一.概述
  k!jNOqbb  随着光刻分辨率的不断提高,
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中,全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存:在目前的高分辨率光刻机中,全折射式结构型式是主流。
 J}spiVM    ~+D*:7Y_  与全折射式结构型式相比,折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能,但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中,投影物镜的结构型式大致分为两类:全折射型和折反射型。
  h>S[^
-,    	
&'|B =7  全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜,而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
 *#>F.#9    HCA{pR`  二.SYNOPSYS自由曲面设计功能
  !Gs}	tiMH  受限于EUV(极紫外光)使用的波长为13.5nm,由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过,因此为了使用更短的波长,此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
 1.@vS&Y7OE    <>SdVif]  SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
 V|Tud    +%J\y^09kr  只需要输入每个反射镜的初始位置、形状,以及系统的物方
参数和像方要求,此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
 Ob +9W    /k\01hc`  宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
 LDT(]HJ    (Ha@s^?.C    /z."l!u6  三.反射式光刻物镜优化结果
  .;/L2Jv  得到优化的宏文件可以评论区留言领取
 /
YiQ\    iMP  调整优化宏,进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
 ,1n
>U?5    ~d>%,?zz    -*VKlZ8-   对应镜头文件可以评论区留言领取
 BWPP5X9    Hy;Hs#    ?v]-^X=&    jdRq6U^  软件自动优化功能,会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。(对比图可以看到,优化后的结果和未优化的效果图)如上图镜头文件的pad二维窗口显示,光线在各个反射镜之间传递,无任何光线轨迹被遮挡的情况。
 ,#u\l>&$    O>r-]0DI[  畸变在1.6%
 %(m])    JXQPT    +}7fg82)  MTF曲线,在1200线对/毫米内满足大于0.3
 #m. AN    dT@UK^\    >O{7/)gS^  RMS光斑尺寸,全视场小于0.0011
 ^%bBW6eZ    85U.wpG    |g)FA_#|<  波前图
 sLh0&R7	    =iz,S:[     B:oF;~d/,  点列图
 N{akg90    MOz}Q1`a    wvc>0?t'   	-/{af   )na&"bJ  以上就是本次设计的全部流程和结果,如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件,感谢阅读。