切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 413阅读
    • 2回复

    [求助]镀膜后环测双85实验，外观有水渍点无法去除，什么原因？ [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线chenliang1990
    实习生
     
    发帖
    56
    光币
    30
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 06-24
    镀膜设备，光驰OTFC，工艺条件：Ta2O5+SIO2,   温度：320℃，射频源 & zR\Rmpt  
    "_^vQ1M]Z  
    whi#\>i  
     
    回复
    举报
    分享到
    离线ouyuu
    论坛版主
    发帖
    557
    光币
    3329
    光券
    1
    只看该作者 1楼 发表于: 07-15
    两个可能。1，离子源的中和电流不够，导致膜内有电荷积聚，调大中和电流试试。 DFkDlx  
    2，片子洗净的问题，镀前用离子源多轰一下，看看有没有改善。 %*zV&H   
    z+Guu8  
    另外中和器偶尔的打火也有可能造成电荷积聚，但这个不会每炉都会实现。 F;bkV}^  
    回复
    举报
    离线renlgj
    技术员
    发帖
    199
    光币
    68
    光券
    0
    只看该作者 2楼 发表于: 07-18
    学习中，谢谢楼上各位
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表