切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 光学设计仿真实验指导 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 京东年货节，领红包！更优惠！
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 915阅读
    • 2回复

    [求助]镀膜后环测双85实验，外观有水渍点无法去除，什么原因？ [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线chenliang1990
    实习生
     
    发帖
    56
    光币
    30
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-06-24
    镀膜设备，光驰OTFC，工艺条件：Ta2O5+SIO2,   温度：320℃，射频源 L;I]OC^J  
    ~/P[J  
    | %Vh`HT  
    本主题包含附件，请 登录 后查看, 或者 注册 成为会员
     
    回复
    举报
    分享到
    离线ouyuu
    论坛版主
    发帖
    574
    光币
    3376
    光券
    1
    只看该作者 1楼 发表于: 2024-07-15
    两个可能。1，离子源的中和电流不够，导致膜内有电荷积聚，调大中和电流试试。 Jze:[MYS  
    2，片子洗净的问题，镀前用离子源多轰一下，看看有没有改善。 )P|),S,;Z  
    oM`0y@QCf  
    另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚，但这个不会每炉都会实现。 0KOgw*>_  
    回复
    举报
    离线renlgj
    技术员
    发帖
    218
    光币
    95
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 2024-07-18
    学习中，谢谢楼上各位
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表