一．概述
}`~+]9 < 随着光刻分辨率的不断提高，
光学光刻机中采用的投影物镜结构型式经历了演变和筛选过程。在早期的低分辨率光刻机中，全反射型、全折射型、折反射型多种结构型式并存：在目前的高分辨率光刻机中，全折射式结构型式是主流。
ea')$gR %bf Q$a: 与全折射式结构型式相比，折反射式结构的投影物镜具有许多优越的光学性能，但其在光刻机中的真正使用尚需克服许多技术问题。在现代高分辨率光学光刻机中，投影物镜的结构型式大致分为两类：全折射型和折反射型。
K(Bf2Mfq z' >_Mc6 全折射型投影物镜是指只含有
透镜的投影物镜，而折反射型投影物镜则是同时含有透镜和反射镜的投影物镜。
@s2y~0}# <e</m)j 二．SYNOPSYS自由曲面设计功能
Y0 -n\| 受限于EUV（极紫外光）使用的波长为13.5nm，由于该波段的光几乎没有光学材料可以透过，因此为了使用更短的波长，此类光刻物镜只能采用完全反射式进行设计。
Ciz X <Cr} b1?'gn ~ SYNOPSYS的自由曲面设计功能可以非常方便快捷地设计自由曲面反射式
光学系统。
?.;c $' )P |),S,;Z 只需要输入每个反射镜的初始位置、形状，以及系统的物方
参数和像方要求，此功能会自动生成对应的
优化文件和初始结构。
u4 h4.NH X Q$Q([Au 宏文件和
镜头文件可以评论区留言领取
Y/zj[> j8lb~0JD ,nDaqQ-C!! 三．反射式光刻物镜优化结果
:Fvrs(
x 得到优化的宏文件可以评论区留言领取
SI-Ops~e >I&5j/&}+ 调整优化宏，进一步优化反射镜的形状以达到更好的
成像质量。额外的质量要求都可以在优化文件内按需要增加或调整。
I9hK } D %d<"l~<5; V33T+P~j 对应镜头文件可以评论区留言领取
j# q-^h3H 0Z{ZO*rK q5)O%l ! G*P#]eO 软件自动优化功能，会自动将反射镜的位置优化匹配到不会影响
光线轨迹的情况。（对比图可以看到，优化后的结果和未优化的效果图）如上图镜头文件的pad二维窗口显示，光线在各个反射镜之间传递，无任何光线轨迹被遮挡的情况。
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sG [E juUElr 畸变在1.6%
,1o FPa{? W v+?TEP
wcY? rE9 MTF曲线，在1200线对/毫米内满足大于0.3
}?Ai87-{ wEvVL ( 0_2sfS RMS光斑尺寸，全视场小于0.0011
UrEs4R1# k_n ql8H @QP z #- 波前图
*wB 1 ,U{ .5ha}= z q'Tf,a 点列图
q 9r[$%G VQ9/Gxdeo &Ys<@M7E: CN8Y\<Ar Vb]=B~ ^` 以上就是本次设计的全部流程和结果，如有需要可评论区留言获取对应宏文件以及试用版SYNOPSYS软件，感谢阅读。
