    R})b%y`]  
    U3BhoD#f\  
    IC+!XZqS  
    场追迹仿真 fT.MglJcb  
    !7Nz_d~n  
    a([8r- zP  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 B!((N{4H+  
    •单击Go！     Kon|TeC>d  
    g9gi7.'0  
    %PC8}++  
    h_15"rd  
    场追迹结果（摄像机探测器） Sh\Jm*5  
     h6Cqc}P  
    :H>0/^Mg0  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Y{9xF8#  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 >1hhz  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ,1>n8f77]  
    .p(%gmOp#  
    /i(R~7;?  
     Suy +XHV  
    场追迹结果（电磁场探测器） Z6 E_Y?  
    $ EexNz  
    F$jfPy-f  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Fb6d1I^wR  
    .+&M,% x  
     3,1HD_  
     
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