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    [技术]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-08-20
    摘要 /:KQAM0  
    H@4/#V|Uy  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 2md.S$V$,  
    gZ*hkKN6  
    >+SZd7p  
    $N dH*  
    建模任务 BtID;^D z  
    hm6pxFkX_  
    EZ `}*Yrd  
    概观 DiR'p`b~  
    r*]uR /Z$  
    )\"I*Jwir  
    光线追迹仿真 8UYJye8  
    d "B5==0I  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +NT:<(;|i5  
    "5h_8k~sQ  
    •点击Go！  +xq=<jy  
    •获得3D光线追迹结果。 U&s(1~e\  
    El+Ft.7  
     8lpzSJP4k  
    l<Lz{)OR  
    光线追迹仿真 3r`<(%\  
    .X^43 q  
    {<r`5  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 Uqr{,-]5v  
    •单击Go！ MorW\7-}  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     BPqwDj W  
    `[&v  
    juXC?2c  
    ze ?CoDx2  
    场追迹仿真 }.OxJ=M  
    -C=]n<ak  
    ZRUh/<\[  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 D*qzNT@`LR  
    •单击Go！     K# /Ch5?  
    c9|I4=_K  
    jKYm/}d  
    M{G$Pk8[  
    场追迹结果（摄像机探测器） dbg|V oNf  
     rrYp'L  
    O4n8MM|`  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 bIq-1 Y(  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ;*_I,|A:Xr  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 "AV1..mu  
    L+uOBW_  
    WVinP(#nfM  
     9W$m D w6f  
    场追迹结果（电磁场探测器） >d'EInSF  
    2}597Hb   
    'H|;%J6d>  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     3b,=  
    O.dux5lfBd  
     P&h/IBA_  
     
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