一．概述
j7-#">YL 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
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T' 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
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-?'u 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
72-@!Z0e &P ;6P4x 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
C- 6+ZIk4 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
.
~|^du<X k5xirB_ SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
g1J]z<& QW2% Gv : 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
^U_jeAuk8[ # |UrHK; 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
r9vC&pWZ ~`N |sI, G>_ZUHd I 三．反射式光刻物镜优化结果
SyYa_=En 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
U |4% ydG kD; BwU[ 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
\O/=g6w|t} \aW5V: ? Bv= Z*"Fv 对应镜头文件可以评论区留言领取
AARhGx |L< E>V8|Hz; ;%82Z4 YT:5J %" 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
lMO0d_:b1 /r?X33D! 畸变在1.6%
*@Qt*f MoF Z lp]O8^][& MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
)US) -\^ Ql V:8:H$ j/Kw-h ,5" RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
%B o Jt-v XnG!T$ p' gv5\u[w 波前图
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